專利名稱:厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及泡沫膜物理化學(xué)性質(zhì)測定裝置,尤其是涉及一種例如測定泡沫膜(也稱自由液膜,以下簡稱為液膜)的動態(tài)力學(xué)性質(zhì),測定泡沫膜的分離壓等的厚度可調(diào)的液
膜產(chǎn)生裝置。
背景技術(shù):
泡沫體系在工農(nóng)業(yè)生產(chǎn)及日常生活中有著廣泛的應(yīng)用。隨著石油工業(yè)的發(fā)展,人們越來越多地將泡沫用于鉆井、壓裂、酸化、三次采油等勘探、開發(fā)和采油領(lǐng)域。泡沫體系最重要的特性是泡沫的穩(wěn)定性。以往的研究表明,溶液表面粘彈性對泡沫穩(wěn)定性有著重要影響,但需要強調(diào)的是這種表面粘彈性是在相當(dāng)深厚的溶液表面上測定的。“一種研究泡沫液膜性質(zhì)的新方法”(《石油勘探與開發(fā)》,1995年,第三期,第96 99頁)一文指出,與泡沫穩(wěn)定性關(guān)系更直接、更密切的應(yīng)該是自由液膜(free liquid film,F(xiàn)LF,或稱泡沫膜,有時簡稱液膜)的力學(xué)性質(zhì),同時公開了一種自由液膜動態(tài)拉伸粘彈性的測定裝置。通過兩個銳邊圓環(huán),上環(huán)懸掛于電子分析天平的掛鉤上,測定過程中其空間位置靜止不動。下環(huán)置于液盤上,液盤與下環(huán)外側(cè)之間充滿被測溶液。液盤在程控馬達(dá)的驅(qū)動下可做勻速垂直升降及振幅為0-5mm范圍內(nèi)的正弦振動。液盤上升,使上、下環(huán)接觸,然后使液盤下降,上、下環(huán)之間就形成了近似圓柱形液膜。排出液盤中的液體,且在下環(huán)的側(cè)面作憎水處理,液膜與下部的其它部位的聯(lián)系被切斷,然后啟動馬達(dá)使液盤帶動下環(huán)做正弦振動,液膜產(chǎn)生正弦拉伸應(yīng)變,其振幅,頻率及相位由位移傳感器輸入到雙筆記錄儀,另一筆記錄上環(huán)電子分析天平傳來的自由液膜的交變應(yīng)力,從而得到應(yīng)變和應(yīng)力的振幅及相位差。理論推算和實驗結(jié)果都表明,泡沫膜的力學(xué)性質(zhì)(如拉伸粘彈性,分離壓等)與泡沫膜的厚度有密切關(guān)系。但上述文獻(xiàn)中提到的自由液膜,其薄厚完全依賴自然的重力排液。 雖然可以根據(jù)液膜電導(dǎo)數(shù)據(jù)粗略判斷液膜的大致厚度,再通過切斷排液出路的方法可以使液膜的厚度控制在一定范圍內(nèi),但很難獲得可以進(jìn)行重復(fù)試驗的厚度比較一致的液膜。更為重要的是,在比較不同起泡液性能的實驗中,使用厚度不一致的液膜沒有實質(zhì)意義。另外,上述方法中液膜減薄的過程是不可逆的,而且,當(dāng)液膜很薄時,重力排液速度非常慢,要獲得所需厚度的薄液膜需要耗費很長時間。
發(fā)明內(nèi)容
針對上述方法中的缺陷,本發(fā)明提供一種厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,可以根據(jù)需要產(chǎn)生一定膜厚的液膜,且液膜的厚度可以自由調(diào)控。本發(fā)明的技術(shù)解決方案是一種厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,其中,該裝置包括上環(huán)組件,為一個倒扣且底部鏤空的金屬淺盤,該淺盤的盤口設(shè)有上環(huán)形刀口 ;下環(huán)組件,包括金屬導(dǎo)電環(huán),該導(dǎo)電環(huán)內(nèi)側(cè)設(shè)有與所述上環(huán)形刀口相向的下環(huán)形刀口,所述上環(huán)形刀口及下環(huán)形刀口大小相同且同軸水平;所述金屬導(dǎo)電環(huán)的下環(huán)形刀口的外周側(cè)開設(shè)有環(huán)槽,所述下環(huán)組件還包括導(dǎo)液層,為設(shè)于所述環(huán)槽上部的多孔材料層,該導(dǎo)液層的上表面低于所述下環(huán)形刀口設(shè)置,所述導(dǎo)液層底面與該環(huán)槽圍合形成一封閉的供液空槽,環(huán)形蓋板,由憎水處理的金屬或聚四氟乙烯制成,其能夠拆卸地固定于所述金屬導(dǎo)電環(huán)的外環(huán)上,且部分遮蓋于所述導(dǎo)液層上方,該環(huán)形蓋板的內(nèi)周緣與該下環(huán)形刀口之間形成有朝向該液膜產(chǎn)生裝置中心的溢流槽;軟管接頭,設(shè)置于所述金屬導(dǎo)電環(huán)上,該軟管接頭與所述供液空槽連通,且外接供液-壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)。所述上環(huán)組件能夠相對所述下環(huán)組件上下移動。如上所述,本發(fā)明的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置確實具有如下優(yōu)點本發(fā)明厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,可以根據(jù)需要產(chǎn)生一定厚度的液膜,且液膜的厚度可以自由調(diào)控。用于測定泡沫膜的物理化學(xué)性質(zhì),例如液膜張力,動態(tài)拉伸粘彈性或分離壓等泡沫膜的力學(xué)、光學(xué)和電學(xué)性質(zhì)。另外,使用本發(fā)明的裝置,可以獲得比自然重力排液更厚或更薄的液膜,且排液過程可逆,膜厚控制較為精確,便于進(jìn)行重復(fù)試驗和對比試驗。
圖1本發(fā)明厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2本發(fā)明的下環(huán)組件的俯視示意圖;圖3本發(fā)明的下環(huán)組件的左視圖。主要元件標(biāo)號說明A上環(huán)組件 B下環(huán)組件 1金屬導(dǎo)電環(huán)2導(dǎo)液層3環(huán)形蓋板 4軟管接頭5下環(huán)形刀口6溢流槽 7供液空槽8供液-壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng) 9液膜10上環(huán)形刀口
具體實施例方式本發(fā)明的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,其中,該裝置包括上環(huán)組件及下環(huán)組件;上環(huán)組件為一個倒扣且底部鏤空的金屬淺盤,該淺盤的盤口設(shè)有上環(huán)形刀口 ;下環(huán)組件為金屬導(dǎo)電環(huán),該導(dǎo)電環(huán)內(nèi)側(cè)設(shè)有與所述上環(huán)形刀口相向的下環(huán)形刀口,所述上環(huán)形刀口及下環(huán)形刀口大小相同且同軸水平;所述金屬導(dǎo)電環(huán)的下環(huán)形刀口的外周側(cè)開設(shè)有環(huán)槽,所述下環(huán)組件還包括導(dǎo)液層、環(huán)形蓋板及軟管接頭;導(dǎo)液層為設(shè)于所述環(huán)槽上部的多孔材料層,該導(dǎo)液層的上表面低于所述下環(huán)形刀口設(shè)置,所述導(dǎo)液層底面與該環(huán)槽圍合形成一封閉的供液空槽;環(huán)形蓋板由憎水處理的金屬或聚四氟乙烯制成,其能夠拆卸地固定于所述金屬導(dǎo)電環(huán)的外環(huán)上,且部分遮蓋于所述導(dǎo)液層上方,該環(huán)形蓋板的內(nèi)周緣與該下環(huán)形刀口之間形成有朝向該液膜產(chǎn)生裝置中心的溢流槽;軟管接頭設(shè)置于所述金屬導(dǎo)電環(huán)上,該軟管接頭與所述供液空槽連通,且外接供液-壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)。所述上環(huán)組件能夠相對所述下環(huán)組件上下移動。為了對本發(fā)明的技術(shù)特征、目的和效果有更加清楚的理解,現(xiàn)對照
本發(fā)明的具體實施方式
。如圖1至圖3所示,為本發(fā)明的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置的較佳實施例的結(jié)構(gòu)示意圖、下環(huán)組件俯視結(jié)構(gòu)示意圖及下環(huán)組件的側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖,為了能夠制造出厚度可調(diào)的液膜9,本發(fā)明的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置包括上環(huán)組件A及下環(huán)組件B;其中,上環(huán)組件 A為一個倒扣且底部鏤空的金屬淺盤,該淺盤的盤口設(shè)有上環(huán)形刀口 10 ; S卩,該上環(huán)形刀口 10是朝下設(shè)置的。下環(huán)組件B包括金屬導(dǎo)電環(huán)1,該導(dǎo)電環(huán)內(nèi)側(cè)設(shè)有與所述上環(huán)形刀口 10 相向的下環(huán)形刀口 5,該下環(huán)形刀口 5是朝上設(shè)置的;所述上環(huán)形刀口 10及下環(huán)形刀口 5大小相同且同軸水平,上環(huán)形刀口 10與下環(huán)形刀口 5于豎直方向相對設(shè)置;所述金屬導(dǎo)電環(huán) 1的下環(huán)形刀口 5的外周側(cè)開設(shè)有環(huán)槽,所述下環(huán)組件B還包括導(dǎo)液層2、環(huán)形蓋板3及軟管接頭4 ;導(dǎo)液層2為設(shè)于所述環(huán)槽上部的多孔材料層,該導(dǎo)液層2的上表面低于所述下環(huán)形刀口 5設(shè)置,所述導(dǎo)液層2底面與該環(huán)槽圍合形成一封閉的供液空槽7 ;環(huán)形蓋板3由憎水處理的金屬或聚四氟乙烯制成,其能夠拆卸地固定于所述金屬導(dǎo)電環(huán)1的外環(huán)上,且部分遮蓋于所述導(dǎo)液層2上方;該金屬導(dǎo)電環(huán)1內(nèi)設(shè)有的環(huán)槽將該金屬導(dǎo)電環(huán)1頂部分隔為內(nèi)環(huán)及外環(huán),而環(huán)形蓋板3的內(nèi)徑比內(nèi)環(huán)的外徑大,同時小于外環(huán)的內(nèi)徑,從而當(dāng)環(huán)形蓋板 3固定在該金屬導(dǎo)電環(huán)1的外環(huán)上時,環(huán)形蓋板3高于所述下環(huán)形刀口 5設(shè)置,該環(huán)形蓋板 3的內(nèi)周緣與該下環(huán)形刀口 5之間形成有朝向該液膜產(chǎn)生裝置中心的溢流槽6,即所述環(huán)形蓋板3內(nèi)周緣、導(dǎo)液層2上表面及下環(huán)形刀口 5形成由小環(huán)形刀口向金屬導(dǎo)電環(huán)1內(nèi)部方向流動的溢流槽6。所述軟管接頭4設(shè)置于所述金屬導(dǎo)電環(huán)1上,該軟管接頭4與所述供液空槽7連通,且外接供液-壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)8,供液-壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)8提供的液體經(jīng)由該軟管接頭4注入到供液空槽7中,并且液體注入的量是由供液-壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)8控制的;液體能夠經(jīng)由供液空槽7通過由多孔材料制成的導(dǎo)液層2到達(dá)導(dǎo)液層2上方的溢流槽6中,再經(jīng)過下環(huán)形刀口 5溢流至金屬導(dǎo)電環(huán)1的中心孔。借此,下環(huán)形刀口 5能夠得到液體的覆蓋。 所述上環(huán)組件A與所述下環(huán)組件B相向正對設(shè)置,上環(huán)組件A能夠相對下環(huán)組件B上下移動,從而改變上環(huán)形刀口 10與下環(huán)形刀口 5之間的距離。較佳的,本發(fā)明的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,其中,所述導(dǎo)液層2的上表面低于所述下環(huán)形刀口 1 2mm。借此,導(dǎo)液層2上表面外露的部分能夠形成一溢流槽6,當(dāng)液體穿過導(dǎo)液層2到達(dá)導(dǎo)液層2上表面時,能夠在導(dǎo)液層2上表面積聚一定深度,再由下環(huán)形刀口 5溢流出去,提高液膜9供液的均勻性和連續(xù)性。如圖所示,本發(fā)明的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,其較佳的實施例中,所述導(dǎo)液層2 的上表面與所述環(huán)槽的外側(cè)頂面相平;而當(dāng)環(huán)形蓋板3固定至金屬導(dǎo)電環(huán)1上時,增水處理的環(huán)形蓋板3底面能夠與導(dǎo)液層2的上表面貼緊,使其形成相對密封的結(jié)構(gòu),借此,向上通過導(dǎo)液層2的液體便只能傾向于下環(huán)形刀口 5 —側(cè)流動,而不會積聚在導(dǎo)液層2與環(huán)形蓋板3之間。本發(fā)明的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,較佳的,所述環(huán)形蓋板3經(jīng)由螺釘連接固定至所述金屬導(dǎo)電環(huán)1的外環(huán)上。在制作過程中可用一平板將導(dǎo)液層2整體封住,使得多孔材料能將整個環(huán)槽開口蓋住,在導(dǎo)液層2制作完成后,再拆下平板,用螺釘將環(huán)形蓋板3固定在金屬導(dǎo)電環(huán)1上。當(dāng)然,環(huán)形蓋板3也可以用其他可拆卸的固定方式固定至金屬導(dǎo)電環(huán)1上,并不以此為限。本發(fā)明的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,其溢流槽6的大小尺寸關(guān)系到溢流槽6中液體的量的大小,從而影響到液膜9形成連續(xù)性和穩(wěn)定性等問題,較佳的,本發(fā)明的溢流槽6 寬度為0. 1 2mm,有利于液體的傳導(dǎo),其形成的液膜9效果較佳。更進(jìn)一步的,本發(fā)明的優(yōu)選的溢流槽6寬度為0. 1 0. 5mm。本發(fā)明的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,上環(huán)形刀口 10及下環(huán)形刀口 5直徑的大小直接影響到液膜9的直徑大小。理論上,在液膜9高度不變的情況下,直徑越大,液膜9形狀越接近圓柱面,這樣的曲面方便進(jìn)行動態(tài)力學(xué)參數(shù)的計算以及膜厚的測定??紤]到空間限制,較佳的,所述上環(huán)形刀口 10及下環(huán)形刀口 5的直徑大小范圍為10 200mm。而更優(yōu)選的方案中,本發(fā)明的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,較佳的,所述上環(huán)形刀口 10及下環(huán)形刀口 5 的直徑大小范圍為50 120mm。本發(fā)明的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,為了提高金屬導(dǎo)電環(huán)1的使用效果及使用壽命,較佳的,所述金屬導(dǎo)電環(huán)1的材料為耐熱、耐腐蝕金屬材料。其中,所述金屬導(dǎo)電環(huán)1的材料可以是不銹鋼或鉬。環(huán)形蓋板3可用材料為不銹鋼、鉬、聚四氟乙烯、玻璃等耐腐蝕的金屬或非金屬材料。涂覆用憎水材料為氯硅烷類試劑(如二氯二甲基硅烷)或碳氟類憎水材料。當(dāng)環(huán)形蓋板3材料采用聚四氟乙烯時,由于其本身憎水,不再需要涂覆憎水材料。本發(fā)明的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,其中,導(dǎo)液層2也多孔材料制成,為了使導(dǎo)液層2上下兩側(cè)的空間相對密封,使空氣不能夠經(jīng)由導(dǎo)液層2進(jìn)入供液空槽7中;較佳的,所述多孔材料為親水多孔材料。其中,所述多孔材料優(yōu)選為燒結(jié)玻璃;也可以使其它強親水多孔材料。同時,本發(fā)明的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置的導(dǎo)液層2的厚度也與液體供給的量的大小和速度有關(guān),較佳的,所述導(dǎo)液層2厚度范圍為1 10mm,其寬度范圍為1 20mm。本發(fā)明的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,當(dāng)環(huán)形蓋板3需要進(jìn)行憎水處理時,較佳的, 本發(fā)明中所述憎水處理為采用硅烷類或碳氟類憎水材料涂覆于金屬表面。更進(jìn)一步的,所述硅烷類憎水材料優(yōu)選為二氯二甲基硅烷。如上所述的本發(fā)明的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,請一并參照圖1至圖3所示,其較佳實施例的結(jié)構(gòu)及具體實施使用的過程如下本發(fā)明的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置包括上環(huán)組件A和下環(huán)組件B兩部分,所述上環(huán)組件A為一個倒扣的底部鏤空的金屬淺盤,淺盤的盤口有上環(huán)形刀口 10,所述下環(huán)組件B 為金屬導(dǎo)電環(huán)1,環(huán)內(nèi)側(cè)有與上環(huán)形刀口 10相向的下環(huán)形刀口 5,所述上環(huán)形刀口 10及下環(huán)形刀口 5大小相同且同軸水平;其中,下環(huán)組件B還包括多孔材料導(dǎo)液層2、憎水處理的金屬或聚四氟乙烯環(huán)形蓋板3和軟管接頭4,所述金屬導(dǎo)電環(huán)1的一面開有環(huán)槽,所述導(dǎo)液層2位于環(huán)槽上部,且導(dǎo)液層2的上表面低于下環(huán)形刀口 5,導(dǎo)液層2與環(huán)槽內(nèi)部形成一封閉的供液空槽7空間,環(huán)形蓋板3部分遮蓋于導(dǎo)液層2上且可拆式固定于環(huán)槽的外側(cè),環(huán)形蓋板3與下環(huán)形刀口 5之間形成溢流槽6,軟管接頭4位于金屬導(dǎo)電環(huán)1上,其外接供液-壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)8且與供液空槽7相通。本發(fā)明的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置通過供液-壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)向供液空槽中注入液體后,液體穿過導(dǎo)液層,并逐漸溢由流槽溢流至金屬導(dǎo)電環(huán)中心,使下環(huán)形刀口上充分覆蓋液體;同時,經(jīng)由上環(huán)形刀口與下環(huán)形刀口相接觸后的相對垂直移動,可以拉伸得到垂直的、近似圓柱形的液膜9。其中,液體壓力以下環(huán)形刀口 5處的水力學(xué)靜壓力為零。當(dāng)供
7液-壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)8有正壓力時,由于環(huán)形蓋板3表面憎水,導(dǎo)液層2排出的液體能夠通過溢流槽6將被測液體壓到上環(huán)形刀口及下環(huán)形刀口拉伸所得的液膜9內(nèi),使得液膜9增厚; 當(dāng)供液-壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)8有負(fù)壓力時,由于多孔材料的孔隙直徑很小,并且是強親水的,膜外空氣不能進(jìn)入導(dǎo)液層2,只能是膜內(nèi)液體克服分離壓(或稱楔壓)通過導(dǎo)液層2進(jìn)入供液-壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)8,則液膜9減薄。多孔材料的孔隙直徑越小,可使用的負(fù)壓越大,所能獲得的液膜9厚度越小,直到牛頓黑膜生成。液膜9厚度可以通過外部的干涉儀來測定。當(dāng)液膜9達(dá)到所需厚度時,膜內(nèi)外保持一定的壓力差,從而實現(xiàn)液膜9厚度的可調(diào)、可控。本發(fā)明厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,可以根據(jù)泡沫膜物理化學(xué)性質(zhì)測定中所需要的膜厚產(chǎn)生液膜,且膜厚是可調(diào)可控的。泡沫膜物理化學(xué)性質(zhì)包括液膜張力等表面熱力學(xué)性質(zhì)、動態(tài)拉伸粘彈性等動力學(xué)性質(zhì),以及液膜的光學(xué)、電學(xué)性質(zhì)等。以上所述僅為本發(fā)明示意性的具體實施方式
,并非用以限定本發(fā)明的范圍。任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員,在不脫離本發(fā)明的構(gòu)思和原則的前提下所作出的等同變化與修改,均應(yīng)屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
權(quán)利要求
1.一種厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,其特征在于,該裝置包括上環(huán)組件,為一個倒扣且底部鏤空的金屬淺盤,該淺盤的盤口設(shè)有上環(huán)形刀口 ;下環(huán)組件,包括金屬導(dǎo)電環(huán),該導(dǎo)電環(huán)內(nèi)側(cè)設(shè)有與所述上環(huán)形刀口相向的下環(huán)形刀口, 所述上環(huán)形刀口及下環(huán)形刀口大小相同且同軸水平;所述金屬導(dǎo)電環(huán)的下環(huán)形刀口的外周側(cè)開設(shè)有環(huán)槽,所述下環(huán)組件還包括導(dǎo)液層,為設(shè)于所述環(huán)槽上部的多孔材料層,該導(dǎo)液層的上表面低于所述下環(huán)形刀口設(shè)置,所述導(dǎo)液層底面與該環(huán)槽圍合形成一封閉的供液空槽,環(huán)形蓋板,由憎水處理的金屬或聚四氟乙烯制成,其能夠拆卸地固定于所述金屬導(dǎo)電環(huán)的外環(huán)上,且部分遮蓋于所述導(dǎo)液層上方,該環(huán)形蓋板的內(nèi)周緣與該下環(huán)形刀口之間形成有朝向該液膜產(chǎn)生裝置中心的溢流槽;軟管接頭,設(shè)置于所述金屬導(dǎo)電環(huán)上,該軟管接頭與所述供液空槽連通,且外接供液-壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng);所述上環(huán)組件能夠相對所述下環(huán)組件上下移動。
2.如權(quán)利要求1所述的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,其特征在于,所述導(dǎo)液層的上表面低于所述下環(huán)形刀口 1 2mm。
3.如權(quán)利要求1或2所述的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,其特征在于,所述導(dǎo)液層的上表面與所述環(huán)槽的外側(cè)頂面相平。
4.如權(quán)利要求1所述的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,其特征在于,所述環(huán)形蓋板經(jīng)由螺釘連接固定至所述金屬導(dǎo)電環(huán)的外環(huán)上。
5.如權(quán)利要求1所述的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,其特征在于,所述溢流槽寬度為 0. 1 2mmο
6.如權(quán)利要求5所述的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,其特征在于,所述溢流槽寬度為 0. 1 0. 5mmο
7.如權(quán)利要求1所述的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,其特征在于,所述上環(huán)形刀口及下環(huán)形刀口的直徑大小范圍為10 200mm。
8.如權(quán)利要求7所述的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,其特征在于,所述上環(huán)形刀口及下環(huán)形刀口的直徑大小范圍為50 120mm。
9.如權(quán)利要求1所述的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,其特征在于,所述金屬導(dǎo)電環(huán)的材料為耐熱、耐腐蝕金屬材料。
10.如權(quán)利要求9所述的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,其特征在于,所述金屬導(dǎo)電環(huán)的材料為不銹鋼或鉬。
11.如權(quán)利要求1所述的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,其特征在于,所述多孔材料為親水多孔材料。
12.如權(quán)利要求11所述的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,其特征在于,所述多孔材料為燒結(jié)玻璃。
13.如權(quán)利要求1所述的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,其特征在于,所述導(dǎo)液層厚度范圍為1 10mm,其寬度范圍為1 20mm。
14.如權(quán)利要求1所述的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,其特征在于,所述憎水處理為采用硅烷類或碳氟類憎水材料涂覆于金屬表面。
15.如權(quán)利要求14所述的厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,其特征在于,所述硅烷類憎水材料為二氯二甲基硅烷。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種厚度可調(diào)的液膜產(chǎn)生裝置,包括上環(huán)組件和下環(huán)組件兩部分,下環(huán)組件包括金屬導(dǎo)電環(huán),導(dǎo)液層、環(huán)形蓋板和軟管接頭,所述金屬導(dǎo)電環(huán)的上表面開有環(huán)槽,導(dǎo)液層與環(huán)槽形成一封閉的供液空槽,環(huán)形蓋板與下環(huán)形刀口之間形成溢流槽,軟管接頭外接供液-壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)且與供液空槽相通。當(dāng)供液-壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)有正壓力時,導(dǎo)液層排出的液體能夠通過溢流槽將被測液體壓到液膜內(nèi),使得液膜增厚;當(dāng)供液-壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)有負(fù)壓力時,膜外空氣不能進(jìn)入導(dǎo)液層,只能是膜內(nèi)液體克服分離壓通過導(dǎo)液層進(jìn)入供液-壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng),則液膜減薄。當(dāng)液膜達(dá)到所需厚度時,膜內(nèi)外保持一定的壓力差,從而實現(xiàn)液膜厚度的可調(diào)、可控。
文檔編號G01N33/00GK102520122SQ20111040962
公開日2012年6月27日 申請日期2011年12月9日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月9日
發(fā)明者侯慶鋒, 宋新民, 張禹負(fù), 王紅莊, 翁蕊, 馬德勝 申請人:中國石油天然氣股份有限公司