專利名稱：利用全息攝像二次曝光觀察溫度場的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及利用全息技術(shù)觀察溫度場的裝置。
背景技術(shù)：
全息干涉技術(shù)是進(jìn)行高精度測量的主要光學(xué)方法之一，能實(shí)現(xiàn)非接觸 測量。 一般干涉量度只能測量形狀比較簡單、表面光潔度很高的部件，而 利用全息干涉技術(shù)能將應(yīng)用范圍擴(kuò)展到任意形狀的三維漫射表面的物體。

實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型利用全息干涉技術(shù)的上述特性，提供一種利用全息技術(shù)觀 察溫度場的裝置。
本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下
一種利用全息攝像二次曝光觀察溫度場的裝置，包括 感光板，用于記錄全息照片；
第一曝光裝置，在所述感光板上記錄熱源的第一全息照片； 第二曝光裝置，在所述感光板上記錄熱源的第二全息照片； 干涉產(chǎn)生裝置，利用從第一全息照片獲取的第一再現(xiàn)物像光波和從第
二全息照片獲取的第二再現(xiàn)物像光波獲取干涉條紋，所述千涉條紋對應(yīng)于
所述熱源周圍溫度場的變化。 該熱源是非光源。
本實(shí)用新型利用全息干涉技術(shù)來觀察熱源周圍空氣隨溫度場變化而產(chǎn) 生的形變，從而實(shí)現(xiàn)對于熱源周圍溫度場的觀察。

圖1是本實(shí)用新型的利用全息攝像二次曝光觀察溫度場的裝置的結(jié)構(gòu)圖。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型提供一種利用全息技術(shù)觀察熱源周圍溫度場的裝置，當(dāng)熱 源周圍的溫度場發(fā)生變化時(shí)，空氣會發(fā)生形變，利用全息干涉技術(shù)能拍攝 到任意形狀的三維漫射表面的物體的特性。本實(shí)用新型利用全息干涉技術(shù)， 借助熱源周圍空氣的形變來觀察熱源周圍的溫度場。
本實(shí)用新型的實(shí)現(xiàn)如下，參考圖l所示，提供一種利用全息攝像二次
曝光觀察溫度場的裝置，該裝置包括 感光板IO,用于記錄全息照片；
第一曝光裝置ll，在感光板IO上記錄熱源的第一全息照片； 第二曝光裝置12，在感光板IO上記錄熱源的第二全息照片； 干涉產(chǎn)生裝置13,利用從第一全息照片獲取的第一再現(xiàn)物像光波和從
第二全息照片獲取的第二再現(xiàn)物像光波獲取干涉條紋，該干涉條紋對應(yīng)于
所述熱源周圍溫度場的變化。
需要注意的是，熱源應(yīng)當(dāng)是非光源，以免干擾全息圖像的拍攝。 本實(shí)用新型利用全息干涉技術(shù)來觀察熱源周圍空氣隨溫度場變化而產(chǎn)
生的形變，從而實(shí)現(xiàn)對于熱源周圍溫度場的觀察。本實(shí)用新型利用全息干
涉技術(shù)來觀察熱源周圍空氣隨溫度場變化而產(chǎn)生的形變，從而實(shí)現(xiàn)對于熱
源周圍溫度場的觀察。
權(quán)利要求1.一種利用全息攝像二次曝光觀察溫度場的裝置，其特征在于，包括感光板，用于記錄全息照片；第一曝光裝置，在所述感光板上記錄熱源的第一全息照片；第二曝光裝置，在所述感光板上記錄熱源的第二全息照片；干涉產(chǎn)生裝置，利用從第一全息照片獲取的第一再現(xiàn)物像光波和從第二全息照片獲取的第二再現(xiàn)物像光波獲取干涉條紋，所述干涉條紋對應(yīng)于所述熱源周圍溫度場的變化。
2.如權(quán)利要求l所述利用全息攝像二次曝光觀察溫度場的裝置，其特 征在于，所述熱源是非光源。
專利摘要本實(shí)用新型揭示了一種利用全息攝像二次曝光觀察溫度場的裝置，包括感光板，用于記錄全息照片；第一曝光裝置，在所述感光板上記錄熱源的第一全息照片；第二曝光裝置，在所述感光板上記錄熱源的第二全息照片；干涉產(chǎn)生裝置，利用從第一全息照片獲取的第一再現(xiàn)物像光波和從第二全息照片獲取的第二再現(xiàn)物像光波獲取干涉條紋，所述干涉條紋對應(yīng)于所述熱源周圍溫度場的變化。本實(shí)用新型利用全息干涉技術(shù)來觀察熱源周圍空氣隨溫度場變化而產(chǎn)生的形變，從而實(shí)現(xiàn)對于熱源周圍溫度場的觀察。本實(shí)用新型利用全息干涉技術(shù)來觀察熱源周圍空氣隨溫度場變化而產(chǎn)生的形變，從而實(shí)現(xiàn)對于熱源周圍溫度場的觀察。
文檔編號G01J5/00GK201340304SQ20082015696
公開日2009年11月4日 申請日期2008年12月11日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月11日
發(fā)明者琦 毛 申請人:上海市七寶中學(xué)