專利名稱：基板檢測裝置和基板處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種在對基板進行清洗、蝕刻等給定的處理的基板處理裝置 中的用于檢測基板的保持狀態(tài)的裝置。
背景技術(shù)：
已經(jīng)公知一種基板搬入搬出裝置，在基板處理裝置中的基板容置容器之 間進行基板交接，并且所述基板容置容器具有多個容置基板的容置棚，不管 基板容置容器的種類如何，該裝置都能夠分別檢測在多段的基板容置位置上
有無基板(例如參照日本特開平11-312725號公報)。
在日本特開平11-312725號公報所披露的裝置中，從在點亮照明的狀態(tài) 下對基板容置容器進行拍攝而得到的圖像數(shù)據(jù)中減去在熄滅照明的狀態(tài)下 對基板容置容器進行拍攝而得到的圖像數(shù)據(jù)，從而提取基板的邊緣部分的圖 像數(shù)據(jù)，并基于該圖像數(shù)據(jù)來判定在各容置位置有無基板。
曰本特開平11-312725號公報所披露的技術(shù)是如下這樣的技術(shù)在基板 處理裝置中的基板的搬出搬入部，通過對裝載有基板的基板容置容器進行拍 攝，從而檢測在基板容置容器中有無基板，但是，在基板處理裝置中尋求檢 測基板有無的部位并不限于此。即，把握住下面的信息很重要在某個處理 工序中途基板沒有發(fā)生脫落等，是否與投入時相同的狀態(tài)被保持著。例如， 對于將多個基板浸漬到藥液中，從而而對基板進行藥液處理的批量式的基板 處理裝置的情況，多個基板被浸漬到藥液中后，在被提起的時刻，需要確認(rèn) 基板保持在與浸漬前相同的保持位置。如果在浸漬前后基板的保持狀態(tài)有差 異，那么在藥液處理中因某種原因?qū)е禄迓湎碌剿幰褐校蜁a(chǎn)生問題。
但是，在日本特開平11-312725號公報披露的技術(shù)未必能夠直接適用于 這種處理工序的中途上的基板檢測。例如，若以藥液處理工序為例，則當(dāng)要 應(yīng)用日本特開平11-312725號公報披露的技術(shù)時，以將拍攝機構(gòu)或照明機構(gòu) 直接暴露在藥液處理環(huán)境中的方式進行設(shè)置，但是，從那些機構(gòu)的抗藥液性 角度考慮的話很困難，所以還需要在拍攝機構(gòu)以及照明機構(gòu)和藥液槽或保持
機構(gòu)的配置關(guān)系上，甚至檢測執(zhí)行位置的設(shè)定上下功夫。
另外，在上述各機構(gòu)的配置結(jié)構(gòu)配置為合適的結(jié)構(gòu)后進行拍攝處理時， 得到的拍攝圖像數(shù)據(jù)與在日本特開平11-312725號公報涉及的技術(shù)中得到的 數(shù)據(jù)未必相同，因而即使為了判定保持狀態(tài)而進行的數(shù)據(jù)處理，也需要符合 所取得的拍攝圖像數(shù)據(jù)的特征。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述問題而提出的，目的是提供一種能夠正確且以簡化的 處理檢測在基板處理裝置中處于處理工序的中途的基板的保持狀態(tài)的基板 檢測裝置和具有該基板檢測裝置的基板處理裝置。
為了解決上述課題，技術(shù)方案1的發(fā)明是一種基板檢測裝置，在對基板 進行給定的處理的基板處理裝置中，檢測在能夠保持多個基板的給定的保持 機構(gòu)上保持的基板的保持狀態(tài)，其特征在于，具有照明機構(gòu)，其在給定的 檢測執(zhí)行位置，對在所述保持機構(gòu)上保持的基板照射照明光，拍攝圖像生成 機構(gòu)，其對照射了所述照明光的基板進行拍攝，生成拍攝圖像數(shù)據(jù)，保持位 置確定機構(gòu)，其基于由所述拍攝圖像數(shù)據(jù)表現(xiàn)的基板的拍攝圖像，確定在所 述保持機構(gòu)中的基板的保持位置，保持狀態(tài)判定機構(gòu)，其將由所述保持位置 確定機構(gòu)確定的基板的保持位置和作為所述基板的保持位置而預(yù)先假定的 假定保持位置進行比較，在兩者一致的情況下，生成所述基板的保持狀態(tài)為 正常這樣的檢測結(jié)果，在兩者不一致的情況下，生成所述基板的保持狀態(tài)有 異常這樣的檢測結(jié)果；所述保持位置確定機構(gòu)通過沿著預(yù)定的基板的排列方 向進行操作，從而在生成表示積算值相對于所述排列方向的變化的峰形數(shù)據(jù) 后，基于在所述峰形數(shù)據(jù)所表示出的峰值位置，確定所述基板的保持位置， 其中，所述操作是在預(yù)定的基板的圓周方向上對在所述拍攝圖像中構(gòu)成基板 的像的像素的像素值進行積算的操作。
技術(shù)方案2的發(fā)明是如技術(shù)方案1所述的基板檢測裝置，其特征在于， 僅在所述圓周方向中的所述基板的像近似為直線的范圍內(nèi)，對在所述拍攝圖 像中被判定為構(gòu)成基板的像的像素的像素值進行積算。
技術(shù)方案3的發(fā)明是如技術(shù)方案1或2所述的基板檢測裝置，其特征在
于，所述排列方向通過求出回歸直線來確定，所述回歸直線表示關(guān)于在成為 基準(zhǔn)的拍攝圖像中分別被視為基板的像的多個區(qū)域的重心位置的分布。
技術(shù)方案4的發(fā)明是如技術(shù)方案3所述的基板檢測裝置，其特征在于， 所述圓周方向通過在統(tǒng)計上代表角度的值來確定，所述角度是表示關(guān)于所述 多個區(qū)域各自的主軸方向的角度。
技術(shù)方案5的發(fā)明是如技術(shù)方案1或2所述的基板檢測裝置，其特征在
于，所述保持位置確定機構(gòu)在從所述峰形數(shù)據(jù)中除去背景成分后，基于在所 述峰形數(shù)據(jù)所表示的峰值位置而確定所述基板的保持位置。
技術(shù)方案6的發(fā)明是如技術(shù)方案5所述的基板檢測裝置，其特征在于， 所述保持位置確定機構(gòu)對于所述峰形數(shù)據(jù)上的各數(shù)據(jù)點來確定以所述數(shù)據(jù) 點為中心的局部區(qū)域，根據(jù)在所述局部區(qū)域的范圍內(nèi)包含的像素值來決定與 關(guān)于所述數(shù)據(jù)點的背景成分相當(dāng)?shù)南袼刂?，以此決定所述背景成分。
技術(shù)方案7的發(fā)明是如技術(shù)方案6所述的基板檢測裝置，其特征在于，
采用屬于所述局部區(qū)域的像素值的最小值來作為與關(guān)于所述數(shù)據(jù)點的 背景成分相當(dāng)?shù)南袼刂怠?br> 技術(shù)方案8的發(fā)明是如技術(shù)方案1或2所述的基板檢測裝置，其特征在 于，所述檢測執(zhí)行位置是在所述基板處理裝置中進行所述給定的處理的腔室 的內(nèi)部的給定位置，并且，所述拍攝圖像生成機構(gòu)經(jīng)由所述腔室的壁而拍攝 在所述檢測執(zhí)行位置上保持的基板。
技術(shù)方案9的發(fā)明是如技術(shù)方案1或2所述的基板檢測裝置，其特征在 于，還具有檢測力判定機構(gòu)，所述檢測力判定機構(gòu)基于給定的判定基準(zhǔn)，判 定所述拍攝圖像數(shù)據(jù)所表現(xiàn)的拍攝圖像是否是具有足以檢測基板的保持狀 態(tài)的檢測力的圖像，僅將表現(xiàn)所述拍攝圖像的所述拍攝圖像數(shù)據(jù)，或者在相 同的基板保持狀況下與該拍攝圖像數(shù)據(jù)一起連續(xù)取得的拍攝圖像數(shù)據(jù)，用于 由所述保持位置確定機構(gòu)進行的所述保持位置的確定，其中這里的拍攝圖像 是由所述檢測力判定機構(gòu)判定為具有所述檢測力的拍攝圖像。
技術(shù)方案10的發(fā)明是一種基板檢測裝置，在對基板進行給定的處理的 基板處理裝置中，檢測在能夠保持多個基板的給定的保持機構(gòu)上保持的基板 的保持狀態(tài)，其特征在于，具有照明機構(gòu)，其在給定的檢測執(zhí)行位置，對 在所述保持機構(gòu)上保持的基板照射照明光，拍攝圖像生成機構(gòu)，其對照射了
所述照明光的基板進行拍攝，生成拍攝圖像數(shù)據(jù)，檢測力判定機構(gòu)，其基于 給定的判定基準(zhǔn)，判定所述拍攝圖像數(shù)據(jù)所表現(xiàn)的拍攝圖像是否是具有足以 檢測基板的保持狀態(tài)的檢測力的圖像，保持位置確定機構(gòu)，其基于由所述拍 攝圖像數(shù)據(jù)表現(xiàn)的基板的拍攝圖像，確定在所述保持機構(gòu)中的基板的保持位 置，保持狀態(tài)判定機構(gòu)，其將由所述保持位置確定機構(gòu)確定的基板的保持位 置和作為所述基板的保持位置而預(yù)先假定的假定保持位置迸行比較，在兩者 一致的情況下，生成所述基板的保持狀態(tài)為正常這樣的檢測結(jié)果，在兩者不 一致的情況下，生成所述基板的保持狀態(tài)有異常這樣的檢測結(jié)果；僅將表現(xiàn) 由所述檢測力判定機構(gòu)判定為具有所述檢測力的所述拍攝圖像的所述拍攝 圖像數(shù)據(jù)，或者在相同的基板保持狀況下與該拍攝圖像數(shù)據(jù)一起連續(xù)取得的 拍攝圖像數(shù)據(jù)，用于由所述保持位置確定機構(gòu)進行的所述保持位置的確定。
技術(shù)方案H的發(fā)明是如技術(shù)方案9或10所述的基板檢測裝置，其特征 在于，所述檢測力判定機構(gòu)在基于所述拍攝圖像數(shù)據(jù)而生成關(guān)于構(gòu)成所述拍 攝圖像的像素的像素值的度數(shù)分布后，基于所述度數(shù)分布而計算出用于使所
述像素值2值化的2值化閾值、表示所述2值化閾值的妥當(dāng)性的程度的類別 分離度和關(guān)于具有所述2值化閾值以上的值的像素值的平均值，以使所述類 別分離度變?yōu)樽畲?，在所述平均值和所述類別分離度之積超過給定的基準(zhǔn)值 的情況下，判定為所述拍攝圖像數(shù)據(jù)具有檢測力。
技術(shù)方案12的發(fā)明是如技術(shù)方案11所述的基板檢測裝置，其特征在于， 所述檢測力判定機構(gòu)在強調(diào)所述拍攝圖像數(shù)據(jù)的邊緣成分后，生成所述度數(shù) 分布。
技術(shù)方案13的發(fā)明是如技術(shù)方案9或10所述的基板檢測裝置，其特征 在于，所述檢測執(zhí)行位置是在所述基板處理裝置中進行所述給定處理的腔室 的內(nèi)部的給定位置，并且，所述拍攝圖像生成機構(gòu)經(jīng)由所述腔室的壁而拍攝 在所述檢測執(zhí)行位置上保持的基板。
技術(shù)方案14的發(fā)明是如技術(shù)方案13所述的基板檢測裝置，其特征在于， 所述檢測執(zhí)行位置是在所述基板處理裝置中執(zhí)行給定的處理后保持所述基 板的位置，所述假定保持位置是預(yù)先確定的在提供給所述給定的處理之前在 所述保持機構(gòu)中的所述基板的保持位置。
技術(shù)方案15的發(fā)明是一種基板處理裝置，對基板進行給定的處理，其
特征在于，具有基板搬送機構(gòu)，其能夠保持多個基板，腔室，其具有藥液 槽，照明機構(gòu)，其在所述腔室的內(nèi)部的檢測執(zhí)行位置，對在所述基板搬送機 構(gòu)上保持的基板照射照明光，拍攝圖像生成機構(gòu)，其對照射有所述照明光的 基板進行拍攝，生成拍攝圖像數(shù)據(jù)，保持位置確定機構(gòu)，其基于由所述拍攝 圖像數(shù)據(jù)表現(xiàn)的基板的拍攝圖像，確定在所述基板搬送機構(gòu)中的基板的保持 位置，保持狀態(tài)判定機構(gòu)，其將由所述保持位置確定機構(gòu)確定的基板的保持 位置和作為所述基板的保持位置而預(yù)先假定的假定保持位置進行比較，在兩 者一致的情況下，生成所述基板的保持狀態(tài)為正常這樣的檢測結(jié)果，在兩者 不一致的情況下，生成所述基板的保持狀態(tài)有異常這樣的檢測結(jié)果；所述拍 攝圖像生成機構(gòu)經(jīng)由所述腔室的壁而拍攝在藥液處理后由所述基板搬送機 構(gòu)保持在所述檢測執(zhí)行位置上的基板，所述藥液處理是通過在所述藥液槽中 浸漬所述基板而進行的處理，所述保持位置確定機構(gòu)通過沿著預(yù)定的基板的 排列方向進行操作，從而在生成表示積算值相對于所述排列方向的變化的峰 形數(shù)據(jù)后，基于在所述峰形數(shù)據(jù)所表示出的峰值位置，確定所述基板的保持 位置，其中，所述操作是在預(yù)定的基板的圓周方向上對在所述拍攝圖像中構(gòu) 成基板的像的像素的像素值進行積算的操作，通過上述處理來檢測在所述藥 液處理后保持在所述基板搬送機構(gòu)中的基板的保持狀態(tài)。
技術(shù)方案16的發(fā)明是如技術(shù)方案15所述的基板處理裝置，其特征在于， 還具有檢測力判定機構(gòu)，所述檢測力判定機構(gòu)基于給定的判定基準(zhǔn)，判定所 述拍攝圖像數(shù)據(jù)所表現(xiàn)的拍攝圖像是否是具有足以檢測基板的保持狀態(tài)的 檢測力的圖像，僅將表現(xiàn)由所述檢測力判定機構(gòu)判定為具有所述檢測力的所 述拍攝圖像的所述拍攝圖像數(shù)據(jù)，或者在相同的基板保持狀況下與該拍攝圖 像數(shù)據(jù)一起連續(xù)取得的拍攝圖像數(shù)據(jù)，用于由所述保持位置確定機構(gòu)進行的 所述保持位置的確定。
技術(shù)方案17的發(fā)明是一種基板處理裝置，對基板進行給定的處理，其 特征在于，具有基板搬送機構(gòu)，其能夠保持多個基板，腔室，其具有藥液 槽，照明機構(gòu)，其在所述腔室的內(nèi)部的檢測執(zhí)行位置，對在所述基板搬送機 構(gòu)上保持的基板照射照明光，拍攝圖像生成機構(gòu)，其對照射了所述照明光的 基板進行拍攝，生成拍攝圖像數(shù)據(jù)，檢測力判定機構(gòu)，其基于給定的判定基 準(zhǔn)，判定所述拍攝圖像數(shù)據(jù)所表現(xiàn)的拍攝圖像是否是具有足以檢測基板的保
持狀態(tài)的檢測力的圖像，保持位置確定機構(gòu)，其基于由所述拍攝圖像數(shù)據(jù)表 現(xiàn)的基板的拍攝圖像，確定在所述基板搬送機構(gòu)中的基板的保持位置，保持 狀態(tài)判定機構(gòu)，其將由所述保持位置確定機構(gòu)確定的基板的保持位置和作為 所述基板的保持位置而預(yù)先假定的假定保持位置進行比較，在兩者一致的情 況下，生成所述基板的保持狀態(tài)為正常這樣的檢測結(jié)果，在兩者不一致的情 況下，生成所述基板的保持狀態(tài)有異常這樣的檢測結(jié)果；所述拍攝圖像生成 機構(gòu)經(jīng)由所述腔室的壁而拍攝在藥液處理后由所述基板搬送機構(gòu)保持在所 述檢測執(zhí)行位置上的基板，所述藥液處理是通過在所述藥液槽中浸漬所述基 板而進行的處理，僅將表現(xiàn)由所述檢測力判定機構(gòu)判定為具有所述檢測力的 所述拍攝圖像的所述拍攝圖像數(shù)據(jù)，或者在相同的基板保持狀況下與該拍攝 圖像數(shù)據(jù)一起連續(xù)取得的拍攝圖像數(shù)據(jù)，用于由所述保持位置確定機構(gòu)進行 的所述保持位置的確定。
根據(jù)技術(shù)方案1至技術(shù)方案17的發(fā)明，保持位置確定機構(gòu)即使不在每 次得到拍攝圖像數(shù)據(jù)時根據(jù)該拍攝圖像的內(nèi)容來確定基板的排列方向和圓 周方向，也生成了必要的峰形數(shù)據(jù)，因而能夠使基板檢測處理簡化。
特別是，根據(jù)技術(shù)方案2的發(fā)明，抑制在基板檢測用的峰形數(shù)據(jù)出現(xiàn)不 需要的峰值。
特別是，根據(jù)技術(shù)方案5至技術(shù)方案7的發(fā)明，能夠更正確地確定與基
板的保持位置對應(yīng)的峰值位置。
特別是，根據(jù)技術(shù)方案8的發(fā)明，由于很難將拍攝圖像生成機構(gòu)配置在
腔室內(nèi)，所以利用照明機構(gòu)、拍攝生成機構(gòu)和檢測執(zhí)行位置之間的位置關(guān)系， 通過對在保持機構(gòu)上保持的基板進行拍攝而得到的基板的像具有復(fù)雜的形 狀，即使在確定其排列方向和圓周方向復(fù)雜的情況下，不確定這樣的排列方 向和圓周方向，也能夠生成必要的峰形數(shù)據(jù)。
根據(jù)技術(shù)方案9至技術(shù)方案14的發(fā)明，僅將表現(xiàn)所述拍攝圖像的所述 拍攝圖像數(shù)據(jù)，或者在相同的基板保持狀況下與該拍攝圖像數(shù)據(jù)一起連續(xù)取 得的拍攝圖像數(shù)據(jù)，用于由所述保持位置確定機構(gòu)進行的所述保持位置的確 定，其中這里的拍攝圖像是由所述檢測力判定機構(gòu)判定為具有所述檢測力的 拍攝圖像，因而，能夠?qū)⑴臄z圖像的品質(zhì)并不充分、不適于基板的檢測的拍 攝圖像數(shù)據(jù)從基板的檢測處理的對象中排除，以高精度實現(xiàn)基板檢測。
特別是，根據(jù)技術(shù)方案11至技術(shù)方案12的發(fā)明，由于能夠從基板的檢 測處理的對象中排除提供了不具有足夠的對比度的拍攝圖像的拍攝圖像數(shù) 據(jù)，所以實現(xiàn)高精度的基板的檢測，其中，所述拍攝圖像數(shù)據(jù)是指表示拍攝 圖像中的對比度的程度的，類別分離度和關(guān)于具有2值化閾值以上的值的像 素值的平均值的積的值在給定的基準(zhǔn)值以下的數(shù)據(jù)。
特別是，根據(jù)技術(shù)方案13和技術(shù)方案14的發(fā)明，在難以將拍攝圖像生 成機構(gòu)配置在腔室內(nèi)的情況下，即使因腔室壁的污垢等而生成對比度并不充 分的拍攝圖像數(shù)據(jù)，也能夠從基板的檢測處理的對象中排除該拍攝圖像數(shù) 據(jù)。由此，除了以高精度實現(xiàn)基板檢測之外，也能夠檢測腔室的污垢。
特別是，根據(jù)技術(shù)方案14的發(fā)明，檢測執(zhí)行位置是在基板處理裝置中
執(zhí)行給定的處理后保持基板的位置，假定保持位置是事先取定的在供給給定 的處理之前在保持機構(gòu)中的基板的保持位置，因而通過使用具有充分的檢測 力的拍攝圖像數(shù)據(jù)，從而更正確地判定在基板處理裝置中供給給定的處理的 基板的保持狀態(tài)是否與處理前相同。
根據(jù)技術(shù)方案15和技術(shù)方案16的發(fā)明，在由于不暴露在藥液環(huán)境中等 理由而不得不將拍攝圖像生成機構(gòu)配置在腔室外那樣的情況下，，利用照明 機構(gòu)、拍攝圖像生成機構(gòu)和檢測執(zhí)行位置的位置關(guān)系，即使根據(jù)對每次拍攝 保持在保持機構(gòu)上的基板所得到的基板的像來確定其排列方向和圓周方向 的這種復(fù)雜的情況下，也能夠在不確定這種排列方向和圓周方向的情況下， 生成必要的峰形數(shù)據(jù)。
根據(jù)技術(shù)方案16和技術(shù)方案17的發(fā)明，在由于不暴露在藥液中等理由 而不得不將拍攝圖像生成機構(gòu)配置在腔室外那樣的情況下，即使由于藥液呈 霧狀存在或腔室壁的污垢等原因而生成對比度并不充分的拍攝圖像數(shù)據(jù)，也 能夠從基板的檢測處理的對象中排除該拍攝圖像數(shù)據(jù)。


圖1是示意性地表示本發(fā)明實施方式的基板處理裝置100的圖。 圖2是用于說明拍攝機構(gòu)120和照明機構(gòu)121的配置關(guān)系的圖。 圖3是用于說明拍攝機構(gòu)120和照明機構(gòu)121的配置關(guān)系的圖。 圖4是表示圖像處理部150的更詳細(xì)的結(jié)構(gòu)的圖。
圖5是表示基板W的拍攝圖像數(shù)據(jù)Dl的一例的圖。
圖6是表示一維數(shù)據(jù)D2的一例的圖。
圖7A、圖7B、圖7C是示意性地表示通過使曝光時間不同(快門速度) 而使曝光量變化時的拍攝圖像數(shù)據(jù)的變化的圖。
圖8是對一維數(shù)據(jù)的峰值位置的偏移進行說明的圖。 圖9是對一維數(shù)據(jù)的峰值位置的偏移進行說明的圖。 圖IO是對一維數(shù)據(jù)的峰值位置的偏移進行說明的圖。 圖11是對一維數(shù)據(jù)的峰值位置的偏移進行說明的圖。 圖12是表示基板檢測處理的概略流程的圖。 圖13是表示基板W的拍攝處理的流程圖。 圖14是表示檢測力判定處理的流程圖。
圖15A、圖15B是例示了關(guān)于不同的兩個檢測力判定對象數(shù)據(jù)的濃度直 方圖的圖。
圖16是表示圖像合成處理中的具體處理流程的圖。 圖17A、圖17B是表示基于不同的三個拍攝圖像數(shù)據(jù)而生成合成圖像數(shù) 據(jù)時的結(jié)果的圖。
圖18是表示基板檢測處理的流程圖。
圖19是表示基于基準(zhǔn)檢測用圖像來決定排列方向和圓周方向的處理的 流程圖。
圖20A、圖20B、圖20C、圖20D是示意性地表示在決定排列方向和圓 周方向的處理中使用的圖像的圖。
圖21A、圖21B是示意性地表示在決定排列方向和圓周方向的處理中使 用的圖像的圖。
圖22是例示決定排列方向時的像素的積算范圍的圖。
圖23是表示從一維數(shù)據(jù)中除去背景干擾的處理的流程圖。
圖24是說明背景像素值的決定方法的圖。
圖25A、圖25B是表示使局部區(qū)域的尺寸與峰值幅度大致相同并生成檢 測用一維數(shù)據(jù)的情況的圖。
圖26A、圖26B是表示使用了錯誤的局部區(qū)域的尺寸的情況下的結(jié)果的圖。
圖27A、圖27B是表示使用了錯誤的局部區(qū)域的尺寸的情況下的結(jié)果的圖。
圖28是對于在搬送機構(gòu)114的某保持槽115保持的目標(biāo)基板，表示由 檢測處理部153確定的峰值位置和搬送機構(gòu)114所保持的基板W的個數(shù)的 對應(yīng)關(guān)系的圖。
圖29是表示修正處理的流程圖。
圖30是表示由搬送機構(gòu)114保持的兩個修正基準(zhǔn)基板及目標(biāo)基板的保 持位置與搬送機構(gòu)114所保持的基搬W的個數(shù)的對應(yīng)關(guān)系的圖。 圖31是表示變形例涉及的檢測力判定處理的流程圖。
具體實施例方式
圖1是示意性地表示本發(fā)明實施方式的基板處理裝置100的圖?；逄?理裝置100主要具有清洗裝置101和基板檢測裝置102。此外，基板處理裝 置100具有統(tǒng)一控制整個裝置的主機(main host) 103，但如后面所述，其 一部分結(jié)構(gòu)要素也作為基板檢測裝置102的結(jié)構(gòu)要素而發(fā)揮作用。
清洗裝置101至少包括一個具有藥液槽111的腔室(chamber) 110 (在 圖1中例示了具有1個腔室110的情況)。清洗裝置101是如下這樣的裝置 通過將多個基板(以下僅稱為"基板")W—并浸漬到磷酸或硫酸溶液等給 定的藥液SOL中來進行基板的清洗，即進行批量式的清洗處理，所述給定的 藥液SOL貯存在腔室110所具有的藥液槽111中。
另外，清洗裝置101具有在腔室110和外部(例如其他腔室110)之間 搬送基搬W的搬送機構(gòu)(搬送卡盤)114。此外，雖然在圖1中省略了圖示， 但是，搬送機構(gòu)114具有多個保持槽115 (參照圖9)，通過由各保持槽115 以立起姿勢保持基板W，從而同時搬送多個基板W。此外，在搬送機構(gòu)114 處于圖1示出的姿勢a時保持基板W，在姿勢b時不保持基板W。在腔室 110中設(shè)置有在保持基板W的狀態(tài)下如箭頭AR1所示那樣在z軸方向進行 升降動作的升降機112。在腔室110中的清洗處理的實現(xiàn)過程如下該腔室 110所具有的升降機112接受基板W，該基板W是由搬送機構(gòu)114搬送到腔 室110上部的給定的基板交接位置的基板，升降機112保持著接受到的基板 W并下降到藥液槽lll內(nèi)，使基板W在藥液槽111所貯存的藥液S0L中浸
漬給定時間。經(jīng)過給定時間后，在藥液S0L中浸漬的基板W因升降機112
的上升而從藥液SOL中被提起，在交接位置交接給搬送機構(gòu)114，并由搬送 機構(gòu)114搬送到別處。此外，搬送機構(gòu)114的搬送動作和升降機112的升降 動作根據(jù)主機103所具有的搬送控制部170的動作而進行動作，以上都是通 過未圖示的給定的驅(qū)動機構(gòu)來實現(xiàn)的。另外，在藥液槽lll的外周上部設(shè)置 有溢流槽113，由溢流槽113回收因基板W的浸漬而溢出的藥液SOL，并通 過循環(huán)路徑(未圖示)循環(huán)供給到藥液槽111中。
此外，在本實施方式的基板處理裝置100中，由于需要進行下面所述的 拍攝處理，所以腔室110的側(cè)面(槽壁)的至少一部分由具有透光性的材質(zhì)、 例如透明丙稀構(gòu)成。
基板檢測裝置102是對己結(jié)束了在各腔室110中的給定的清洗處理的基 板W的保持狀態(tài)進行檢測(基板檢測處理)的裝置。此外，在本實施方式 中，基板W的保持狀態(tài)的檢測是指如下這樣的處理在腔室110中被浸漬 到藥液SOL中后，確定由升降機112提起的基板W的保持位置和保持個數(shù)， 并確認(rèn)是否存在與浸漬前相同的個數(shù)。換言之，是確認(rèn)在向藥液SOL浸漬時 有沒有基板W落下到藥液槽111內(nèi)的處理。具體地說，在腔室110中實現(xiàn) 清洗處理后，在從升降機112交接給搬送機構(gòu)114的時刻(在圖1中，搬送 機構(gòu)114以姿勢a保持基板的狀態(tài))，拍攝基板W的邊緣部分，對得到的拍 攝圖像進行給定的圖像處理，根據(jù)得到的圖像處理結(jié)果來確認(rèn)有無基板。
作為用于檢測所述基板而進行的拍攝處理的結(jié)構(gòu)要素，基板檢測裝置 102具有拍攝機構(gòu)120，其包括用于拍攝基板W的例如CCD攝像機或CMOS 攝像機等；照明機構(gòu)121，其包括在拍攝時用于對基板W照射照明光的例如 LED等。
圖2和圖3是用于說明拍攝機構(gòu)120和照明機構(gòu)121的配置關(guān)系的圖。 圖2表示從z軸正方向(鉛垂上方向)觀察到的在腔室110的上部被保持在 搬送機構(gòu)114上的基板W的俯視圖(xy平面圖)。圖3是從y軸負(fù)方向(從 圖1的左側(cè)觀察到的圖)觀察到圖1的基板W的圖(zx平面圖)。其中， 省略了藥液槽lll、升降機112和搬送機構(gòu)114的圖示。另外，在圖2和圖 3中的點劃線表示了由搬送機構(gòu)114保持的基板W的排列方向P。 S卩，在圖 2和圖3中，示出了基板W的排列方向P與x軸方向一致的情況。此外，圖
1所示的拍攝機構(gòu)120和照明機構(gòu)121相對于腔室110的配置關(guān)系是為了便 于圖示，并不是反映它們在基板處理裝置100中的實際的配置位置。
如圖3所示，拍攝機構(gòu)120和照明機構(gòu)121都配置在腔室110的外側(cè)上 方。這是因為需要保持腔室110的內(nèi)部的高清潔度和避免因直接暴露在藥液 環(huán)境中而使拍攝機構(gòu)120或照明機構(gòu)121受到壞影響。為了在該配置關(guān)系下 良好地進行拍攝，如上所述腔室110側(cè)面的至少一部分由具有透光性的材質(zhì)、 例如透明丙烯構(gòu)成。優(yōu)選在除基板W的搬出搬入以外時由省略圖示的遮蔽 機構(gòu)遮蔽腔室110或藥液槽111的結(jié)構(gòu)。
此外，如圖2和圖3所示，拍攝機構(gòu)120和照明機構(gòu)121在x軸方向觀 察的情況下以夾持腔室110的方式配置。此外，在本實施方式中，照明機構(gòu) 121配置在含有排列方向P的z-x平面內(nèi)，相對于此，拍攝機構(gòu)120配置在 偏離該平面的位置。實際上，根據(jù)拍攝機構(gòu)120的配置位置來適當(dāng)調(diào)整照明 機構(gòu)121的配置位置即可。
回到圖1，基板檢測裝置102還具有進行拍攝處理的控制和基于拍攝圖 像的圖像處理的控制部130?？刂撇?30與拍攝機構(gòu)120、照明機構(gòu)121和 主機103電連接。
控制部130具有圖像輸入部140、圖像處理部150、主IF (hostinterfase: 主接口) 160和存儲器M1。
圖像輸入部"O控制拍攝機構(gòu)120的拍攝。具體地說，向拍攝機構(gòu)120 提供拍攝命令(拍攝控制信號)，另一方面，從拍攝機構(gòu)120取得圖像信號 并生成拍攝圖像數(shù)據(jù)。此外，在本實施方式中，拍攝圖像數(shù)據(jù)被生成為多值 灰度數(shù)據(jù)，所述多值灰度數(shù)據(jù)的各像素從0至255中取任一個灰度值(像素 值)。在由拍攝圖像數(shù)據(jù)表現(xiàn)的拍攝圖像中，通常，觀察到基板W的邊緣 部分亮(發(fā)白)，觀察到其它部分暗(發(fā)黑)。
圖像處理部150進行如下這樣的處理接收在圖像輸入部140生成的拍 攝圖像數(shù)據(jù)，根據(jù)該拍攝圖像數(shù)據(jù)來確定由搬送機構(gòu)114保持的基板W的 保持位置。此外。通過確定保持位置，也確定在保持機構(gòu)114上保持的基板 W的個數(shù)。圖像處理部150中的處理結(jié)果是，由于可確定在供給清洗處理后 的時刻實際由搬送機構(gòu)114保持的基板W的保持位置(此時，自身也確定 了保持個數(shù))，所以圖像處理部150中的處理相當(dāng)于基板檢測裝置102中的
基板檢測處理。另外，將得到的處理結(jié)果稱為檢測基板信息。關(guān)于圖像處理 部150的結(jié)構(gòu)，以及在圖像處理部150中進行的生成檢測基板信息相關(guān)的各 種處理的詳細(xì)內(nèi)容在后面進行敘述。
主IF160是與主機103之間的通信接口 。響應(yīng)搬送機構(gòu)114中的搬送定 時而提供的使拍攝機構(gòu)120執(zhí)行拍攝的指示從主機103經(jīng)由主IF160提供給 圖像輸入部140。另外，圖像處理部150中的圖像處理的結(jié)果通過主IF而發(fā) 送給主機103。
存儲器M1是存儲與基板檢測處理相關(guān)的各種信息的存儲區(qū)域。存儲器 Ml預(yù)先或者在基板檢測處理的實施中根據(jù)需要取得并存儲基板檢測處理所 需要的信息。在基板檢測處理的實施中適當(dāng)?shù)刈x出在存儲器M1中存儲的信 息。
此外，在清洗裝置101具有多個腔室110的情況下，拍攝機構(gòu)120和照 明機構(gòu)121對應(yīng)于各腔室110進行設(shè)置，控制部130統(tǒng)一控制所有的拍攝機 構(gòu)120和照明機構(gòu)121。
主機103是統(tǒng)一控制基板處理裝置IOO整體的控制部。主機103除了具 有如上述那樣控制升降機112和搬送機構(gòu)114的動作的搬送控制部170之外， 還具有通信部180、基板信息保持部190、檢測處理命令部200和基板有無 判定部210。
通信部180是與控制部130以及控制部130之外的基板處理裝置100各 部之間進行各種信號的授受時的通信接口 。
基板信息保持部190保持與由搬送機構(gòu)114搬送到腔室110的基板W的 個數(shù)，和在搬送機構(gòu)114的基板保持部保持其能夠保持的最大個數(shù)的基板的 狀態(tài)下的各基板位置相關(guān)的信息(以下稱為"處理基板信息")。即，處理 基板信息是關(guān)于被供給清洗處理之前的時刻的基板W的保持個數(shù)和保持位 置的信息。換言之，基板信息保持部190具有的關(guān)于被供給清洗處理之前的 基板W的保持位置的信息是關(guān)于作為清洗處理后的基板W的保持位置而假 定的保持位置(假定保持位置)的信息。
檢測處理命令部200命令基板檢測裝置102執(zhí)行基板檢測處理。具體地 說，清洗處理結(jié)束后，當(dāng)搬送控制部170提供了表示基板W從升降機112 交接到搬送機構(gòu)114的信號時，檢測處理命令部200對基板檢測裝置的控制部130提供命令執(zhí)行基檢測處理的信號。
基板有無判定部210基于在基板信息保持部190保持的處理基板信息和
由圖像處理部150生成的檢測基板信息，判定被供給清洗處理的基板W是 否在該清洗處理后全部保持在搬送機構(gòu)114上。即，判定有沒有因某些理由 脫落在腔室110內(nèi)的基板?；逵袩o判定部210將由基板檢測處理確定的基 板的保持位置和作為基板的保持位置而預(yù)先由基板信息保持部190保持的保 持位置進行比較，在兩者一致的情況下，生成基板W的保持狀態(tài)正常這樣 的檢測結(jié)果，在兩者不一致的情況下，生成基板W的保持狀態(tài)有異常這樣 的檢測結(jié)果。
基板信息保持部190、檢測處理命令部200和基板有無判定部210都是 進行基板檢測所涉及的處理的結(jié)構(gòu)要素，在本實施方式中，作為基板檢測裝 置102的結(jié)構(gòu)要素而發(fā)揮作用。
<圖像處理部的結(jié)構(gòu)>
圖4是表示圖像處理部150的更詳細(xì)的結(jié)構(gòu)的圖。圖像處理部150接受 由圖像輸入部140生成的拍攝圖像數(shù)據(jù)，從該拍攝圖像數(shù)據(jù)確定在搬送機構(gòu) 114上保持的基板W的保持位置和個數(shù)(也就是檢測在搬送機構(gòu)114上保持 的基搬W的保持狀態(tài))，并將該結(jié)果作為檢測基板信息而輸出。根據(jù)拍攝 圖像數(shù)據(jù)生成用于確定基板W的位置的一維數(shù)據(jù)(峰形數(shù)據(jù)peak profile data)，并基于該一維數(shù)據(jù)中的峰值位置進行基板W的保持狀態(tài)的檢測。
圖5是表示由拍攝機構(gòu)120拍攝并由圖像輸入部140生成的，基板W的 拍攝圖像數(shù)據(jù)D1的一例的圖。在圖5中，觀察到基板W的邊緣部分的像(以 來自邊緣部分的反射光成分為主的像)為白色。此外，圖中的兩個坐標(biāo)軸是 在后述的基板檢測處理時被確定而使用的，未必是拍攝圖像數(shù)據(jù)D1自身具 有的關(guān)于該坐標(biāo)軸的信息。
圖6是表示在圖像處理部150生成的一維數(shù)據(jù)D2的一例的圖。 一維數(shù) 據(jù)D2是表示通過后述的方法來確定的基板W在排列方向上的位置坐標(biāo)(排 列方向坐標(biāo))和同樣地對每個位置坐標(biāo)在基板W的圓周方向上積算的構(gòu)成 基板W的邊緣部分的像素值(積算像素值)的關(guān)系的數(shù)據(jù)，所述基板W是 通過后述的方法來確定的。在圖6中，將前者取為橫軸，將后者取為縱軸。 此外，在圖6示出的直角坐標(biāo)空間相當(dāng)于對由圖5中的兩個坐標(biāo)軸構(gòu)成的坐
標(biāo)空間進行變換后的空間。在圖6示出的一維數(shù)據(jù)D2顯出的峰值對應(yīng)于在 搬送機構(gòu)114保持的一個一個的基板W，因而通過確定各位置，能夠確定基
板w的保持位置。
如圖4所示，作為用于實現(xiàn)該基板檢測處理的結(jié)構(gòu)要素，圖像處理部150 具有檢測力判定處理部151、圖像合成部152、檢測處理部153和修正處理 部154。
檢測力判定處理部151進行如下的處理對于在圖像輸入部140生成的 拍攝圖像數(shù)據(jù)，判定是否可以將該拍攝圖像數(shù)據(jù)用于檢測基板信息的生成處 理，也就是，判定該拍攝圖像數(shù)據(jù)所表現(xiàn)的拍攝圖像是否是具有足以檢測基 板的保持狀態(tài)的檢測力的圖像的處理(檢測力判定處理)。例如，在腔室110 上附著有污垢的狀態(tài)下得到的拍攝圖像數(shù)據(jù)等，有時不具有在檢測處理部 153中能夠正確地確定基板的保持位置的對比度(銳化值sharpness)。檢 測力判定處理部151進行如下的處理為了排除這種品質(zhì)差的拍攝圖像數(shù)據(jù) 并僅將具有良好的對比度的拍攝圖像數(shù)據(jù)供給基板檢測處理，嚴(yán)格地對拍攝 圖像數(shù)據(jù)加以區(qū)別。具體地說，檢測力判定處理部151將拍攝圖像數(shù)據(jù)D1 中的像的對比度的程度數(shù)值化，在該值超過給定的閾值的情況下，判定具有 檢測力。關(guān)于檢測力判定處理的詳細(xì)內(nèi)容在后面敘述。
圖像合成部152以給定的方法合成從圖像輸入部140得到的多個拍攝圖 像數(shù)據(jù)，生成一個圖像數(shù)據(jù)(合成圖像數(shù)據(jù))。
在基板處理裝置100中，由于照明機構(gòu)121和基板W處于在圖2和圖3 示出的位置關(guān)系，所以當(dāng)從照明機構(gòu)121向基板W照射光并由拍攝機構(gòu)120 進行拍攝時，在得到的拍攝圖像中，因與照明機構(gòu)121的距離不同會在基板 W的像上產(chǎn)生明暗。S卩，由于從接近照明機構(gòu)121的基板W得到大光量的 反射光，所以拍攝圖像中的基板W的邊緣部的像明亮，但是，由于從遠(yuǎn)離 照明機構(gòu)121的基板W得到的發(fā)射光的光量小，所以該基板W的邊緣部的 像變暗，因而產(chǎn)生因與照明機構(gòu)121的距離不同而導(dǎo)致基板W的位置的確 定精度不同的問題。假設(shè)在增加曝光量或曝光時間的情況下，遠(yuǎn)離照明機構(gòu) 121的基板W的像變明亮，但是在該情況下，產(chǎn)生來自離照明機構(gòu)近的基板 W的反射光量變得過大而導(dǎo)致飽和的問題。
圖7A、圖7B、圖7C是示意性地表示通過曝光時間(也就是快門速度)
不同而使曝光量變化時的拍攝圖像數(shù)據(jù)的變化的圖。拍攝圖像數(shù)據(jù)本來是二 維數(shù)據(jù)，但是在這里，為了便于說明，用一維數(shù)據(jù)表示。在圖7A、圖7B、
圖7C中，橫軸的值越大，表示的是在搬送機構(gòu)114保持的基板W的排列中 越遠(yuǎn)離照明機構(gòu)121的位置。另外，在圖7A、圖7B、圖7C中，位置PT1 示出處于接近照明機構(gòu)121側(cè)的基板W的邊緣部分的位置(邊緣位置)， 位置PT3示出處于遠(yuǎn)離照明機構(gòu)121側(cè)的基板W的邊緣位置，位置PT2示 出處于兩者中間的基板W的邊緣位置。另一方面，位置BG1示出接近照明 機構(gòu)121側(cè)的基板W的邊緣部分和邊緣部分之間的位置(邊緣間位置)， 位置BG3示出遠(yuǎn)離照明機構(gòu)121側(cè)的基板W的邊緣間位置，位置BG2示出 兩者中間的基板W的邊緣間位置。
圖7A是表示通過使快門速度相對變慢(曝光時間=1/30秒)而以適當(dāng)曝 光量對遠(yuǎn)離照明機構(gòu)121側(cè)的基板W進行曝光的情況下的峰形(Peak Profile) 的圖。在該情況下，在位置PT1的像素值和在位置BG1的像素值之差(峰 谷差)為"5"，與在位置PT2的像素值和在位置BG2的像素值之差"110"、 和在位置PT3的像素值和在位置BG3的像素值之差"100"相比，顯著變小。 這意味著在離照明機構(gòu)121近的基板位置，由于過度曝光，來自基板W的 反射光量飽和，不能得到充分的峰谷差。
圖7C是表示通過使快門速度相對變快(曝光時間=1/120秒)而將離照 明機構(gòu)121近側(cè)的基板W以適當(dāng)曝光量曝光情況下的峰形的圖。在該情況 下，由于在遠(yuǎn)離照明機構(gòu)121的邊緣位置即在位置PT3的像素值變小到"50"， 所以峰谷差變小到"40"。
圖7B是表示通過使快門速度為圖7A的情況和圖7B的情況的中間程度 (曝光時間=1/60秒)而將處于排列的中央部分的基板W以適當(dāng)曝光量曝光 情況下的峰形的圖。在該情況下，不管位置如何都能某種程度得到峰谷差， 但是，還是在遠(yuǎn)離照明機構(gòu)121的邊緣位置即位置PT3的峰谷差小一些，是 "50"。
在本實施方式的基板處理裝置100中，為了解決該問題，多次以不同的 曝光量拍攝搬送機構(gòu)114保持基板W的狀況，在圖像合成部152中將得到 的多個拍攝圖像數(shù)據(jù)合成為一個圖像數(shù)據(jù)，能夠?qū)⒂纱松傻暮铣蓤D像數(shù)據(jù) 作為檢測用圖像數(shù)據(jù)而供給后面的處理。通過將該合成圖像數(shù)據(jù)用于基板W 的檢測處理，從而抑制因在搬送機構(gòu)114保持的各個基板W與照明機構(gòu)121 距離的不同而產(chǎn)生的對基板W的保持位置的確定精度的影響。關(guān)于合成圖 像數(shù)據(jù)的生成處理(圖像合成處理)的詳細(xì)內(nèi)容在后面敘述。
檢測處理部153進行如下的處理將在圖像輸入部140得到的拍攝圖像
數(shù)據(jù)或者在圖像合成部152得到的合成圖像數(shù)據(jù)作為檢測用圖像數(shù)據(jù)，并由 檢測用圖像數(shù)據(jù)生成如圖6所示那樣的一維數(shù)據(jù)D2，從而確定該一維數(shù)據(jù) D2表現(xiàn)的峰形中的峰值位置。由檢測處理部153確定的峰值位置對應(yīng)于搬 送機構(gòu)114中的基板的保持位置。此外，關(guān)于從檢測用圖像數(shù)據(jù)生成一維數(shù) 據(jù)的方法的詳細(xì)內(nèi)容在后面進行敘述。
修正處理部154進行如下處理修正一維數(shù)據(jù)的峰值位置的偏移，引起 該偏移的原因是根據(jù)保持的基板W的個數(shù)的多少不同(即因施加在駁斥機 構(gòu)114上的負(fù)荷的大小不同)而導(dǎo)致在搬送機構(gòu)114上的基板W的保持位 置在鉛垂方向(重力方向)上發(fā)生變化。
圖8、圖9和圖IO是針對一維數(shù)據(jù)的峰值位置的偏移進行說明的圖。圖 8是例示搬送機構(gòu)114保持基板W的狀態(tài)的圖。在圖8中圖示了搬送機構(gòu) 114具有16個保持槽115的情況，但搬送機構(gòu)14具有的保持槽115的數(shù)量 并不限于此。在圖8中的(a)中示出了保持13個基板W的情況，在圖8 中的(b)中示出保持3個基板W的情況，前者例示保持比較多的基板W的 狀態(tài)(保持多數(shù)基板時)，后者例示保持比較少的基板W的狀態(tài)(保持少 量基板時)。另外，在圖8中，對各保持槽15標(biāo)上用于識別的號碼(基板 槽號碼)。
圖9是表示如圖8所示那樣保持基板W的情況下的基板W的保持個數(shù) 和在鉛垂方向(重力方向)上的基板W的保持位置的對應(yīng)關(guān)系的圖。圖9 中的(a)對應(yīng)于圖8中的(a)的保持多數(shù)基板時，圖9中的(b)對應(yīng)于圖 8中的(b)的保持少量基板時。如圖9所示，與在基板保持個數(shù)多的前者的 基板W的重心P1相比，后者的基板W的重心P2位于鉛垂方向(重力方向) 上的更上側(cè)。這源于后者施加在搬送機構(gòu)114上的負(fù)荷小。
圖10是表示搬送機構(gòu)114在圖8示出的形式下保持基板W的情況下得 到的一維數(shù)據(jù)。在圖10中，用實線示出的峰形表示如圖8中的(a)所示那 樣保持多數(shù)基板W情況下的一維數(shù)據(jù)，用虛線示出的峰形表示圖8中的(b)
的保持少量基板W情況下的一維數(shù)據(jù)。另外，圖11是表示基于圖10的各 個一維數(shù)據(jù)，在沒有對峰值位置進行修正處理的情況下，判定基板有無時的 判定結(jié)果的圖。在圖U中，O表示判定在該基板槽號碼的保持槽115中存 在基板的情況，X表示判定在該槽號碼的保持槽115中不存在基板的情況。 根據(jù)圖10的用實線表示的峰形，其峰值位置如圖10的上方所標(biāo)的虛線
那樣，假定與保持槽115相對應(yīng)。圖11示出的判定結(jié)果也表示與此對應(yīng)的 內(nèi)容。艮口，判定標(biāo)有"0" 、 "2" 、 "3" 、 "4" 、 "5" 、 "7" 、 "8"、 "10" 、 "11" 、 "12" 、 "13" 、 "14" 、 "15"的基板槽號碼的保持槽 115中保持有基板W。這是與在圖8中的(a)示出的實際的保持狀態(tài)一致的 結(jié)果。
另一方面，根據(jù)圖10中用虛線表示的峰形，根據(jù)其峰值位置判定如圖 11所示那樣在標(biāo)有"9" 、 "10" 、 "12"的基板槽號碼的保持槽115中保 持有基板W。但是，這個結(jié)果與圖8中的(b)示出的實際的保持狀態(tài)不一致。 圖8中的(b)示出的實際的保持狀態(tài)是在標(biāo)有"7" 、 "8" 、 "10"的基 板槽號碼的保持槽115中保持基板W，因此，在例如"7"的基板槽號碼的保 持槽115中保持的基板W時，被判定為保持在"9"的基板槽號碼的保持槽 115中。這是因為來自本來應(yīng)存在于圖10示出的位置xl的在基板槽號碼 "7"的保持槽115中保持的基搬W的峰值存在于位置x2，該位置x2相當(dāng)于 在基板槽號碼"9"的保持槽115中保持有基板W時的峰值位置。
圖10和圖11示出的結(jié)果表示了如圖9所示的那樣，因保持個數(shù)的不同 而導(dǎo)致判定保持有基板W的保持槽115不同的情況。在本實施方式的基板處 理裝置100中，為了避免該問題，利用修正處理部154進行修正處理，該修 正處理以保持有給定個數(shù)的基板W的情況為基準(zhǔn)來修正在檢測處理部153中 的確定的峰值位置。關(guān)于修正處理的詳細(xì)內(nèi)容在后面敘述。
〈基板檢測裝置中的處理的概略〉
圖12是表示在基板檢測裝置102中進行的處理的概略流程的圖。 首先，對作為檢測處理的對象的清洗處理后的基板W進行拍攝，生成拍
攝圖像數(shù)據(jù)(步驟S1)。當(dāng)?shù)玫脚臄z圖像數(shù)據(jù)時，接著由檢測力判定處理部
151進行檢測力判定處理(步驟S2).
檢測力判定處理的結(jié)果是在沒有問題的情況下，由圖像合成部152取
得檢測用圖像數(shù)據(jù)(步驟S3)。在僅進行l(wèi)次拍攝的情況下，由圖像輸入部 140生成的拍攝圖像數(shù)據(jù)直接作為檢測用圖像數(shù)據(jù)。另一方面，如上所述， 為了提高一維數(shù)據(jù)中的峰值位置的確定精度，也能夠根據(jù)由拍攝機構(gòu)120以 不同的曝光量進行拍攝而得到的多個拍攝圖像數(shù)據(jù)來生成合成圖像數(shù)據(jù)，將 該合成圖像數(shù)據(jù)作為檢測用圖像數(shù)據(jù)。
當(dāng)?shù)玫綑z測用圖像數(shù)據(jù)時，檢測處理部153進行如下處理(基板檢測處
理)根據(jù)該檢測用圖像數(shù)據(jù)來生成在基板W的保持位置的確定中所使用的 一維數(shù)據(jù)(檢測用一維數(shù)據(jù))，進而，通過確定在檢測用一維數(shù)據(jù)中顯示的
峰值的位置，從而確定在搬送機構(gòu)114中保持的基板W的保持位置(步驟S4)。 然后，再在修正處理部154中進行對由檢測處理部153確定的檢測處理部153 確定的基板W的峰值位置進行修正的修正處理(步驟S5)。由此，正確地確 定基板W的保持位置。此外，在如上所述那樣使峰值位置的偏移不成為問題 并能夠正確地確定基板的保持位置的情況下，能夠省略修正處理，根據(jù)檢測 處理部153所確定的基板W的峰值位置來確定保持位置。
這樣確定的在搬送機構(gòu)114保持的基板W的保持位置(和個數(shù))的信息 作為檢測基板信息，經(jīng)由主IF160發(fā)送到主機103。在主機103中，基板有 無判定部210通過對從通信部180接收到的檢測基板信息和基板信息保持部 190所保持的處理基板信息進行比較，從而判定在各保持位置有無基板(歩 驟S6)。具體地說，在檢測基板信息所記載的基板W的保持位置包含在給定 的閾值的范圍內(nèi)的情況下，基板有無判定部210判定在該位置存在基板W， 所述給定的閾值以處理基板信息中所記載的基板的保持位置為基準(zhǔn)。
由此，判定供給清洗處理的基板W在處理后是否保持在搬送機構(gòu)114。
〈拍攝處理>
圖13是表示在圖12的步驟S1中進行的基板W的拍攝處理的流程圖。 首先，基板W伴隨清洗處理的結(jié)束而被從藥液槽111中提起，該基板W 是通過被升降機112保持并浸漬在藥液槽111的藥液SOL中的供給清洗處理 的基板(步驟Sll)。接著，基板W從升降機112交接給搬送機構(gòu)114 (步 驟S12)。此時，表示交接結(jié)束的信號從搬送控制部170提供給檢測處理命 令部200。檢測處理命令部200響應(yīng)該信號而發(fā)出拍攝命令(步驟S13)。 拍攝命令通過通信部180被發(fā)送到控制部130的主IF160，主IF160將該拍
攝命令提供給圖像輸入部140。
接收到拍攝命令的圖像輸入部140使照明機構(gòu)點亮(步驟S14)。從照
明機構(gòu)121透過腔室IIO側(cè)面的透明部分向在搬送機構(gòu)114保持的基搬W照 射預(yù)定的光量的照明光。當(dāng)這樣照射照明光時，基板W的鉛垂方向(z軸方 向)上側(cè)的邊緣部分(端緣部分)將照明光反射至拍攝機構(gòu)120，主表面將 照明光向腔室110的底方向(圖l 圖3的z軸負(fù)方向)反射。
在該狀況下，圖像輸入部140對拍攝機構(gòu)120指示進行基板W的拍攝(步 驟S15)。具體地說，讀入預(yù)先設(shè)定并存儲在存儲器M1中的拍攝次數(shù)和每次 拍攝時的曝光量(曝光時間、快門速度)，指示拍攝機構(gòu)120執(zhí)行基于讀入 的條件的拍攝。
拍攝機構(gòu)120以指定的曝光量對基板W僅進行給定次數(shù)的拍攝(步驟 S16)。在作為檢測用圖像數(shù)據(jù)而使用合成圖像數(shù)據(jù)的情況下，以不同的曝 光量進行多次拍攝。通過拍攝機構(gòu)120進行拍攝而得到的圖像信號(拍攝信 號)被發(fā)送到圖像輸入部140。圖像輸入部140基于接收到的圖像信號而生 成拍攝圖像數(shù)據(jù)(步驟S17)。如上所述，由于在基板W的邊緣側(cè)的反射光 朝向拍攝機構(gòu)120頂ij，所以在拍攝圖像中，觀察到基板W的邊緣部分亮。得 到的拍攝圖像數(shù)據(jù)被存儲在存儲器M1中。
〈檢測力判定處理〉
接著，針對在圖12的步驟S2中實施的檢測力判定處理進行詳細(xì)地說明。 如上所述，檢測力判定處理用于判定拍攝圖像數(shù)據(jù)是否是足以確定搬送機構(gòu) 114中的基板的保持位置的數(shù)據(jù)。該檢測力判定處理在檢測力判定處理部151 中執(zhí)行。
圖14是表示檢測力判定處理的流程圖。在實施檢測力判定處理的情況 下，首先，由圖像處理部150取得在步驟S1生成的拍攝圖像數(shù)據(jù)(步驟S21)。 此外，將這樣取得并成為檢測力判定處理的對象拍攝圖像數(shù)據(jù)特別稱為檢測 力判定對象數(shù)據(jù)，將該檢測力判定對象數(shù)據(jù)所表現(xiàn)的圖像也特別稱為判定對 象圖像。
當(dāng)取得檢測力判定對象數(shù)據(jù)時，實施對判定對象圖像的邊緣進行強調(diào)的 處理(邊緣強調(diào)處理)(步驟S22)。判定對象圖像的邊緣是指在該圖像中 像素值(濃度值)變化大的區(qū)域。在本實施方式中，通過對檢測力判定對象
數(shù)據(jù)作用索伯爾濾光器(Sobd Filter)等一般的邊緣強調(diào)用的濾光器來進行
該邊緣強調(diào)處理。該處理使判定對象圖像中的以基板w的反射光成分為主 的明亮的部分和以除基板w的反射光成分以外的成分為主的暗的部分之間
的邊界更明確，相當(dāng)于在下面的步驟中所進行的處理的前處理。
接著，根據(jù)這樣實施了邊緣強調(diào)處理的檢測力判定對象數(shù)據(jù)，生成濃度
直方圖(步驟S23)。濃度直方圖以判定對象圖像能夠取得的所有的像素值 (濃度值)為橫軸，關(guān)于各像素值，通過對判定對象圖像所具有的像素數(shù)(度 數(shù))進行計數(shù)而得到。圖15A、圖15B是例示關(guān)于不同的兩個檢測判定對象 數(shù)據(jù)的濃度直方圖的圖。此外，在圖15A、圖15B中，像素值越大就越白(亮)。 當(dāng)?shù)玫綕舛戎狈綀D時，根據(jù)該濃度直方圖而計算出其2值化閾值和類別 (class)分離度(步驟S24) 。 2值化閾值是對提供濃度直方圖的判定對象 圖像進行2值化的情況下的閾值。另外，類別分離度是表示2值化閾值的妥 當(dāng)性的程度的指標(biāo)。類別分離度的值越大，就表示以2值化閾值為界分離為 兩個類別的程度越高，換言之，表示像素值直方圖的雙峰性高。在本實施方 式中，基于判別分析法來進行2值化閾值和類別分離度的計算。
具體地說，假設(shè)以L階的灰度值(等級level)來表現(xiàn)判定對象圖像， 在以等級k為2值化閾值時，取得等級k以下的像素值(類別)的概率設(shè)為 "p取得k+l以上的像素值(類別)的概率設(shè)為"2、各自類別相關(guān)的像素 數(shù)的平均值設(shè)為l^、 ^2，這時，將使下面的公式1表示的作為k的函數(shù)的 值(類別間方差)o b2為最大值的等級k作為2值化閾值而被采用。 (公式l)
其中，若設(shè)等級i的像素數(shù)為ni、全像素數(shù)為N、等級i的概率分布為
<formula>formula see original document page 26</formula>
此外，(公式2)是到等級k的濃度分布的O次積率(moment)。 若使用 (公式4)
(公式5)
<formula>formula see original document page 27</formula>
<formula>formula see original document page 27</formula>(公式6)
(公式7)<formula>formula see original document page 27</formula>此外，(公式4)是到水平k為止的濃度分布的1次積率，(公式5)是與 全像素值有關(guān)的像素數(shù)的平均值。
另外，0/為最大時的由下面的(公式8)提供的值變?yōu)轭悇e分離度。此 外，(公式8)的運算結(jié)果是類別分離度，該類別分離度作為0和1之間的 值而被求出。 (公式8)
其中，。/是與全像素值相關(guān)的像素數(shù)的方差，由下面的(公式9)提供。 (公式9)
實際上，通過在(公式l)中逐次改變k的值，從而依次求出o/的值， 采用提供最大值的k作為2值化閾值。并且，使用此時的k值，從(公式8) 求出類別分離度n 。換言之，決定使得類別分離度n為最大的2值化閾值。
若從圖15A、圖15B示出的2個像素值直方圖看，在圖15A的像素值直 方圖中，在低像素值側(cè)和高像素值側(cè)有度數(shù)(像素數(shù))變?yōu)闃O大的地方，通 過使2值化閾值位于在兩者中間的度數(shù)為極小的地方，從而清楚地分離低像 素值側(cè)和高像素值側(cè)。在該情況下，得到高類別分離度。在像素值直方圖中 越是高像素值側(cè)越亮，所以在圖15A的情況下視為表現(xiàn)基板的邊緣部分的像 素形成了高像素值側(cè)的極大值，除此以外的背景部分形成了低像素值側(cè)的極 大值。另一方面，在圖15B的像素值直方圖中，僅是越向高像素值側(cè)度數(shù)越 一味地減少，在2值化閾值的附近像素值也計數(shù)了相當(dāng)?shù)牧康亩葦?shù)。該情況
下的類別分離度變低。在該情況下，在拍攝圖像中，基板w的邊緣部分和除
此以外的部分沒有被清楚地分離。
當(dāng)?shù)玫?值化閾值和類別分離度時，接著計算銳化值(步驟S25)。銳 化值是表示判定對象圖像的對比度的程度的值。通過將與具有2值化閾值以 上的值的像素值的平均值(將此稱為邊緣平均值)乘以類別分離度來計算出 銳化值。
從圖15A、圖15B示出的兩個像素值直方圖看，如上所述，雖然類別分 離度不同，但是邊緣平均值分別是相同的值m。因此，當(dāng)將邊緣平均值m直 接作為檢測力判定的基準(zhǔn)時，不能夠識別兩者。但是，在這種情況下，由于 類別分離度反映各像素值直方圖的形狀而成為不同的值，因此以邊緣平均值 乘以類別分離度后的值即銳化值為檢測力判定的基準(zhǔn)，從而能夠更可靠地判 定檢測力。
當(dāng)?shù)玫戒J化值時，進行檢測力判定(步驟S26)。具體地說，將得到的 銳化值與在進行檢測處理前預(yù)先存儲在存儲器Ml中的基準(zhǔn)值進行比較。該 基準(zhǔn)值例如能夠通過如下方法得到預(yù)先假定由例如氣化的藥液SOL等導(dǎo)致 的腔室110的污染處于容許限度的狀態(tài)，并計算出該狀態(tài)下的銳化值。或者， 也可以是如下等方法計算出理想狀態(tài)下的銳化值，并將在該值乘以給定的 系數(shù)(容許限度系數(shù))后的值作為基準(zhǔn)值來使用。
由于在銳化值大于基準(zhǔn)值的情況下(在步驟S26為"是")，判定檢測 力判定對象數(shù)據(jù)具有足以確定基板的保持位置的檢測力，所以進入圖12的 步驟S3。另一方面，在銳化值為基準(zhǔn)值以下的情況下(在步驟S26為"否")， 判定檢測力判定對象數(shù)據(jù)不具有檢測力。在該情況下，中止以后的基板檢測 處理。例如，當(dāng)從檢測力判定處理部151通過主IF160向主機103通知該結(jié)
果時，主機103不進行以后的基板檢測處理的執(zhí)行指示，取而代之的是進行 用于促使進行腔室110的清洗等給定處置的給定的警告處理(發(fā)生警告音或 執(zhí)行警告顯示等)。
在本實施方式的基板處理裝置中，通過進行這種檢測力判定處理，從而 能夠?qū)⑴臄z圖像的品質(zhì)不充分從而并不適于作為基板的檢測的拍攝圖像數(shù) 據(jù)，從基板的檢測處理的對象中排除。由此，實現(xiàn)高精度的基板檢測。另外， 由于將具有充分的對比度的拍攝圖像數(shù)據(jù)用于基板檢測，所以即使使用在熄 滅照明燈的狀態(tài)下的圖像數(shù)據(jù)并且不做成強調(diào)基板的邊緣部分的像的圖像， 也能夠進行基板檢測。
此外，在進行檢測力判定處理時，在由拍攝機構(gòu)120進行多次拍攝的情 況下，既可以是僅以最初得到的拍攝圖像數(shù)據(jù)作為檢測力判定處理的對象的 方式，也可以是對多個或者全部的拍攝圖像數(shù)據(jù)進行檢測力判定處理的方 式?；蛘?，也可以對在S3實施的合成處理中得到的一個圖像數(shù)據(jù)進行檢測 力判定。
另外，例如在藥液槽lll的壁面總是保持正常的情況等的拍攝圖像數(shù)據(jù) 的品質(zhì)總是保持良好的情況下，不需要檢測力判定處理。即，檢測判定處理 在基板位置的確定中并不是必需的處理，能夠根據(jù)情況省略。關(guān)于是否需要
檢測力判定處理的信息例如通過作業(yè)者對主機103進行給定的輸入指示來提 供，并存儲在存儲器M1中。
〈圖像合成處理〉
接著，對在進行圖12的步驟S3中的檢測用圖像數(shù)據(jù)的取得處理時所實 施的圖像合成處理進行說明。在圖像合成部152中執(zhí)行圖像合成處理。此外， 將成為圖像合成處理的對象的多個拍攝圖像數(shù)據(jù)特別稱為合成對象圖像數(shù) 據(jù)，將通過各合成對象圖像數(shù)據(jù)來表現(xiàn)的拍攝圖像特別稱為合成對象圖像。 另外，將通過合成圖像數(shù)據(jù)來表現(xiàn)的圖像特別稱為合成圖像。
在圖像合成處理中能夠應(yīng)用多個方法，但是在本實施方式中，以使用被 稱為高動態(tài)光照渲染方法(HDR: High Dynamic Range)的方法的情況為例 進行說明。首先，在多個合成對象中分別處于同一位置的像素的像素值(取 從0至255的值)之中，在小于預(yù)定的上限值的范圍內(nèi)確定最大的像素值。 對上限值設(shè)定240 250左右的值。此外，這樣限定上限值是因為排除像素
值處于飽和狀態(tài)的像素。然后，使用所確定的像素值計算實際的明亮度，采 用將在例如0至255之間對該像素值進行標(biāo)準(zhǔn)化后的值作為在合成對象圖像
中的該像素位置的像素值。此外，在進行拍攝時的曝光時間e和確定像素tt 的最大值時的上限值預(yù)先存儲在存儲器M1中。
圖16是表示該圖像合成處理中具體的處理流程的圖。首先，取得成為 圖像合成處理的對象的多個合成對象圖像數(shù)據(jù)(步驟S31)。此外，在以下 的說明中，設(shè)由各合成對象圖像數(shù)據(jù)所表現(xiàn)的合成對象圖像由N個像素構(gòu)成， 將其中的任意像素稱為第j號像素(1《j《N)。首先，為了使第1號像素 為處理對象，設(shè)」=1 (步驟S32)。
下面說明進行關(guān)于第j號像素的處理的情況。首先，從各合成對象圖像 的第j號像素的像素值之中，確定在上限值的范圍內(nèi)的最大值o (j)，從存 儲器M1中讀出在拍攝該提供了最大值的合成對象圖像時的曝光時間e (j) (步驟S33)。
接著，由下面的關(guān)系式計算出第j號像素的實際的明亮度i(j)(步驟 S34)。 (公式10)
對全部的N個像素進行該處理(步驟S35)。即，在存在不求出其實際 的明亮度i的像素的情況下，對j'+l號像素反復(fù)進行步驟S33和步驟S34的 處理(步驟S38)。
在對全部的N個像素求出其實際的明亮度i (j)的情況下(在步驟S35 為"是")，對所有的像素進行對i (j)的值標(biāo)準(zhǔn)化的處理(步驟S36)。 例如，當(dāng)將i (1) i (N)這樣的N個i (j)中的最大值設(shè)為iM、最小值 設(shè)為im，將i (j)標(biāo)準(zhǔn)化后的像素值設(shè)為I (j)時，I (j)能夠通過下面的 運算來確定。 (公式11)
這樣得到的i (j)值表現(xiàn)合成圖像的第j號像素的像素值。即，通過將 各像素的配置位置和各像素的i (j)相對應(yīng)，從而生成合成圖像數(shù)據(jù)(步驟
37)。
圖17A、圖17B是表示基于在圖7A、圖7B、圖7C中示意性地表示為 一維數(shù)據(jù)的不同的三個拍攝圖像數(shù)據(jù)而生成合成圖像數(shù)據(jù)的情況的結(jié)果的 圖。圖17A是應(yīng)用高動態(tài)光照渲染方法時的結(jié)果。此外，圖17B是后述的變 形例中的合成圖像數(shù)據(jù)的生成例。在圖17A、圖17B中，橫軸的值越大就表 示在搬送機構(gòu)114保持的基搬W的排列中更遠(yuǎn)離照明機構(gòu)121的位置。
在圖17A示出的合成圖像數(shù)據(jù)中，在離照明機構(gòu)12近的位置，峰谷差 有"148"，并且，在遠(yuǎn)離照明機構(gòu)的位置，峰谷差也有"85"，相比圖7A、 圖7B、圖7C中的任意一種情況，不管位置如何都得到比較良好的峰谷差。
這樣，由于合成圖像數(shù)據(jù)作為具有良好的峰谷差的數(shù)據(jù)而生成，所以通 過將該合成圖像數(shù)據(jù)作為檢測處理的對象，從而能夠?qū)崿F(xiàn)更正確的基板檢 測。另外，由于具有峰谷差的檢測用圖像數(shù)據(jù)被供給基板檢測，所以即使使 用在熄滅照明光的狀態(tài)下的圖像數(shù)據(jù)并且不做成強調(diào)基板的邊緣部分的像 的圖像，也能夠進行基板檢測。
<基板檢測處理>
接著，針對在圖12的步驟S4實施的基板檢測處理(嚴(yán)格地說，搬送機 構(gòu)114中的基板位置的確定處理)進行詳細(xì)地說明。圖18是表示基板檢測 處理的流程圖。首先，取得例如在圖5示出的拍攝圖像數(shù)據(jù)D1那樣的數(shù)據(jù) 即檢測用圖像數(shù)據(jù)(步驟S41)。此外，如上所述，作為檢測用圖像數(shù)據(jù)， 既可以是使用通過拍攝處理得到的一個拍攝圖像數(shù)據(jù)的形式，也可以是使用 合成圖像數(shù)據(jù)的形式。此外，將檢測用圖像數(shù)據(jù)所表現(xiàn)的圖像特別地稱為檢 測用圖像。
接著，基于檢測用圖像數(shù)據(jù)而生成一維數(shù)據(jù)(峰形數(shù)據(jù))(步驟S42)。 該一維數(shù)據(jù)的生成通過如下方法來實現(xiàn)沿基板W的排列方向進行積算操 作，其中，該積算操作是在基板W的圓周方向?qū)υ跈z測用圖像中判斷為構(gòu) 成基板W的像(邊緣部分的像)的像素(若在圖5的情況下，構(gòu)成白部分 的像素)的像素值進行積算的操作，并使得到的積算值與排列方向的坐標(biāo)相 對應(yīng)。例如，生成如圖6所示那樣的一維數(shù)據(jù)D2。
在本實施方式中，使用成為基準(zhǔn)的檢測用圖像(基準(zhǔn)檢測用圖像)來預(yù) 先決定在該一維數(shù)據(jù)的生成中使用的圓周方向和排列方向，在檢測處理時，
不管成為對象的檢測用圖像數(shù)據(jù)如何，都基于該預(yù)先決定的圓周方向和排列 方向而生成一維數(shù)據(jù)。
圖19是表示基于基準(zhǔn)檢測用圖像而決定排列方向和圓周方向的處理的
流程圖。圖20A、圖20B、圖20C、圖20D和圖21A、圖21B是示意性地表 示在該處理中使用的圖像的圖。
首先，在搬送機構(gòu)114的保持槽115全都容置了基板W的狀態(tài)(全容 置狀態(tài))下，與上述的拍攝處理同樣地通過拍攝機構(gòu)120進行拍攝，從而生 成提供基準(zhǔn)檢測用圖像的拍攝圖像數(shù)據(jù)(基準(zhǔn)檢測用圖像數(shù)據(jù))(步驟 S421)。圖20A是基準(zhǔn)檢測用圖像IM1的示意圖?；鶞?zhǔn)檢測用圖像IM1通 常是多階灰度圖像，該圖像中，觀察到基板W的邊緣部分亮(發(fā)白)，其 它部分暗(發(fā)黑)。
當(dāng)生成基準(zhǔn)檢測用圖像數(shù)據(jù)時，則在為了能夠容易提取基板W的邊緣 而進行明亮度修正(步驟S422)后，使基準(zhǔn)檢測用圖像2值化(步驟S423)。 圖20B是通過對在圖20A示出的基準(zhǔn)檢測用圖像IM1實施明亮度修正而得 到的明亮度修正后圖像IM2的示意圖。進而，圖20C是通過對圖20B所示 出的明亮度修正后圖像IM2進行2值化而得到的2值化圖像IM3的示意圖。
當(dāng)?shù)玫?值化圖像IM3時，進行用于唯一識別高像素值的閉區(qū)域(在2 值化圖像IM3中觀察到發(fā)白的區(qū)域)的標(biāo)注(labeling)處理(步驟S424)。 在標(biāo)注處理中能夠適用公知的技術(shù)。
被標(biāo)注的區(qū)域(標(biāo)注區(qū)域)主要表現(xiàn)基板W的邊緣部分(將此稱為邊 緣部標(biāo)注區(qū)域)，但是也能夠存在原來的基準(zhǔn)檢測用圖像所含有的干擾 (noise)區(qū)域(將此稱為干擾標(biāo)注區(qū)域)。由于在邊緣部分的確定中不需要 這樣的干擾標(biāo)注區(qū)域，所以對2值化圖像IM3實施除去該區(qū)域(置換為低像 素值)的過濾處理(步驟S425)。過濾處理基于各標(biāo)注區(qū)域的位置或尺寸、 主軸方向等進行。圖20D是通過對圖20C示出的2值化圖像IM3實施過濾 處理而得到的過濾后圖像IM4的示意圖。如圖20D所示，在過濾后圖像IM4 中，作為高像素值的區(qū)域僅存在邊緣部標(biāo)注區(qū)域。
當(dāng)?shù)玫竭^濾后圖像IM4時，確定各邊緣部標(biāo)注區(qū)域的重心位置(步驟 S426)。當(dāng)將屬于某個邊緣部標(biāo)注區(qū)域R的像素的坐標(biāo)設(shè)為(x， y)、將屬 于該邊緣部標(biāo)注區(qū)域的像素的全像素數(shù)設(shè)為M、將該邊緣部標(biāo)注區(qū)域的重心
設(shè)為(Xg， yg)時，通過以下的關(guān)系求出該邊緣部標(biāo)注區(qū)域的重心。 (公式12)
其中，R表示稱為求出重心的對象的標(biāo)注區(qū)域。
當(dāng)求出各邊緣標(biāo)注區(qū)域的重心時，確定由搬送機構(gòu)114保持的基板W的 排列方向。具體地說，求出各邊緣部標(biāo)注區(qū)域的重心位置，作為提供基板W 的排列方向的直線，確定各重心位置的分布近似的直線(回歸直線)(步驟 S427)?；貧w直線能夠例如通過最小二乘法等公知的方法來求出。圖21A是 例示基于在圖20D示出的過濾后圖像IM4中存在的標(biāo)注區(qū)域L1 L7的重心 G1 G7的分布而得到的表示排列方向的直線y:ax+b的圖。
當(dāng)確定排列方向時，確定由搬送機構(gòu)114保持的基板W的圓周方向(主 軸方向)。具體地說，在求出表示關(guān)于各邊緣部標(biāo)注區(qū)域的主軸方向的角度
(主軸角e)后，將在統(tǒng)計上代表與所有的邊緣部標(biāo)注區(qū)域相關(guān)的主軸角e
的值確定為規(guī)定了圓周方向的角度(圓周方向角eo)(步驟S428)，該圓 周方向是由搬送機構(gòu)114保持的基板W的圓周方向。
關(guān)于各邊緣部標(biāo)注區(qū)域的主軸角e如下求出。
(公式13)
<formula>formula see original document page 33</formula>其中，
<formula>formula see original document page 33</formula>(公式14)
當(dāng)求出關(guān)于所有的邊緣部標(biāo)注區(qū)域的主軸角e時，例如通過采用它們的平均
值或中央值，從而能夠規(guī)定圓周方向角。
如上得到的與排列方向和圓周方向相關(guān)的信息(具體地說，確定排列方
向的直線y二ax+b的斜率a和截矩b、確定圓周方向的圓周方向角9 0)存儲 在存儲器M1中。
使用這樣確定的排列方向和圓周方向，通過沿著確定排列方向而決定的
直線y:ax+b進行積算操作，從而實現(xiàn)圖18示出的步驟S42中的一維數(shù)據(jù)的 生成，該積算操作是在圓周方向角eo的方向上，對在檢測用圖像中判斷為 構(gòu)成基板W的邊緣部分的像的像素的像素值進行積算的操作。
其中，在檢測用圖像中，邊緣部分具有像弓形或月牙形那樣的曲線形狀， 所以在將構(gòu)成該邊緣部分的所有的像素作為積算對象的情況下，引起一維數(shù) 據(jù)提供不需要的峰值的情況。在本實施方式中，為了避免該問題，將圓周方 向的像素的積算限定在邊緣部分上的近似為直線的給定范圍。圖22是例示 該像素的積算范圍的圖。在圖22中示出下面的情況僅對屬于以確定排列 方向的直線y=ax+b為中心的范圍a的內(nèi)部的區(qū)域(斜線部)進行圓周方向 上的像素值的積算。此外，優(yōu)選該積算范圍以至少含有基板W的凹口 (notch) 部分的方式來進行設(shè)定。
當(dāng)通過以上那樣的處理得到圖6所示那樣的一維數(shù)據(jù)時，通過確定該峰 值位置，從而能夠確定搬送機構(gòu)114中的基板W的保持位置。其中，在一 維數(shù)據(jù)中，除了由來自基板W的邊緣部分的反射光帶來的成分以外，由于 在拍攝時，存在從外部透射到腔室110內(nèi)的光或散射光等干擾的反射光成分 等，因此干擾成分重疊在背景部分。在本實施方式中，以確定更正確的峰值 位置為目的，進行從一維數(shù)據(jù)中除去相當(dāng)于背景干擾的背景成分的處理(歩 驟S43)。
圖23是表示除去背景干擾的處理的流程圖。首先，對一維數(shù)據(jù)上的各 個數(shù)據(jù)點設(shè)定以該數(shù)據(jù)點為中心的局部區(qū)域(排列方向坐標(biāo)上的給定范圍)， 根據(jù)屬于該局部區(qū)域的范圍內(nèi)的像素值來決定相當(dāng)于關(guān)于該數(shù)據(jù)點的背景 干擾的像素值(背景像素值)(步驟S431)。另外，作為決定各局部區(qū)域的 背景像素值的方法，優(yōu)選的一例是使用該局部區(qū)域中的各像素值的最小值。
圖24是使用對在圖6示出的一維數(shù)據(jù)D2部分放大的數(shù)據(jù)來說明背景像 素值的決定方法的圖。在圖24中，局部區(qū)域的尺寸d設(shè)定為與一維數(shù)據(jù)所 顯出的峰值的峰值寬度大致相同。此外，尺寸d可以適當(dāng)?shù)卣{(diào)整。
在圖24中，例示關(guān)于3個數(shù)據(jù)點A、 B、 C的背景像素值abk、 bbk、 cbk。 此外，數(shù)據(jù)點A是在局部區(qū)域不含有峰值的數(shù)據(jù)點。數(shù)據(jù)點B是峰值位置的 數(shù)據(jù)點。數(shù)據(jù)點C是在局部區(qū)域中含有峰值的一部分的數(shù)據(jù)點。在這些數(shù)據(jù) 點的積算像素值有明顯的差異，但是，與背景像素值之間的差異相比就變得
非常小。
當(dāng)?shù)玫奖尘跋袼刂禃r，對于各數(shù)據(jù)點，從其像素值中減去背景像素值(步
驟S432)。
通過對一維數(shù)據(jù)的所有數(shù)據(jù)點的該減法值進行圖示(plot)，從而生成 除去背景干擾的一維數(shù)據(jù)(檢測用一維數(shù)據(jù))(步驟S433)。
圖25A、圖25B是表示以圖6示出的一維數(shù)據(jù)D2為對象，使局部區(qū)域 的尺寸d與峰值寬度大致相同，從而生成檢測用一維數(shù)據(jù)時的圖。圖25A是 表示背景像素值數(shù)據(jù)Db的圖，該背景像素值數(shù)據(jù)Db表示基于檢測用一維 數(shù)據(jù)而得到的背景像素值和排列方向上的坐標(biāo)值的關(guān)系。即，圖25A表示圖 6示出的一維數(shù)據(jù)D2中的背景干擾。圖25A表示背景干擾作為幾乎平滑且 變動少的曲線而被捕捉的情況。另一方面，圖25B是表示通過從圖6所示的 一維數(shù)據(jù)D2中減去各數(shù)據(jù)點中的背景像素值而得到的一維數(shù)據(jù)，即檢測用 一維數(shù)據(jù)D3的圖。當(dāng)將圖6和圖25B進行對比時可知，在對檢測用一維數(shù) 據(jù)D3進行圖示的圖25B中，背景干擾被適當(dāng)?shù)爻?，可在整個范圍清楚地 觀察峰值。
圖26A、圖26B和圖27A、圖27B是表示以該圖6示出的一維數(shù)據(jù)D2 為對象、使用了錯誤的局部區(qū)域的尺寸d時的結(jié)果的圖。
圖26A、圖26B是表示將局部區(qū)域的尺寸d設(shè)定為小于峰值寬度時的結(jié) 果的圖。圖26A是表示背景干擾的圖，但是與圖25A示出的情況不同，出 現(xiàn)細(xì)微的變動。這是意味著根據(jù)數(shù)據(jù)點的不同而背景像素值表現(xiàn)出受到峰值 的影響的結(jié)果。伴隨于此，在圖26B示出的背景像素值的減法結(jié)果中，不僅 背景干擾成分，甚至連峰值成分也被減去，從而導(dǎo)致峰值變小。
圖27A是表示將局部區(qū)域的尺寸d設(shè)定為大于峰值寬度時的結(jié)果的圖。 如圖27A所示，背景干擾被捕捉為平滑的曲線，但是背景像素值自身的等級 小于圖25A示出的情況。伴隨于此，在圖27B示出的除去背景像素值后的一 維數(shù)據(jù)中，還殘留著背景干擾的成分。即，這表示沒有充分除盡背景干擾的 情況。
這些結(jié)果表示優(yōu)選局部區(qū)域的尺寸d與峰值寬度大致相同的情況。 返回到圖18，對得到的檢測用一維數(shù)據(jù)D3的峰值位置進行檢測處理(歩 驟S44)。具體地說，通過對得到的檢測用一維數(shù)據(jù)D3所表現(xiàn)的峰形進行
微分，通過求出極大值點來確定峰值位置。通過該處理而得到的峰值位置與 由搬送機構(gòu)114保持的基板W的位置相對應(yīng)。得到的峰值位置的信息作為 檢測基板信息而存儲在存儲器Ml中。
如以上說明，在本實施方式中，預(yù)先求出成為基板的排列方向和圓周方 向的方向，通過沿該排列方向進行積算操作，從而生成檢測用一維數(shù)據(jù)，該 積算操作是在該圓周方向?qū)ε袛酁闃?gòu)成基板的邊緣部分的像的像素的像素 值進行積算的操作，因而在每次得到拍攝圖像數(shù)據(jù)時不需要根據(jù)該拍攝圖像 數(shù)據(jù)的內(nèi)容來計算基板的排列方向和圓周方向，從而使基板檢測處理簡化。 由此，例如，即使在得到的邊緣部分的像具有復(fù)雜的形狀，直接確定其排列 方向和圓周方向困難的情況下，即使不確定這種排列方向和圓周方向，也能 夠生成必要的一維數(shù)據(jù)。此時，僅在圓周方向上的邊緣部分的像近似為直線 的范圍內(nèi)進行積算，從而抑制在檢測用一維數(shù)據(jù)中出現(xiàn)不需要的峰值的情 況。
另外，通過生成除去了背景干擾的檢測用一維數(shù)據(jù)，從而能夠更正確地 確定與基板的保持位置相對應(yīng)的峰值位置。并且，即使使用在熄滅照明光的 狀態(tài)下的圖像數(shù)據(jù)并且不做成強調(diào)基板邊緣部分的像，也可除去背景干擾。
<修正處理>
最后，針對圖12的步驟S5中的修正處理進行說明。該修正處理為如下
這樣的處理如上所述，修正與搬送機構(gòu)114的各保持槽115中所保持的各
基板W相對應(yīng)的檢測用一維數(shù)據(jù)的峰值位置的偏差，該偏差產(chǎn)生的原因是 由于在搬送機構(gòu)114保持的基板W的總重量而導(dǎo)致產(chǎn)生如圖9所示那樣的 基板W的保持位置的偏差。
該修正處理是在如下的假定條件下進行的處理在各保持槽115中保持 的各個基板W的假定的保持位置都僅依賴于基板W的總重量而發(fā)生線性變 動。此外，由于被保持的各個基板W的重量被認(rèn)為恒定，所以結(jié)果是該假 定與下述這樣的假定等效，即，各個基板W的保持位置僅依賴于在搬送機 構(gòu)114保持的基板W的個數(shù)而發(fā)生變動。
圖28是針對在該假定下的在搬送機構(gòu)114的某個保持槽115中保持的 基板W (將其特別稱為關(guān)注基板(注目基板))，表示由檢測處理部153確 定的峰值位置和搬送機構(gòu)114保持的基板W的個數(shù)的對應(yīng)關(guān)系的圖。
如圖28所示，將搬送機構(gòu)114保持N1個、N2個(N1^N2)的基板W 情況下的、將關(guān)注基板的保持位置(在排列方向坐標(biāo)的位置)分別設(shè)為X1、 X2，將保持Nk個基板W時的保持位置設(shè)為Xk時，Xk的值由下面的公式 求出。 (公式15)
例如，在搬送機構(gòu)114具有N個保持槽115的情況下，當(dāng)設(shè)Nh2 (相 當(dāng)于僅在兩端的保持槽115中保持有基板W的情況)、N2=N (相當(dāng)于在所 有的保持槽中保持有基板W的情況)并從一維數(shù)據(jù)中預(yù)先求出各情況下的 保持位置XI、 X2時，由上述公式得到的位置Xk則指示了在保持有任意Nk 個基板W的情況下的關(guān)注基板的保持位置。
另外，在該情況下，差分值Xk-X2 (實際上從公式14的右邊第一項求 出的值)表示在保持有N個基板W情況下的關(guān)注基板的保持位置和在保持 有Nk個基板w時的保持位置之間的偏差。
艮口，由于可以認(rèn)為，在檢測處理部153中確定的，保持有Nk個基板W 時的一維數(shù)據(jù)的峰值位置，相對于保持有N個基板W時的峰值位置，含有 相當(dāng)于上述的差分值的偏差，所以通過用確定的峰值位置所表示的坐標(biāo)值減 去上述差分值，從而得到了表示在所有的保持槽115中都保持有基板W的 情況下檢測到的位置和假想的位置的坐標(biāo)值。
上述的在所有的保持槽115中保持有基板W狀態(tài)下的關(guān)注基板的實際 保持位置(也就是，保持關(guān)注基板的保持槽115的位置或者基板槽號碼)必 定與由一維數(shù)據(jù)求出的位置X2 —對一地對應(yīng)，所以若將保持有任意Nk個 基板W時的關(guān)注基板的位置Xk減去上述差分值，則能夠可靠地確定在位置 Xk中檢測出的峰值是表示存在于哪個保持位置的基板W的峰值。即，該運 算處理相當(dāng)于關(guān)于關(guān)注基板的修正處理。
但是，對于在各保持槽115中保持有基板的情況，運用公式15的式子 進行修正很復(fù)雜。因此，在本實施方式中，僅對于在搬送機構(gòu)114的某確定 的兩個地方的保持槽115中保持的基板W (將它們稱為修正基準(zhǔn)基板)的峰 值位置進行修正時，使用上述的關(guān)系，對于在其他保持槽115保持的基板W(關(guān)注基板)，基于兩個修正基準(zhǔn)基板、關(guān)注基板的位置關(guān)系和兩個修正基 準(zhǔn)基板的修正后的保持位置來修正保持位置。此外，保持有修正基準(zhǔn)基板的 保持槽115的位置并不特別限定，但是從修正的精度的角度來看，最好采用 選擇兩端的保持槽115的方式。因此，在下面的說明中，以在N個保持槽 115的兩端保持修正基準(zhǔn)基板的情況為例進行說明。在該情況下，關(guān)注基板
指在保持有兩個修正基準(zhǔn)基板之間的保持槽115之間的保持槽115中保持的
基板w。
圖29是表示該情況下的修正處理的流程圖。另外，圖30是表示由搬送 機構(gòu)114保持的兩個修正基準(zhǔn)基板和關(guān)注基板的保持位置，與搬送機構(gòu)114 保持的基板W的個數(shù)的對應(yīng)關(guān)系的圖。在圖30中，在具有N個保持槽115 的搬送機構(gòu)114在兩端的保持槽115中保持總計兩個基板W的情況下(也 就是僅保持修正基準(zhǔn)基板的情況下)，在保持槽115的第一端保持的修正基 準(zhǔn)基板的峰值位置分別為Xal，在第二端保持的修正基準(zhǔn)基板的峰值位置分 別為Xbl。另外，在該搬送機構(gòu)114所有的保持槽115中保持有基板W的 情況下，在保持槽115的第一端上保持的修正基準(zhǔn)基板的峰值位置分別為 Xa2，在第二端上保持的修正基準(zhǔn)基板的峰值位置分別為Xb2。
在修正處理中，首先在實際處理之前，在容置這兩個基板的情況下以及 容置全部N個基板的情況下，通過在檢測處理部153中進行基板檢測處理， 從而事先求出峰值位置Xal、 Xbl、 Xa2、 Xb2，在存儲器M1中存儲該結(jié)果 (歩驟S51、 S52)。在對于由同一搬送機構(gòu)114搬送的基板W以同一條件 進行基板檢測的情況下反復(fù)使用該Xal、 XM、 Xa2、 Xb2的值。
并且，在實際執(zhí)行修正處理時，首先取得在檢測處理部153中確定的， 與成為基板檢測處理的對象的在保持狀態(tài)下的基板W的保持位置相對應(yīng)的 峰值位置的信息(步驟S53)。此外，此時根據(jù)峰值位置的數(shù)據(jù)數(shù)量(也就 是峰值的個數(shù))也一并取得關(guān)于保持個數(shù)Nk的信息。
在這里，如圖30所示，設(shè)在保持有Nk個基板時的任意的保持槽115中 保持的關(guān)注基板的峰值位置為Xk、在第一端和第二端保持的修正基準(zhǔn)基板 的峰值位置分別為Xak、 Xbk、在所有的保持槽115中保持有基板W時的關(guān) 注基板的峰值位置為Xk'。
在第一端保持的修正基準(zhǔn)基板的峰值位置Xak是通過在公式14中設(shè)
Xl=Xal、 X2^Xa2而求出的線段La上的點，在第二端保持的修正基準(zhǔn)基板 的峰值位置Xbk是通過在公式14中設(shè)Xl=Xbl、 X2=Xb2而求出的線段Lb 上的點。
另一方面，對于關(guān)注基板，也假定其峰值位置同樣地呈直線變化。保持 有Nk個基板W時的峰值位置Xk存在于為Xak和Xbk之間，另一方面，在 所有的保持槽115保持有基板W時的峰值位置Xk'存在于位置Xa2和Xb2 之間，因而認(rèn)為妥當(dāng)?shù)淖龇ㄊ沁B接兩者的線段表示關(guān)于關(guān)注基板的峰值位 置的變化。這也就意味著下面的關(guān)系成立。 (公式16)
<formula>formula see original document page 39</formula>
由該公式，峰值位置Xk'求出如下。 (公式17)
<formula>formula see original document page 39</formula>
由于右邊都是已知的，所以通過代入各值，從而確定在搬送機構(gòu)114保 持Nk個基板的情況下的提供峰值位置Xk的基板W，并確定在所有的保持 槽115中保持有基板W的情況下的峰值位置Xk，(步驟S54)。由于該確 定的峰值位置Xk'必定與在所有的保持槽115中保持有基板W狀態(tài)下的實 際的保持位置相對應(yīng)(容置在以實際的保持位置位為基準(zhǔn)的某個閾值范圍 內(nèi))，所以針對取得的所有峰值由上式確定峰值位置Xk'，從而能夠確定 Nk個基板W保持在搬送機構(gòu)114的哪個保持槽中。
如上所述，在不修正基于在圖10中以虛線表示的一維數(shù)據(jù)而確定的峰 值位置，并且直接表示為基板W的保持位置的情況下，會如圖ll所示那樣 錯誤地判定保持位置，但是，通過對所確定的峰值位置實施如上述那樣的修 正處理，從而能夠確定正確的保持位置。即，實現(xiàn)基板的保持位置的確定精 度的提高。
<檢測力判定處理的變形例>
在上述實施方式中，在取得拍攝圖像數(shù)據(jù)后且由檢測處理部153進行檢 測處理之前的時刻，進行檢測力判定處理，但是也能夠取代它， 一旦在檢測 處理部153中生成一維數(shù)據(jù)后，也能夠以該一維數(shù)據(jù)為對象來進行。圖31
是表示該情況下的檢測力判定處理的流程圖。
首先，與圖12的步驟S1同樣，拍攝機構(gòu)120進行拍攝，基于該拍攝結(jié)
果，圖像輸入部140生成拍攝圖像數(shù)據(jù)(步驟S61)。在作為檢測用圖像數(shù)
據(jù)而使用合成圖像數(shù)據(jù)的情況下，以不同的曝光量進行多次拍攝。
接著，基于得到的拍攝圖像數(shù)據(jù)，檢測處理部153生成一維數(shù)據(jù)(步驟 S62)。該處理除了將不經(jīng)上述的檢測力判定處理的拍攝圖像數(shù)據(jù)或合成圖 像數(shù)據(jù)作為對象以外，實質(zhì)上與在圖18的步驟S41和S42進行的處理相同。
當(dāng)?shù)玫揭痪S數(shù)據(jù)時候，檢測力判定處理部151進行對該一維數(shù)據(jù)表現(xiàn)的 峰形的微分以及使微分值絕對值化的微分處理(步驟S63)。該微分處理的 結(jié)果是將得到的數(shù)據(jù)稱為微分?jǐn)?shù)據(jù)。
當(dāng)?shù)玫轿⒎謹(jǐn)?shù)據(jù)時，以此為對象做成微分值直方圖(步驟S64)。在這 里，直方圖是通過以微分?jǐn)?shù)據(jù)取得的所有的微分值為橫軸，對關(guān)于各微分值 的度數(shù)計數(shù)來得到的。
當(dāng)做成微分值直方圖時，取代上述實施方式的檢測力判定處理中的濃度 直方圖，以該微分值直方圖為對象，進行2值化閾值和類別分離度的計算(步 驟S65)、銳化值的計算(步驟S66)、檢測力判定(步驟S67)，所述檢 測力判定是通過對得到的銳化值和在進行基板檢測處理前預(yù)先存儲在存儲 器M1中的基準(zhǔn)值進行比較來進行的。
在銳化值大于基準(zhǔn)值的情況下(在步驟S67為"是")，判定檢測力判 定對象數(shù)據(jù)具有足以確定基板的保持位置的檢測力。在該情況下，接著，檢 測處理部153進行背景干擾的除去(步驟S68)，生成檢測用一維數(shù)據(jù)，檢 測由該檢測用一維數(shù)據(jù)表現(xiàn)的峰形的峰值位置(步驟S69)。接著，在經(jīng)過 修正處理部154的修正處理(步驟S70)后，通過基板有無判定部210進行 基板有無的判定(步驟S71)。
另一方面，在銳化值為基準(zhǔn)值以下的情況下(在步驟S67為"否")， 判定出檢測力判定對象數(shù)據(jù)不具有檢測力。在該情況下，與上述實施方式同 樣，后面的基板檢測處理被中止，執(zhí)行促使給定處置的給定的警告處理(警 告音的發(fā)生或警告顯示的執(zhí)行等)，該給定處置例如是腔室110的清洗等。
在該情況下，能夠從基板的檢測處理對象中除去不適于檢測基板的一維 數(shù)據(jù)。由此來實現(xiàn)高精度的基板檢測。
權(quán)利要求
1.一種基板檢測裝置，在對基板進行給定的處理的基板處理裝置中，檢測在能夠保持多個基板的給定的保持機構(gòu)上保持的基板的保持狀態(tài)，其特征在于，具有照明機構(gòu)，其在給定的檢測執(zhí)行位置，對在所述保持機構(gòu)上保持的基板照射照明光，拍攝圖像生成機構(gòu)，其對照射了所述照明光的基板進行拍攝，生成拍攝圖像數(shù)據(jù)，保持位置確定機構(gòu)，其基于由所述拍攝圖像數(shù)據(jù)表現(xiàn)的基板的拍攝圖像，確定在所述保持機構(gòu)中的基板的保持位置，保持狀態(tài)判定機構(gòu)，其將由所述保持位置確定機構(gòu)確定的基板的保持位置和作為所述基板的保持位置而預(yù)先假定的假定保持位置進行比較，在兩者一致的情況下，生成所述基板的保持狀態(tài)為正常這樣的檢測結(jié)果，在兩者不一致的情況下，生成所述基板的保持狀態(tài)有異常這樣的檢測結(jié)果；所述保持位置確定機構(gòu)通過沿著預(yù)定的基板的排列方向進行操作，從而在生成表示積算值相對于所述排列方向的變化的峰形數(shù)據(jù)后，基于在所述峰形數(shù)據(jù)所表示出的峰值位置，確定所述基板的保持位置，其中，所述操作是在預(yù)定的基板的圓周方向上對在所述拍攝圖像中構(gòu)成基板的像的像素的像素值進行積算的操作。
2. 如權(quán)利要求l所述的基板檢測裝置，其特征在于， 僅在所述圓周方向中的所述基板的像近似為直線的范圍內(nèi)，對在所述拍攝圖像中被判定為構(gòu)成基板的像的像素的像素值進行積算。
3. 如權(quán)利要求1或2所述的基板檢測裝置，其特征在于， 所述排列方向通過求出回歸直線來確定，所述回歸直線表示關(guān)于在成為基準(zhǔn)的拍攝圖像中分別被視為基板的像的多個區(qū)域的重心位置的分布。
4. 如權(quán)利要求3所述的基板檢測裝置，其特征在于， 所述圓周方向通過在統(tǒng)計上代表角度的值來確定，所述角度是表示關(guān)于所述多個區(qū)域各自的主軸方向的角度。
5. 如權(quán)利要求1或2所述的基板檢測裝置，其特征在于，所述保持位置確定機構(gòu)在從所述峰形數(shù)據(jù)中除去背景成分后，基于在所述峰形數(shù)據(jù)所表示的峰值位置而確定所述基板的保持位置。
6. 如權(quán)利要求5所述的基板檢測裝置，其特征在于，所述保持位置確定機構(gòu)對于所述峰形數(shù)據(jù)上的各數(shù)據(jù)點來確定以所述 數(shù)據(jù)點為中心的局部區(qū)域，根據(jù)在所述局部區(qū)域的范圍內(nèi)包含的像素值來決 定與關(guān)于所述數(shù)據(jù)點的背景成分相當(dāng)?shù)南袼刂?，以此決定所述背景成分。
7. 如權(quán)利要求6所述的基板檢測裝置，其特征在于，采用屬于所述局部區(qū)域的像素值的最小值來作為與關(guān)于所述數(shù)據(jù)點的 背景成分相當(dāng)?shù)南袼刂怠?br> 8. 如權(quán)利要求1或2所述的基板檢測裝置，其特征在于，所述檢測執(zhí)行位置是在所述基板處理裝置中進行所述給定的處理的腔 室的內(nèi)部的給定位置，并且，所述拍攝圖像生成機構(gòu)經(jīng)由所述腔室的壁而拍 攝在所述檢測執(zhí)行位置上保持的基板。
9. 如權(quán)利要求1或2所述的基板檢測裝置，其特征在于， 還具有檢測力判定機構(gòu)，所述檢測力判定機構(gòu)基于給定的判定基準(zhǔn)，判定所述拍攝圖像數(shù)據(jù)所表現(xiàn)的拍攝圖像是否是具有足以檢測基板的保持狀 態(tài)的檢測力的圖像，僅將表現(xiàn)所述拍攝圖像的所述拍攝圖像數(shù)據(jù)，或者在相同的基板保持狀 況下與該拍攝圖像數(shù)據(jù)一起連續(xù)取得的拍攝圖像數(shù)據(jù)，用于由所述保持位置 確定機構(gòu)進行的所述保持位置的確定，其中這里的拍攝圖像是由所述檢測力 判定機構(gòu)判定為具有所述檢測力的拍攝圖像。
10. —種基板檢測裝置，在對基板進行給定的處理的基板處理裝置中， 檢測在能夠保持多個基板的給定的保持機構(gòu)上保持的基板的保持狀態(tài)，其特征在于，具有照明機構(gòu)，其在給定的檢測執(zhí)行位置，對在所述保持機構(gòu)上保持的基板 照射照明光，拍攝圖像生成機構(gòu)，其對照射了所述照明光的基板進行拍攝，生成拍攝 圖像數(shù)據(jù)，檢測力判定機構(gòu)，其基于給定的判定基準(zhǔn)，判定所述拍攝圖像數(shù)據(jù)所表 現(xiàn)的拍攝圖像是否是具有足以檢測基板的保持狀態(tài)的檢測力的圖像， 保持位置確定機構(gòu)，其基于由所述拍攝圖像數(shù)據(jù)表現(xiàn)的基板的拍攝圖像，確定在所述保持機構(gòu)中的基板的保持位置，保持狀態(tài)判定機構(gòu)，其將由所述保持位置確定機構(gòu)確定的基板的保持位 置和作為所述基板的保持位置而預(yù)先假定的假定保持位置進行比較，在兩者 一致的情況下，生成所述基板的保持狀態(tài)為正常這樣的檢測結(jié)果，在兩者不 一致的情況下，生成所述基板的保持狀態(tài)有異常這樣的檢測結(jié)果；僅將表現(xiàn)由所述檢測力判定機構(gòu)判定為具有所述檢測力的所述拍攝圖 像的所述拍攝圖像數(shù)據(jù)，或者在相同的基板保持狀況下與該拍攝圖像數(shù)據(jù)一 起連續(xù)取得的拍攝圖像數(shù)據(jù)，用于由所述保持位置確定機構(gòu)進行的所述保持 位置的確定。
11. 如權(quán)利要求9或10所述的基板檢測裝置，其特征在于， 所述檢測力判定機構(gòu)在基于所述拍攝圖像數(shù)據(jù)而生成關(guān)于構(gòu)成所述拍攝圖像的像素的像素值的度數(shù)分布后，基于所述度數(shù)分布而計算出用于使所述像素值2值化的2值化閾值、表示所述2值化閾值的妥當(dāng)性的程度的類別 分離度和關(guān)于具有所述2值化閾值以上的值的像素值的平均值，以使所述類 別分離度變?yōu)樽畲螅谒銎骄岛退鲱悇e分離度之積超過給定的基準(zhǔn)值 的情況下，判定為所述拍攝圖像數(shù)據(jù)具有檢測力。
12. 如權(quán)利要求ll所述的基板檢測裝置，其特征在于， 所述檢測力判定機構(gòu)在強調(diào)所述拍攝圖像數(shù)據(jù)的邊緣成分后，生成所述度數(shù)分布。
13. 如權(quán)利要求9或10所述的基板檢測裝置，其特征在于， 所述檢測執(zhí)行位置是在所述基板處理裝置中進行所述給定處理的腔室的內(nèi)部的給定位置，并且，所述拍攝圖像生成機構(gòu)經(jīng)由所述腔室的壁而拍攝 在所述檢測執(zhí)行位置上保持的基板。
14. 如權(quán)利要求13所述的基板檢測裝置，其特征在于， 所述檢測執(zhí)行位置是在所述基板處理裝置中執(zhí)行給定的處理后保持所述基板的位置，所述假定保持位置是預(yù)先確定的在提供給所述給定的處理之前在所述 保持機構(gòu)中的所述基板的保持位置。
15. —種基板處理裝置，對基板進行給定的處理，其特征在于，具有 基板搬送機構(gòu)，其能夠保持多個基板，腔室，其具有藥液槽，照明機構(gòu)，其在所述腔室的內(nèi)部的檢測執(zhí)行位置，對在所述基板搬送機 構(gòu)上保持的基板照射照明光，拍攝圖像生成機構(gòu)，其對照射有所述照明光的基板進行拍攝，生成拍攝 圖像數(shù)據(jù)，保持位置確定機構(gòu)，其基于由所述拍攝圖像數(shù)據(jù)表現(xiàn)的基板的拍攝圖 像，確定在所述基板搬送機構(gòu)中的基板的保持位置，保持狀態(tài)判定機構(gòu)，其將由所述保持位置確定機構(gòu)確定的基板的保持位 置和作為所述基板的保持位置而預(yù)先假定的假定保持位置進行比較，在兩者 一致的情況下，生成所述基板的保持狀態(tài)為正常這樣的檢測結(jié)果，在兩者不 一致的情況下，生成所述基板的保持狀態(tài)有異常這樣的檢測結(jié)果；所述拍攝圖像生成機構(gòu)經(jīng)由所述腔室的壁而拍攝在藥液處理后由所述 基板搬送機構(gòu)保持在所述檢測執(zhí)行位置上的基板，所述藥液處理是通過在所 述藥液槽中浸漬所述基板而進行的處理，所述保持位置確定機構(gòu)通過沿著預(yù)定的基板的排列方向進行操作，從而 在生成表示積算值相對于所述排列方向的變化的峰形數(shù)據(jù)后，基于在所述峰 形數(shù)據(jù)所表示出的峰值位置，確定所述基板的保持位置，其中，所述操作是 在預(yù)定的基板的圓周方向上對在所述拍攝圖像中構(gòu)成基板的像的像素的像 素值進行積算的操作，通過上述處理來檢測在所述藥液處理后保持在所述基板搬送機構(gòu)中的 基板的保持狀態(tài)。
16. 如權(quán)利要求15所述的基板處理裝置，其特征在于，還具有檢測力判定機構(gòu)，所述檢測力判定機構(gòu)基于給定的判定基準(zhǔn)，判 定所述拍攝圖像數(shù)據(jù)所表現(xiàn)的拍攝圖像是否是具有足以檢測基板的保持狀 態(tài)的檢測力的圖像，僅將表現(xiàn)由所述檢測力判定機構(gòu)判定為具有所述檢測力的所述拍攝圖 像的所述拍攝圖像數(shù)據(jù)，或者在相同的基板保持狀況下與該拍攝圖像數(shù)據(jù)一 起連續(xù)取得的拍攝圖像數(shù)據(jù)，用于由所述保持位置確定機構(gòu)進行的所述保持 位置的確定。
17. —種基板處理裝置，對基板進行給定的處理，其特征在于，具有 基板搬送機構(gòu)，其能夠保持多個基板， 腔室，其具有藥液槽，照明機構(gòu)，其在所述腔室的內(nèi)部的檢測執(zhí)行位置，對在所述基板搬送機 構(gòu)上保持的基板照射照明光，拍攝圖像生成機構(gòu)，其對照射了所述照明光的基板進行拍攝，生成拍攝 圖像數(shù)據(jù)，檢測力判定機構(gòu)，其基于給定的判定基準(zhǔn)，判定所述拍攝圖像數(shù)據(jù)所表 現(xiàn)的拍攝圖像是否是具有足以檢測基板的保持狀態(tài)的檢測力的圖像，保持位置確定機構(gòu)，其基于由所述拍攝圖像數(shù)據(jù)表現(xiàn)的基板的拍攝圖 像，確定在所述基板搬送機構(gòu)中的基板的保持位置，保持狀態(tài)判定機構(gòu)，其將由所述保持位置確定機構(gòu)確定的基板的保持位 置和作為所述基板的保持位置而預(yù)先假定的假定保持位置進行比較，在兩者 一致的情況下，生成所述基板的保持狀態(tài)為正常這樣的檢測結(jié)果，在兩者不 一致的情況下，生成所述基板的保持狀態(tài)有異常這樣的檢測結(jié)果；所述拍攝圖像生成機構(gòu)經(jīng)由所述腔室的壁而拍攝在藥液處理后由所述 基板搬送機構(gòu)保持在所述檢測執(zhí)行位置上的基板，所述藥液處理是通過在所 述藥液槽中浸漬所述基板而進行的處理，僅將表現(xiàn)由所述檢測力判定機構(gòu)判定為具有所述檢測力的所述拍攝圖 像的所述拍攝圖像數(shù)據(jù)，或者在相同的基板保持狀況下與該拍攝圖像數(shù)據(jù)一 起連續(xù)取得的拍攝圖像數(shù)據(jù)，用于由所述保持位置確定機構(gòu)進行的所述保持 位置的確定。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能夠正確地檢測處于處理工序中的基板的保持狀態(tài)的基板檢測裝置和具有該裝置的基板處理裝置?；鍣z測裝置具有拍攝圖像生成機構(gòu)，其用于拍攝所保持的基板，生成拍攝圖像數(shù)據(jù)；保持位置確定機構(gòu)，其基于拍攝圖像，確定在保持機構(gòu)中的基板的保持位置；保持狀態(tài)判定機構(gòu)，其將確定的基板的保持位置和假定保持位置進行比較，在兩者一致時生成基板的保持狀態(tài)為正常的檢測結(jié)果，根據(jù)兩者是否一致來生成基板的保持狀態(tài)是否正常的檢測結(jié)果；保持位置確定機構(gòu)基于峰形數(shù)據(jù)所示出的峰值位置而確定基板的保持位置，所述峰形數(shù)據(jù)通過沿預(yù)定的基板的排列方向進行在預(yù)定的基板的圓周方向?qū)?gòu)成基板像的像素的像素值的積算的操作來生成。
文檔編號G01B11/00GK101355045SQ20081014432
公開日2009年1月28日 申請日期2008年7月25日 優(yōu)先權(quán)日2007年7月25日
發(fā)明者佐佐泰志, 吉原一博, 大西浩之, 猿渡健 申請人:大日本網(wǎng)屏制造株式會社