專利名稱：表面檢查裝置及表面檢查方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于對形成在硅晶片等板狀物體的外周邊部的多個面進行攝影來得到該多個面的圖像的表面檢查裝置及表面檢查方法。
背景技術(shù)：
一般來說，在板狀物體的硅晶片的外周邊部由外周面、及該硅晶片的上下一對板面形成邊緣部，邊緣部容易因施加外力而損傷，所以被倒角加工。這樣，在硅晶片的外周邊部存在外周面、及由倒角加工形成的第1錐形面及第2錐形面。
當(dāng)在上述板狀物體的外周邊部形成的3個面上有壓痕、裂縫、微小突起、附著微粒等缺陷時，可能對硅晶片產(chǎn)生致命的不良情況。因此，被倒角加工的硅晶片，需要檢查在外周邊的三個面上是否有壓痕、裂縫、微小突起、附著微粒等缺陷。
過去，提出了一種表面檢查裝置，在進行檢查硅晶片上的外周邊部時，對該外周邊部的多個面進行攝影以得到該多個面的圖像。這樣的現(xiàn)有技術(shù)，例如在下述的專利文獻1及專利文獻2中所示。
即，現(xiàn)有的表面檢查裝置，如圖8中所示，具有第1至第3的CCD攝像機10a、10b、10c作為攝影部。在成為檢查對象的圓盤狀硅晶片100的外周邊部形成外周面101a、由硅晶片100的上表面外緣的倒角形成的上側(cè)錐形面101b、及由硅晶片100的下表面外緣的倒角形成的下側(cè)錐形面101c的3個面。
上述第1CCD攝像機10a配置在與上述外周邊部的外周面101a相對的位置，第2CCD攝像機10b配置在與上側(cè)錐形面101b相對的位置。上述第3CCD攝像機10c配置在與上述下側(cè)錐形面101c相對的位置。
在這樣的狀態(tài)下，通過使硅晶片100以其中心為軸(圖中省略)旋轉(zhuǎn)，第1至第3CCD攝像機10a、10b、10c分別對硅晶片100的外周邊部的外周面101a、上側(cè)錐形面101b及下側(cè)錐形面101c進行攝像。
這樣，分別得到基于從第1CCD攝像機10a輸出的攝像信號的與外周面101a對應(yīng)的圖像、基于從第2CCD攝像機10b輸出的攝像信號的與上側(cè)錐形面101b對應(yīng)的圖像、和基于從第3CCD攝像機10c輸出的攝像信號的與下側(cè)錐形面101c對應(yīng)的圖像。
這些圖像，例如顯示在顯視裝置上。檢查員根據(jù)與在該顯示裝置上所顯示的上述硅晶片100的外周邊部的外周面101a、上側(cè)錐形面101b及下側(cè)錐形面101c分別對應(yīng)的各圖像，檢查在上述外周邊部是否存在裂縫及附著微粒等的缺陷。
專利文獻1(日本)特開2003-139523號公報專利文獻2(日本)特開2003-243465號公報但是，在上述的現(xiàn)有表面檢查裝置中，分別用第1至第3CCD攝像機10a、10b、10c對形成在硅晶片外周邊部的多個面、即外周面101a、上側(cè)錐形面101b及下側(cè)錐形面101c進行攝影，得到每個面的各圖像。
這樣，由于具有3臺CCD攝像機10a、10b、10c，所以裝置本身大型化并且成本會升高。另外，由于需要使從第1至第3CCD攝像機10a、10b、10c分別得到的3個畫面的圖像同步對準(zhǔn)，所以其圖像處理也很復(fù)雜。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決上述現(xiàn)有問題而提出的，其目的在于提供一種表面檢查裝置及表面檢查方法，可以降低成本且小型化，其圖像處理也很容易。
本發(fā)明的表面檢查裝置，對形成在板狀物體外周邊部的多個面進行檢查，其特征在于，包括攝影機構(gòu)，對上述板狀物體的形成有多個面的外周邊部進行攝影；及圖像處理裝置，對利用上述攝影機構(gòu)所得到的圖像進行處理；上述攝影機構(gòu)包括光學(xué)系統(tǒng)，將上述板狀物體的多個面的像引導(dǎo)到同一方向；及單一的攝像機單元，具有攝像面并配置成使通過上述光學(xué)系統(tǒng)引導(dǎo)到同一方向上的多個面的像在上述攝像面上成像。
本發(fā)明的表面檢查方法，對形成在板狀物體外周邊部的多個面進行檢查，其特征在于，包括將在上述板狀物體的外周邊部形成的多個面的各像引導(dǎo)到同一方向的工序；使引導(dǎo)到同一方向的多個面的各像在單一的攝像機單元的攝像面上成像的工序；以及對在上述攝像機單元的攝像面上成像的上述多個面的各像進行圖像處理的工序。
發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明所涉及的表面檢查裝置及表面檢查方法，可以通過單一的攝像機單元得到與成為檢查對象的板狀物體外周邊部上形成的多個面對應(yīng)的圖像，所以可以實現(xiàn)該裝置的低成本化和小型化。
而且，由于板狀物體的外周邊部的多個面的各個像在單一的攝像機單元的攝像面上成像，所以可以對在該攝像面上成像的上述多個面的多個圖像成批地進行處理，從而其圖像處理也變得容易。


圖1是表示本發(fā)明的實施方式所涉及的表面檢查裝置中的攝影機構(gòu)構(gòu)成例的圖。
圖2是表示本發(fā)明的實施方式所涉及的表面檢查裝置中的攝影機構(gòu)的其它構(gòu)成例的圖。
圖3是表示本發(fā)明的實施方式所涉及的表面檢查裝置的基本構(gòu)成的圖。
圖4是表示成為攝影對象的硅晶片的圖。
圖5是表示對圖4中所示的硅晶片的形成有缺口的外周邊部進行攝影時的顯示圖像例的圖。
圖6是表示本發(fā)明的實施方式所涉及的表面檢查裝置中的攝像機構(gòu)另一構(gòu)成例的圖。
圖7是表示采用圖6中所示的攝像機構(gòu)對硅晶片的形成有缺口的外周邊部進行攝影時的顯示圖像例的圖。
圖8是表示現(xiàn)有的表面檢查裝置中的攝影機構(gòu)的構(gòu)成例的圖。
具體實施例方式
下面參照

本發(fā)明的一實施方式。
本發(fā)明的實施方式所涉及的表面檢查裝置的攝影機構(gòu)50，如圖1中所示地構(gòu)成。該表面檢查裝置以板狀的硅晶片100為檢查對象，可檢查其外周邊部的裂縫及附著微粒等缺陷。
在圖1中，硅晶片100放置在轉(zhuǎn)臺110上，隨著該轉(zhuǎn)臺110的旋轉(zhuǎn)，以其軸心Lc為中心旋轉(zhuǎn)。硅晶片100的外周邊部具有外周面101a；上側(cè)錐形面101b，是對該外周面101a和與上述轉(zhuǎn)臺110相對的面相反一側(cè)的面即上表面構(gòu)成的第1邊緣部進行倒角而形成的第1錐形面；及下側(cè)錐形面101c，是對外周面101a和與上述轉(zhuǎn)臺相對的下表面構(gòu)成的第2邊緣部進行倒角而形成的第2錐形面。
在硅晶片100的外周邊部的上側(cè)錐形面101b附近配置有第1導(dǎo)向鏡11，在其下側(cè)錐形面101c附近配置有第2導(dǎo)向鏡12。對第1導(dǎo)向鏡11及第2導(dǎo)向鏡12的傾斜度進行設(shè)定，使由第1導(dǎo)向鏡11反射的上側(cè)錐形面101b的像被引導(dǎo)的方向、與由第2導(dǎo)向鏡12反射的下側(cè)錐形面101c的像被引導(dǎo)的方向在相同方向上平行。
攝像機單元20具有攝像機透鏡20a和攝像機主體20b。攝像機主體20b例如作為攝像元件具有CCD線傳感器(line senser)20c，構(gòu)成為使通過攝像機透鏡20a引導(dǎo)的像在該CCD線傳感器20c的攝像面20d上形成。而且，攝像機單元20具有包括硅晶片100的外周邊部的視野范圍，并配置在由上述的第1導(dǎo)向鏡11及第2導(dǎo)向鏡12引導(dǎo)的上側(cè)錐形面101b的像及下側(cè)錐形面101c的像以聚焦?fàn)顟B(tài)在上述攝像面20d上成像的位置，即，配置在以焦點一致的狀態(tài)成像的位置。
通過使上側(cè)錐形面101b、第1導(dǎo)向鏡11及攝像機單元20的相對位置關(guān)系、與下側(cè)錐形面101c、第2導(dǎo)向鏡12及攝像機單元20的相對位置關(guān)系相同，如上所述，可以使上側(cè)錐形面101b的像和下側(cè)錐形面101c的像同時以聚焦?fàn)顟B(tài)在上述攝像面20d上成像。
硅晶片100的外周面101a的像，通過攝像機單元20的攝像機透鏡20a在攝像機主體20b內(nèi)的攝像面20d上形成。這時，由于從上側(cè)錐形面101b及下側(cè)錐形面101c經(jīng)由第1導(dǎo)向鏡11及第2導(dǎo)向鏡12到攝像機單元20的各光路長度、與從外周面101a到攝像機單元20的光路長度不同，因此，若保持原樣，則外周面101a的像不會以聚焦?fàn)顟B(tài)在攝像機主體20b內(nèi)的攝像面20d上成像。因此，在硅晶片100的外周面101a和攝像機單元20之間設(shè)置由凸透鏡構(gòu)成的校正透鏡13。
通過由該校正透鏡13形成硅晶片100的外周面101a的虛像，可以使從該虛像形成位置到攝像機單元20的光路長度、與從上述上側(cè)錐形面101b及下側(cè)錐形面101c經(jīng)由第1導(dǎo)向鏡11及第2導(dǎo)向鏡12到攝像機單元20的各光路長度對齊。這樣，硅晶片100的外周面101a的像由校正透鏡13及攝像機透鏡20a引導(dǎo)為以聚焦?fàn)顟B(tài)成像在攝像機主體20b內(nèi)的攝像面20d上。
這樣，通過設(shè)置在攝像機單元20和硅晶片100的外周邊部之間的、作為光學(xué)系統(tǒng)的第1導(dǎo)向鏡11、第2導(dǎo)向鏡12及校正透鏡13，使在上述外周邊部的外周面101a、上側(cè)錐形面101b及下側(cè)錐形面101c的各像引導(dǎo)為以聚焦?fàn)顟B(tài)成像在攝像機單元20的攝像面20d上。
并且，在攝像機單元20和硅晶片100的外周面101a之間可以不設(shè)置校正透鏡13。這時，通過攝像機透鏡20a焦點位置的調(diào)整，在外周面101a的像以聚焦?fàn)顟B(tài)成像在攝像面20d的位置，設(shè)置攝像機單元20。
而且，在上側(cè)錐形面101b和攝像機單元20的光路、及下側(cè)錐形面101c和攝像機單元20的光路上，分別設(shè)置由凹透鏡構(gòu)成的校正透鏡。這樣也可以使硅晶片100的外周面101a、上側(cè)錐形面101b及下側(cè)錐形面101c的各像以聚焦?fàn)顟B(tài)成像在攝像機單元20的攝像面20d上。
所謂在上述攝像面20d上的以聚焦?fàn)顟B(tài)的成像，不只是由攝像機單元20攝像的像(實像或虛像)與攝像機透鏡20a的焦點位置一致的情況，也包括該像在攝像機透鏡20a的焦點深度的范圍內(nèi)的情況。
另外，在該表面檢查裝置中設(shè)置有照射硅晶片100的外周邊部的照明裝置(省略圖示)。作為該照明裝置例如可以使用特開2003-139523號公報、及特開2003-243465號公報中公開的裝置中所采用的形狀的光源。
表面檢查裝置的攝像機構(gòu)也可以如圖2中所示地構(gòu)成。
即，這時的攝像機構(gòu)50A具有在攝像機單元20和硅晶片100的外周邊部之間設(shè)置的構(gòu)成光學(xué)系統(tǒng)的方向變換鏡14。方向變換鏡14將通過校正透鏡13引導(dǎo)的硅晶片100外周面101a的像、通過第1導(dǎo)向鏡11引導(dǎo)的上側(cè)錐形面101b的像、及通過第2導(dǎo)向鏡12引導(dǎo)的下側(cè)錐形面101c的像進行反射，使該引導(dǎo)方向大致變換90°。而且，攝像機單元20配置成使由方向變換鏡14反射的各像在攝像機主體20b內(nèi)的CCD線傳感器20c的攝像面20d上成像。
這樣，通過設(shè)置方向變換鏡14，可以將與成為檢查對象的硅晶片100外周邊部相對設(shè)置的攝像機單元20(參照圖1)設(shè)置在硅晶片100斜下方。
包括上述結(jié)構(gòu)的攝影機構(gòu)50、50A的表面檢查裝置的基本構(gòu)成如圖3中所示。即，上述表面檢查裝置如上所述地包括硅晶片100外周邊部配置在成為視野范圍的規(guī)定位置的攝像機單元20、圖像處理裝置30及顯示裝置40。攝像機單元20依次將對應(yīng)于通過轉(zhuǎn)臺110旋轉(zhuǎn)的硅晶片100的外周面101a、上側(cè)錐形面101b、下側(cè)錐形面101c這3個像的圖像信號傳送給圖像處理裝置30。
圖像處理裝置30依次從攝像機單元20取入圖像信號，根據(jù)該圖像信號，將表示由攝像機單元20攝影的圖像的圖像數(shù)據(jù)的1個畫面量在圖像存儲器上展開。然后，圖像處理裝置30將在圖像存儲器上展開的1個畫面量的圖像數(shù)據(jù)依次輸出給顯示裝置40。這樣，在顯示裝置40上顯示該1個畫面量的圖像。
如上所述，由于硅晶片100外周面101a的像、上側(cè)錐形面101b的像、下側(cè)錐形面101c的像這3個像，在攝像機單元20的攝像面20d上成像，所以基于與這3個像對應(yīng)的圖像信號的上述1個畫面量的圖像鮮明地包含這3個像。
從而，在硅晶片100的外周邊部例如圖4中所示地形成缺口102時，在該缺口102進入攝像機單元20的視野范圍時被取入而顯示在顯示裝置40上的圖像如圖5所示。
在圖5中，在顯示裝置40的畫面40a上，顯示對應(yīng)于硅晶片100外周面101a的視野圖像部分Ea、對應(yīng)于夾著該部分的上側(cè)錐形面101b的視野圖像部分Eb及對應(yīng)于下側(cè)錐形面101c的視野圖像部分Ec。
而且，在對應(yīng)于外周面101a的視野圖像部分Ea，顯示包括缺口部201a的外周面圖像200a，在對應(yīng)于上側(cè)錐形面101b的視野圖像部分Eb顯示包括缺口部201b的上側(cè)錐形面圖像200b，在對應(yīng)于下側(cè)錐形面101c的視野圖像部分Ec顯示包括缺口部201c的下側(cè)錐形面圖像200c。
外周面圖像200a、上側(cè)錐形面圖像200b及下側(cè)錐形面圖像200c原來是包含在1個畫面中的圖像。因此，即使不進行這些圖像的同步處理，外周面圖像200a的缺口部201a、上側(cè)錐形面圖像200b的缺口部201b、及下側(cè)錐形面圖像200c的缺口部201 c的畫面40a上的橫向位置也相同。
檢查員觀看在顯示裝置40的畫面40a上作為1個畫面量的圖像顯示的外周面圖像200a、上側(cè)錐形面圖像200b及下側(cè)錐形面圖像200c，可以目視檢查在外周邊部的外周面101a、上側(cè)錐形面101b及下側(cè)錐形面101c上是否有壓痕、裂縫、微小突起或附著微粒等缺陷。
通過上述的表面檢查裝置，用單一的攝像機單元20對硅晶片100的外周邊部進行攝影，從而在顯示裝置40上顯示包括與構(gòu)成該外周邊部的外周面101a、上側(cè)錐形面101b及下側(cè)錐形面101c各像對應(yīng)的鮮明的外周面圖像200a、上側(cè)錐形面圖像200b及下側(cè)錐形面圖像200c的1個畫面量的圖像。從而，不需要像現(xiàn)有技術(shù)那樣對各面單獨地進行攝影的多個攝像機，可以實現(xiàn)裝置的低成本化及小型化。
另外，在圖像處理裝置30中，不對與外周面101a、上側(cè)錐形面101b及下側(cè)錐形面101c像對應(yīng)的圖像數(shù)據(jù)進行單獨的處理，而可以作為1個畫面量的圖像數(shù)據(jù)進行處理。因此，可以減少圖像處理量，并且，如上所述，即使成為檢查對象的硅晶片100旋轉(zhuǎn)，在對應(yīng)于各面的圖像顯示時也不需要取得其同步。因此，在圖像處理裝置30上的處理也比較簡單。
圖6表示表面檢查裝置的再一其它實施方式。并且，與圖1相同的部分附加相同標(biāo)號，省略其詳細說明。
與圖1所示的攝像機構(gòu)50對硅晶片100的外周面101a、上側(cè)錐形面101b及下側(cè)錐形面101c進行攝像相比，圖6中所示的攝像機構(gòu)50B，除這3個面之外，還將硅晶片100的外周邊部上表面100a和外周邊部下表面100b的像通過攝像機單元20的攝像機透鏡20a攝像到攝像機主體20b內(nèi)的攝像面20d上。
即，上述攝像機構(gòu)50B在硅晶片100的外周邊部上表面100a附近配置有第3導(dǎo)向鏡15，在外周邊部上表面100b附近配置有第4導(dǎo)向鏡16。上述第3導(dǎo)向鏡15和第4導(dǎo)向鏡16的傾斜角被設(shè)定成，使由第3導(dǎo)向鏡15反射的外周邊部上表面100a的像被引導(dǎo)的方向及由第4導(dǎo)向鏡16反射的外周邊部下表面100b的像被引導(dǎo)的方向，都與由第1導(dǎo)向鏡11反射的上側(cè)錐形面101b的像及由第2導(dǎo)向鏡12反射的下側(cè)錐形面101c的像被引導(dǎo)的方向在同方向上平行。
硅晶片100的外周邊部上表面100a、及外周邊部下表面100b的像，通過攝像機單元20的攝像機透鏡20a，成像在攝像機主體20b內(nèi)的攝像面20d上。這時，由于從上側(cè)錐形面101b及下側(cè)錐形面101c經(jīng)由第1導(dǎo)向鏡11及第2導(dǎo)向鏡12到攝像機單元20的各光路長度、與從外周邊部上表面100a、外周邊部下表面100b到攝像機單元20的光路長度不同，所以若保持原樣，則外周邊部上表面100a、外周邊部下表面100b的像不能以聚焦?fàn)顟B(tài)在攝像機主體20b內(nèi)的攝像面20d上成像。
因此，在硅晶片100的外周邊部上表面100a和攝像機單元20之間、及外周邊部下表面100b和攝像機單元20之間分別設(shè)置由凹透鏡構(gòu)成的校正透鏡17。
由于通過設(shè)置校正透鏡17可以使兩者的光路長度光學(xué)地對齊，所以當(dāng)硅晶片100的外周邊部上表面100a和外周邊部下表面100b的像經(jīng)過校正透鏡17及攝像機透鏡20a被引導(dǎo)到攝像機主體20b內(nèi)時，這些像能夠以聚焦?fàn)顟B(tài)在CCD線傳感器20c的攝像面20d上成像。
即，在該實施方式中，通過作為光學(xué)系統(tǒng)的第1至第4導(dǎo)向鏡11、12、15、16及校正透鏡13、17，硅晶片100外周邊部的外周面101a、上側(cè)錐形面101b、下側(cè)錐形面101c、外周邊部上表面100a、及外周邊部下表面100b這5個各像被引導(dǎo)為以聚焦?fàn)顟B(tài)在單一攝像機單元20的攝像面20d上成像。
而且，攝像機單元20將與由轉(zhuǎn)臺110旋轉(zhuǎn)的硅晶片100的5個像對應(yīng)的圖像信號，依次傳輸給圖3所示的圖像處理裝置30，在圖像處理裝置30中，依次取入來自攝像機單元20的圖像信號，根據(jù)該圖像信號將表示由攝像機單元20攝像的圖像的圖像數(shù)據(jù)的一個畫面量在圖像存儲器上展開。然后，圖像處理裝置30依次將在圖像存儲器上展開的1個畫面量的圖像數(shù)據(jù)輸出給顯示裝置40。
圖7表示用上述攝像機構(gòu)50B對硅晶片100攝像時在顯示裝置40的畫面40a上所顯示的圖像，是相當(dāng)于圖5的圖。
在圖7中，與圖5的不同點在于，在顯示裝置40的畫面40a內(nèi)，對應(yīng)于硅晶片100的外周邊部上表面100a的視野圖像部分Ed、及對應(yīng)于外周邊部下表面100b的視野圖像部分Ee分別在最上位置、最下位置進行顯示這一點。而且，在對應(yīng)于外周邊部上表面100a的視野圖像部分Ed中表示包括缺口201d的外周邊部上表面圖像200d，在對應(yīng)于外周邊部下表面100b的視野圖像部分Ee中表示包括缺口部201e的外周邊部下表面像200e。
從而，根據(jù)該實施方式，形成外周面圖像200a、上側(cè)錐形面圖像200b、下側(cè)錐形面圖像200c、外周邊部上表面圖像200d及外周邊部下表面圖像200e這5個圖像包含在1個畫面中的圖像。
因此，即使對這5個圖像不進行同步處理，在外周面圖像200a的缺口部201a、上側(cè)錐形面圖像200b的缺口部201b、下側(cè)錐形面圖像200c的缺口部201c、外周邊部上表面圖像200d的缺口部201d及外周邊部下表面圖像200e的缺口部201e的畫面40a上的橫向位置也相同。
結(jié)果，檢查員觀看顯示裝置40的畫面40a，可以目視檢查在硅晶片100的外周邊部的外周面101a、上側(cè)錐形面101b、下側(cè)錐形面101c、外周邊部上表面100a及外周邊部下表面100b上是否有壓痕、裂縫、微小突起或附著微粒等缺陷。
并且，在攝像機單元20和作為檢查對象的硅晶片100的外周邊部之間設(shè)置的光學(xué)系統(tǒng)，不限于圖1、圖2及圖6中所示的結(jié)構(gòu)，只要能夠?qū)?gòu)成其外周邊部的多個面的各個像引導(dǎo)到攝像機單元20，在CCD線傳感器20c的攝像面20d上成像，則不特別限定。
另外，圖像處理裝置30不僅使基于來自攝像機單元20的圖像信號的圖像顯示在顯示裝置40上，還可以通過進行規(guī)定的圖像分析處理，自動進行缺陷的有無判斷、個數(shù)、分類等。
本發(fā)明所涉及的表面檢查裝置及表面檢查方法，可以實現(xiàn)低成本化且小型化，其圖像處理也可變得容易，特別是作為檢查在硅晶片等的外周邊部上形成的多個面的表面檢查裝置及表面檢查方法是有用的。
產(chǎn)業(yè)上的可利用性根據(jù)本發(fā)明所涉及的表面檢查裝置及表面檢查方法，由于采用單一的攝像機單元可以得到與成為檢查對象的板狀物體外周邊部的多個面對應(yīng)的圖像，所以可以實現(xiàn)該裝置的低成本化和小型化。
而且，由于成為檢查對象的板狀物體的外周邊部的多個面的各像在單一攝像機單元的攝像面上成像，可以對在該攝像面上成像的、與上述多個面的多數(shù)像對應(yīng)的圖像成批地進行處理，所以其圖像處理也變得容易。
權(quán)利要求
1.一種表面檢查裝置，對形成在板狀物體的外周邊部的多個面進行檢查，其特征在于，包括攝影機構(gòu)，對上述板狀物體的形成有多個面的外周邊部進行攝影；及圖像處理裝置，對利用上述攝影機構(gòu)所得到的圖像進行處理；上述攝影機構(gòu)包括光學(xué)系統(tǒng)，將上述板狀物體的多個面的像引導(dǎo)到同一方向；及單一的攝像機單元，具有攝像面并配置成使通過上述光學(xué)系統(tǒng)引導(dǎo)到同一方向上的多個面的像在上述攝像面上成像。
2.如權(quán)利要求1所述的表面檢查裝置，其特征在于上述板狀物體的外周邊部具有第1錐形面，對由該板狀物體的外周面、上述板狀物體上的一個板面和上述外周面構(gòu)成的第一邊緣部進行倒角而形成；及第2錐形面，對由上述外周面和上述板狀物體的另一板面構(gòu)成的第2邊緣部進行倒角而形成；上述光學(xué)系統(tǒng)，具有第1導(dǎo)向鏡，對上述第1錐形面的像進行反射，將該像引導(dǎo)到上述攝像機單元；第2導(dǎo)向鏡，對上述第2錐形面的像進行反射，將該像引導(dǎo)到上述攝像機單元；及校正透鏡，設(shè)置在上述攝像機單元和上述外周面之間，使該外周面的像在上述攝像機單元的攝像面上成像。
3.如權(quán)利要求2所述的表面檢查裝置，其特征在于上述光學(xué)系統(tǒng)具有上述第1導(dǎo)向鏡、上述第2導(dǎo)向鏡、及將通過上述校正透鏡引導(dǎo)的上述各面的像向規(guī)定方向反射的方向變換鏡。由上述方向變換鏡反射的上述各面的像，在上述攝像機單元的攝像面上成像。
4.如權(quán)利要求1所述的表面檢查裝置，其特征在于具有放置上述板狀物體的轉(zhuǎn)臺，上述板狀物體通過該轉(zhuǎn)臺旋轉(zhuǎn)。
5.一種表面檢查方法，對形成在板狀物體的外周邊部的多個面進行檢查，其特征在于，包括將在上述板狀物體的外周邊部形成的多個面的各像引導(dǎo)到同一方向的工序；使引導(dǎo)到同一方向的多個面的各像在單一的攝像機單元的攝像面上成像的工序；以及對在上述攝像機單元的攝像面上成像的上述多個面的各像進行圖像處理的工序。
6.如權(quán)利要求5所述的表面檢查方法，其特征在于使成像在上述攝像機單元的攝像面上的上述多個面的各像在攝像面上成像時，使上述板狀物體旋轉(zhuǎn)。
全文摘要
本發(fā)明的表面檢查裝置，用于檢查板狀物體(100)的外周邊部所形成的多個面(101a、101b、101c)，包括對板狀物體形成有多個面的外周邊部進行攝影的攝影裝置(30)；及對通過攝影裝置得到的圖像進行處理的圖像處理裝置；攝影裝置包括光學(xué)系統(tǒng)(11、12、13)，將板狀物體的多個面的像引導(dǎo)到同一方向；及單一的攝像機單元(20)，具有攝像面(20d)并配置成使由光學(xué)系統(tǒng)引導(dǎo)到同一方向的多個面的像在攝像面上成像。
文檔編號G01B11/30GK101069088SQ20058004117
公開日2007年11月7日 申請日期2005年11月30日 優(yōu)先權(quán)日2004年11月30日
發(fā)明者林義典, 西風(fēng)館廣幸, 京屋誠, 泉妻宏治, 長濱弘美, M·清水, 浜谷和彥 申請人:芝浦機械電子株式會社, 東芝陶瓷株式會社