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真空腔中傳動(dòng)軸用固定裝置的制造方法

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真空腔中傳動(dòng)軸用固定裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于真空鍍膜腔內(nèi)的固定裝置,具體涉及一種真空腔中傳動(dòng)軸用固定
目.0
【背景技術(shù)】
[0002]傳統(tǒng)的玻璃鍍膜過(guò)程中,傳動(dòng)軸是直接固定安裝軸承座上,由于傳動(dòng)軸和軸承座都是采用金屬材料制成,在傳動(dòng)軸和軸承座相對(duì)運(yùn)動(dòng)時(shí)會(huì)放電;而在進(jìn)行鍍膜時(shí),傳動(dòng)軸上的靶材會(huì)發(fā)射陰極離子束,由于放電的干擾,致使靶材難以正常發(fā)射陰極離子束,陰極離子束的降低會(huì)嚴(yán)重影響玻璃表面的鍍膜層,致使鍍膜玻璃的質(zhì)量難以達(dá)到生產(chǎn)的需求。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中的上述不足,本實(shí)用新型提供真空腔中傳動(dòng)軸用固定裝置能夠確保靶材正常發(fā)射陰極離子束,從而改善了鍍膜玻璃的質(zhì)量。
[0004]為了達(dá)到上述發(fā)明目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為:
[0005]提供一種真空腔中傳動(dòng)軸用固定裝置,其包括用于固定傳動(dòng)軸的軸承座,軸承座上開設(shè)有一貫穿其的通孔,在通孔內(nèi)固定安裝有一陶瓷軸承;傳動(dòng)軸采用過(guò)盈配合的方式固定安裝在陶瓷軸承上;
[0006]軸承座固定安裝在機(jī)體底座上,連接機(jī)體底座和軸承座的連接結(jié)構(gòu)所在處及軸承座與機(jī)體底座接觸面處設(shè)置有防止金屬部件間放電影響靶材上陰級(jí)離子束正常形成的絕緣結(jié)構(gòu)。
[0007]本實(shí)用新型的有益效果為:該固定裝置通過(guò)絕緣的陶瓷軸承進(jìn)行傳動(dòng)軸的安裝,并在軸承座與機(jī)體底座之間只要涉及金屬接觸的地方都安裝上絕緣物質(zhì),傳動(dòng)軸在進(jìn)行動(dòng)力傳輸時(shí),金屬部件之間不會(huì)出現(xiàn)放電,確保了靶材正常發(fā)射陰極離子束,提高了陰級(jí)濺射的穩(wěn)定性,進(jìn)而改善了鍍膜玻璃的質(zhì)量。
【附圖說(shuō)明】
[0008]圖1為真空腔中傳動(dòng)軸用固定裝置的局部剖視圖。
[0009]圖2為真空腔中傳動(dòng)軸用固定裝置的剖視圖。
[0010]其中,1、軸承座;2、座底絕緣墊片;3、鎖緊螺栓;4、絕緣墊圈;5、絕緣套;6、機(jī)體底座;7、傳動(dòng)軸;8、陶瓷軸承。
【具體實(shí)施方式】
[0011]下面對(duì)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行描述,以便于本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員理解本實(shí)用新型,但應(yīng)該清楚,本實(shí)用新型不限于【具體實(shí)施方式】的范圍,對(duì)本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)講,只要各種變化在所附的權(quán)利要求限定和確定的本實(shí)用新型的精神和范圍內(nèi),這些變化是顯而易見(jiàn)的,一切利用本實(shí)用新型構(gòu)思的實(shí)用新型創(chuàng)造均在保護(hù)之列。
[0012]參考圖1和圖2,圖1示出了真空腔中傳動(dòng)軸用固定裝置的局部剖視圖;圖2示出了真空腔中傳動(dòng)軸用固定裝置的剖視圖。
[0013]如圖1和圖2所示,該真空腔中傳動(dòng)軸用固定裝置包括用于固定傳動(dòng)軸7的軸承座1,在軸承座I上開設(shè)有一個(gè)貫穿其的通孔,通孔內(nèi)固定安裝有一陶瓷軸承8 ;傳動(dòng)軸7采用過(guò)盈配合的方式固定安裝在陶瓷軸承8上。
[0014]為了保證力矩穩(wěn)定地傳輸,軸承座I和傳動(dòng)軸7均采用耐磨且硬度較大金屬材質(zhì)做成,在鍍膜時(shí)金屬材質(zhì)之間相互摩擦?xí)?duì)陰極離子束正常形成產(chǎn)生一定的影響,本方案的陶瓷軸承8的引入,使軸承座I和傳動(dòng)軸7不能直接接觸,形成了第一道絕緣保護(hù)措施。
[0015]軸承座I固定安裝在機(jī)體底座6上,連接機(jī)體底座6和軸承座I的連接結(jié)構(gòu)所在處及軸承座I與機(jī)體底座6接觸面處設(shè)置有防止金屬部件間放電影響靶材上陰級(jí)離子束正常形成的絕緣結(jié)構(gòu)。
[0016]絕緣結(jié)構(gòu)的引入,在機(jī)體底座6和軸承座I之間形成了第二道利于陰極離子束的正常產(chǎn)生的絕緣保護(hù)措施。第一道絕緣保護(hù)措施和第二道絕緣保護(hù)措施的共同作用使原本相互接觸的金屬接觸部件被完全分隔開了。
[0017]在本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中,本方案優(yōu)選連接機(jī)體底座6和軸承座I的連接結(jié)構(gòu)為分別設(shè)置在軸承座I兩側(cè)的至少一顆鎖緊螺栓3。此處,鎖緊螺栓3數(shù)量的選取可以根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)力矩傳遞大小選擇多顆鎖緊螺栓3。
[0018]在本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中,優(yōu)選絕緣結(jié)構(gòu)為軸承座I與機(jī)體底座6之間設(shè)置的座底絕緣墊片2、鎖緊螺栓3與軸承座I之間設(shè)置的絕緣套5和鎖緊螺栓3的栓帽與軸承座I上表面之間設(shè)置的絕緣墊圈4。
[0019]其中,座底絕緣墊片2的尺寸設(shè)置成大于軸承座I的底面尺寸,這樣設(shè)計(jì)后,可以完全杜絕軸承座I在受壓時(shí)出現(xiàn)與機(jī)體底座6接觸的現(xiàn)象。絕緣套5采用過(guò)盈配合的方式安裝在鎖緊螺栓3與軸承座I之間。
[0020]在本方案中,優(yōu)選絕緣結(jié)構(gòu)的組成部件座底絕緣墊片2、螺栓絕緣墊圈4和絕緣套5均采用聚四氟乙烯(PTFE)制成,這樣絕緣結(jié)構(gòu)的使用溫度可達(dá)250攝氏度,并可以抵抗1500伏的高電壓,絕緣效果非常好。
[0021]雖然結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行了詳細(xì)地描述,但不應(yīng)理解為對(duì)本專利的保護(hù)范圍的限定。在權(quán)利要求書所描述的范圍內(nèi),本領(lǐng)域技術(shù)人員不經(jīng)創(chuàng)造性勞動(dòng)即可做出的各種修改和變形仍屬本專利的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.真空腔中傳動(dòng)軸用固定裝置,包括用于固定傳動(dòng)軸的軸承座,其特征在于:所述軸承座上開設(shè)有一貫穿其的通孔,在所述通孔內(nèi)固定安裝有一陶瓷軸承;所述傳動(dòng)軸采用過(guò)盈配合的方式固定安裝在所述陶瓷軸承上; 所述軸承座固定安裝在機(jī)體底座上,連接所述機(jī)體底座和所述軸承座的連接結(jié)構(gòu)所在處及所述軸承座與所述機(jī)體底座接觸面處設(shè)置有防止金屬部件間放電影響靶材上陰級(jí)離子束正常形成的絕緣結(jié)構(gòu)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空腔中傳動(dòng)軸用固定裝置,其特征在于:連接所述機(jī)體底座和所述軸承座的連接結(jié)構(gòu)為分別設(shè)置在所述軸承座兩側(cè)的至少一顆鎖緊螺栓。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空腔中傳動(dòng)軸用固定裝置,其特征在于:所述絕緣結(jié)構(gòu)為所述軸承座與所述機(jī)體底座之間設(shè)置的座底絕緣墊片、所述鎖緊螺栓與所述軸承座之間設(shè)置的絕緣套和鎖緊螺栓的栓帽與軸承座上表面之間設(shè)置的絕緣墊圈。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空腔中傳動(dòng)軸用固定裝置,其特征在于:所述座底絕緣墊片的尺寸大于所述軸承座的底面尺寸。5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空腔中傳動(dòng)軸用固定裝置,其特征在于:所述絕緣套采用過(guò)盈配合的方式安裝在所述鎖緊螺栓與所述軸承座之間。6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一所述的真空腔中傳動(dòng)軸用固定裝置,其特征在于:所述絕緣結(jié)構(gòu)采用聚四氟乙烯制成。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了真空腔中傳動(dòng)軸用固定裝置,包括用于固定傳動(dòng)軸的軸承座,軸承座上開設(shè)有一貫穿其的通孔,在通孔內(nèi)固定安裝有一陶瓷軸承;傳動(dòng)軸采用過(guò)盈配合的方式固定安裝在陶瓷軸承上;軸承座固定安裝在機(jī)體底座上,連接機(jī)體底座和軸承座的連接結(jié)構(gòu)所在處及軸承座與機(jī)體底座接觸面處設(shè)置有防止金屬部件間放電影響靶材上陰級(jí)離子束正常形成的絕緣結(jié)構(gòu)。
【IPC分類】F16C35/10
【公開號(hào)】CN204805349
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520432087
【發(fā)明人】賀強(qiáng)
【申請(qǐng)人】中建材(內(nèi)江)玻璃高新技術(shù)有限公司
【公開日】2015年11月25日
【申請(qǐng)日】2015年6月23日
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