專利名稱：光盤片彎曲試驗(yàn)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明關(guān)于一種光盤片彎曲試驗(yàn)裝置，特別關(guān)于一種通過彎曲試驗(yàn)來檢測劣質(zhì)光盤片的裝置。
背景技術(shù)：
隨著科技的進(jìn)步，光盤片舉凡如CD(Compact Disc)以及DVD(Digital Versatile Disc)等的光學(xué)資料儲(chǔ)存媒體在市場上的需求量也與日俱增，因此光盤片品質(zhì)的好壞也成為消費(fèi)者購買選擇時(shí)的重要考慮因素。
已知的光盤片的生產(chǎn)過程，包括母板制造、光盤片射出成型、電鍍反光層、保護(hù)膠形成以及良率檢測等數(shù)個(gè)過程，就最后的良率檢測過程來說，其檢測范圍包括有光盤片是否有金屬刮痕、反光層電鍍是否均勻、保護(hù)膠是否平均黏于光盤片上以及外觀是否有刮痕、裂痕、斑點(diǎn)或污點(diǎn)等等，由于光盤片的品質(zhì)好壞影響光學(xué)讀寫設(shè)備讀寫入資料的成功率，劣質(zhì)的光盤片在資料讀取時(shí)會(huì)因光學(xué)讀寫設(shè)備的高速旋轉(zhuǎn)而造成破片，更甚者，有可能因此而導(dǎo)致光學(xué)讀寫設(shè)備的損壞。
造成劣質(zhì)的光盤片取決于許多因素，例如材質(zhì)選擇不當(dāng)或不良等，而已知對于檢測此類材質(zhì)差或是具有裂痕的劣質(zhì)光盤片的方法，通常于生產(chǎn)制程線上采用隨機(jī)挑選光盤片利用徒手彎曲或是敲擊光盤片以進(jìn)行檢測，而由于非機(jī)械的檢測裝置，因此多少因?yàn)槿藶榈恼`差(例如每次使用的力道不同)而造成每次檢測的標(biāo)準(zhǔn)不一致，由此，如何能夠讓檢測劣質(zhì)光盤片的步驟標(biāo)準(zhǔn)化，實(shí)乃為當(dāng)前光盤片檢測的重要課題之一。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于上述課題，本發(fā)明的目的為提供一種檢測劣質(zhì)光盤片的光盤片彎曲試驗(yàn)裝置。
為達(dá)上述目的，依本發(fā)明的光盤片彎曲試驗(yàn)裝置，包括一基座、一施力蓋以及至少一第一定位元件。在本發(fā)明中，基座具有一凹槽，凹槽自基座的一表面凹設(shè)，光盤片放置于凹槽上；施力蓋具有一突出部，突出部連接于施力蓋的一表面，光盤片通過施力蓋的突出部而將其壓入凹槽成一彎曲角度；第一定位元件設(shè)置于基座的該表面上，第一定位元件與施力蓋觸接，以使該施力蓋的突出部相對位于該凹槽的開口位置。
承上所述，因依本發(fā)明的光盤片彎曲試驗(yàn)裝置利用一簡單的機(jī)械結(jié)構(gòu)對待檢測光盤片進(jìn)行彎曲試驗(yàn)，因此能讓操作者以均勻施力來檢測出劣質(zhì)的光盤片，更由于操作容易，因此可提供一簡易的標(biāo)準(zhǔn)步驟給光盤片生產(chǎn)制造線上檢測使用。


圖1為一示意圖，顯示本發(fā)明較佳實(shí)施例的光盤片彎曲試驗(yàn)裝置的爆炸示意圖；圖2為一示意圖，顯示依本發(fā)明較佳實(shí)施例的光盤片彎曲試驗(yàn)裝置的組合示意圖；圖3為一示意圖，顯示依本發(fā)明較佳實(shí)施例的光盤片彎曲試驗(yàn)裝置進(jìn)行試驗(yàn)前待測物放置的示意圖；圖4為一示意圖，顯示依本發(fā)明較佳實(shí)施例的光盤片彎曲試驗(yàn)裝置的施力蓋的示意圖；圖5為一示意圖，顯示依本發(fā)明較佳實(shí)施例的光盤片彎曲試驗(yàn)裝置進(jìn)行試驗(yàn)前待測物放置位置的分解示意圖；圖6A～6C為一示意圖，顯示依本發(fā)明較佳實(shí)施例的光盤片彎曲試驗(yàn)裝置進(jìn)行待測物試驗(yàn)時(shí)的剖面示意圖。
圖中符號(hào)說明1 光盤片彎曲裝置11 基座111 凹槽1111凹槽的斜面1112斜面的夾角112 基板的表面12 施力蓋121 突出部122 施力蓋的表面123 通孔124 把手125 緩沖層126 施壓面127 施力蓋的另一表面13 第一定位元件14 第二定位元件2 待測光盤片具體實(shí)施方式
以下將參照相關(guān)附圖，說明依本發(fā)明較佳實(shí)施例的光盤片彎曲試驗(yàn)裝置，其中相同的元件將以相同的參照符號(hào)加以說明。
請參照圖1以及圖2所示，依本發(fā)明較佳實(shí)施例的光盤片彎曲試驗(yàn)裝置1包括一基座11、一施力蓋12、至少一第一定位元件13以及至少一第二定位元件14。
其中，基座11具有一凹槽111，其自基座11的一表面112凹設(shè)；施力蓋12具有一突出部121，突出部121連接于施力蓋12的一表面122，且施力蓋12具有至少一通孔123；第一定位元件13設(shè)置于基座11的該表面112上，且設(shè)于基座11的凹槽111周圍；第二定位元件14則設(shè)置于凹槽111的開口側(cè)邊。
請參照圖3所示，在本實(shí)施例中，一待測的光盤片2放置于凹槽111上，由第二定位元件14限制光盤片2位于凹槽111的開口上，第一定位元件13與施力蓋12觸接，以使施力蓋12的突出部121相對位于凹槽111的開口位置，光盤片2則通過施力蓋12的突出部121將其壓入凹槽111成一彎曲角度，以進(jìn)行彎曲試驗(yàn)。
承上所述，如圖4所示，施力蓋12更包含一緩沖層125，其貼附于突出部的一施壓面126上，此施壓面126為施力蓋12將光盤片2壓入凹槽111時(shí)，突出部121與光盤片2的接觸面，緩沖層125的材質(zhì)可以為泡綿或是橡膠，用以緩沖施力蓋12對光盤片2施壓時(shí)的力道，另外，施力蓋12包含一把手124，其相對于突出部121連接于施力蓋12的另一表面127上，用以方便操作者彎曲試驗(yàn)進(jìn)行時(shí)施力蓋12的提取與放入。
如圖5所示，在本實(shí)施例中，第一定位元件13呈一柱狀，當(dāng)試驗(yàn)進(jìn)行時(shí)，第一定位元件13穿設(shè)過施力蓋12的通孔123，以使突出部121位于凹槽111開口之上，第二定位元件14呈片狀，限制光盤片2于凹槽111的開口上，以利施力蓋12將光盤片2壓入凹槽111中，在本實(shí)施例中，凹槽的底部至少具有兩斜面1111，且斜面1111的夾角1112角度約為90度，另外，此凹槽111也可為一方形凹槽，且施力蓋的突出部121垂直施壓面126的一剖面形狀可為三角形或是長條形。
為使本發(fā)明的內(nèi)容更容易理解，以下將參考圖6A～6C，并舉一實(shí)例，以說明利用本發(fā)明較佳實(shí)施例的光盤片彎曲試驗(yàn)裝置1來測試一劣質(zhì)光盤片2的步驟，其利用機(jī)械結(jié)構(gòu)將光盤片2進(jìn)行彎曲以檢測出材質(zhì)差或是具裂痕的劣質(zhì)光盤片。
如圖6A所示，本發(fā)明較佳實(shí)施例的光盤片彎曲試驗(yàn)裝置1將一待檢測的光盤片2放置于基座11的凹槽111開口上，且由凹槽111開口側(cè)邊的第二定位元件14限制光盤片2的一表面于凹槽111開口上。
如圖6B所示，彎曲試驗(yàn)開始進(jìn)行前，施力蓋12的通孔123與第一定位元件13相對穿設(shè)過而觸接，使施力蓋12的突出部121同時(shí)相對位于基座11凹槽111開口之上，且突出部121面向待測光盤片2的中線，如圖6C所示，彎曲試驗(yàn)進(jìn)行時(shí)，操作者可利用施力蓋12上的把手124，將施力蓋12沿第一定位元件13對待測光盤片2施壓，此時(shí)，施力蓋12的突出部121可與凹槽111兼容而沿光盤片2的中線使待測光盤片2受一均勻力道壓入凹槽111中成一彎曲角度，由于突出部121與光盤片2的接觸面上包含一緩沖層125，因此能夠緩沖人為施壓的力量。
最后，經(jīng)由施力蓋12的把手124將施力蓋12提起，檢測施壓的后的光盤片2是否因材質(zhì)太脆或是具有裂痕而發(fā)生破片現(xiàn)象，因而可將制程中品質(zhì)不佳的光盤片檢驗(yàn)出而加以處理或報(bào)廢。
綜合上述，本發(fā)明的光盤片彎曲試驗(yàn)裝置利用一簡單的機(jī)械結(jié)構(gòu)，對待測光盤片施壓后進(jìn)行彎曲試驗(yàn)，若光盤片的制作材質(zhì)不佳或是具有裂痕等因素，此光盤片將通過此彎曲試驗(yàn)造成的破片現(xiàn)象而檢驗(yàn)出，此光盤片彎曲試驗(yàn)裝置將提供了一標(biāo)準(zhǔn)且簡易的檢測步驟供光盤片生產(chǎn)制造線上使用。
以上所述僅為舉例性，而非為限制性者。任何未脫離本發(fā)明的精神與范疇，而對其進(jìn)行的等效修改或變更，均應(yīng)包含于所述的權(quán)利要求范圍中。
權(quán)利要求
1.一種光盤片彎曲試驗(yàn)裝置，其檢測一劣質(zhì)光盤片，其特征在于，包含一基座，其具有一凹槽，該凹槽自該基座的一表面凹設(shè)，該光盤片放置于該凹槽上；一施力蓋，其具有一突出部，該突出部連接于該施力蓋的一表面，該光盤片通過該施力蓋的突出部而將其壓入該凹槽成一彎曲角度；以及至少一第一定位元件，其設(shè)置于該基座的該表面上，該第一定位元件與該施力蓋觸接，以使該施力蓋的突出部相對位于該凹槽的開口位置。
2.如權(quán)利要求1所述的光盤片彎曲試驗(yàn)裝置，其中該第一定位元件呈一柱狀，其設(shè)立于該基座的凹槽周圍，而該施力蓋具有至少一通孔，該第一定位元件穿設(shè)該通孔。
3.如權(quán)利要求1所述的光盤片彎曲試驗(yàn)裝置，其特征在于，更包含一第二定位元件，其呈片狀，且該第二定位元件設(shè)置于該凹槽的開口側(cè)邊。
4.如權(quán)利要求1所述的光盤片彎曲試驗(yàn)裝置，其中該凹槽的底部至少具有兩斜面，該等斜面的夾角角度約為90度。
5.如權(quán)利要求1所述的光盤片彎曲試驗(yàn)裝置，其中該凹槽為一方形溝槽。
6.如權(quán)利要求1所述的光盤片彎曲試驗(yàn)裝置，其中該突出部的一剖面形狀呈三角形。
7.如權(quán)利要求1所述的光盤片彎曲試驗(yàn)裝置，其中該突出部的一剖面形狀呈長條形。
8.如權(quán)利要求1所述的光盤片彎曲試驗(yàn)裝置，其中該施力蓋包含一緩沖層，該緩沖層貼附于該突出部的一施壓面上，該施壓面為該施力蓋將該光盤片壓入凹槽時(shí)，該突出部與該光盤片的接觸面。
9.如權(quán)利要求8所述的光盤片彎曲試驗(yàn)裝置，其中該緩沖層的材質(zhì)為一泡綿、或是為一橡膠。
10.如權(quán)利要求1所述的光盤片彎曲試驗(yàn)裝置，其中該施力蓋具有一把手，該把手相對于該突出部連接于該施力蓋的另一表面上。
全文摘要
一種光盤片彎曲試驗(yàn)裝置，其檢測一劣質(zhì)光盤片，且包括一基座、一施力蓋以及至少一第一定位元件。其中，基座具有一凹槽，凹槽自基座的一表面凹設(shè)，光盤片放置于凹槽上；施力蓋具有一突出部，突出部連接于施力蓋的一表面，光盤片通過施力蓋的突出部而將其壓入凹槽成一彎曲角度；第一定位元件設(shè)置于基座的該表面上，第一定位元件與施力蓋觸接，以使施力蓋的突出部相對位于該凹槽的開口位置。本發(fā)明是利用一簡單的機(jī)械結(jié)構(gòu)對待檢測的光盤片進(jìn)行彎曲試驗(yàn)，可以讓操作者以均勻施力來檢測出劣質(zhì)的光盤片。
文檔編號(hào)G01N3/20GK1724992SQ200410069928
公開日2006年1月25日 申請日期2004年7月19日 優(yōu)先權(quán)日2004年7月19日
發(fā)明者賴昭平, 潘亭妤, 王茂貴 申請人:精碟科技股份有限公司