本發(fā)明是有關(guān)于一種離合器，特別是指一種摩擦板式離心離合器。

背景技術(shù)：

參閱圖1，現(xiàn)有的摩擦板式離心離合器1是設(shè)置在一傳動軸100上，該摩擦板式離心離合器1包含一套設(shè)于該傳動軸100上的內(nèi)盤11、一設(shè)置于該傳動軸100上且罩覆于該內(nèi)盤11的外盤12、一設(shè)置于該外盤12上的基座13、多個彼此相間隔地設(shè)置在該外盤12與該內(nèi)盤11上的摩擦板14、多個彼此相間隔地環(huán)設(shè)在該基座13上的滾動件15、及一連設(shè)于該內(nèi)盤11上且沿該傳動軸100朝遠(yuǎn)離該外盤12的方向延伸的齒輪軸16。

參閱圖2及圖3，該基座13包括一設(shè)置于該外盤12上的座體131、多個等角度相間隔地形成于該座體131上的安裝槽132、及多個傾斜凸設(shè)于該座體131上且位于每一安裝槽132中的導(dǎo)引軌道133。為方便說明，圖2及圖3是以一安裝槽132與一導(dǎo)引軌道133作說明。

該等滾動件15是可滾動地分別設(shè)置于該等安裝槽132中。每一滾動件15包括一滾動接觸于該導(dǎo)引軌道133上的滾輪151、兩個位于該滾輪15的兩相反側(cè)的導(dǎo)輪152、及一貫穿該滾輪151與該等導(dǎo)輪152的心軸153。該等導(dǎo)輪152的半徑是大于該滾輪15的半徑，使該等導(dǎo)輪152是夾制該導(dǎo)引軌道133，進(jìn)而限制該等導(dǎo)輪152僅能沿該導(dǎo)引軌道133滾動。

再次參閱圖1、圖2及圖3，當(dāng)該傳動軸100的轉(zhuǎn)速大于一定值時，該外盤12轉(zhuǎn)動時所產(chǎn)生的離心力，會迫使該等滾動件15沿每一導(dǎo)引軌道133向遠(yuǎn)離該傳動軸100的方向滾動，進(jìn)而如圖2中假想線所示，迫抵該等摩擦板14而使該等摩擦板14相互抵靠，以帶動該內(nèi)盤11與該傳動齒輪軸16轉(zhuǎn)動并將該傳動軸100的動力輸出。

每一導(dǎo)引軌道133不僅需配合相對應(yīng)滾動件15的滾輪151的尺寸，該導(dǎo)引軌道133與該安裝槽132界定的空間還需配合該等導(dǎo)輪152，以使該滾動件15能順暢地于該安裝槽132內(nèi)沿該導(dǎo)引軌道133滾動，確保該等滾動件15能正常運(yùn)作，因此該滾動件15及該導(dǎo)引軌道133的精度要求較高，造成加工時間較長且成本提高。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

因此，本發(fā)明的目的，即在于提供一種滾動件構(gòu)造簡單的摩擦板式離心離合器。

于是，本發(fā)明摩擦板式離心離合器，包含一殼體單元、一摩擦單元、及一驅(qū)動單元。

該殼體單元包括一內(nèi)盤、一罩設(shè)該內(nèi)盤的外盤、及一由該內(nèi)盤及該外盤所界定出的環(huán)設(shè)空間。

該摩擦單元包括多個相間隔地設(shè)置于該殼體單元的環(huán)設(shè)空間內(nèi)的摩擦板。

該驅(qū)動單元包括一位于該環(huán)設(shè)空間內(nèi)且形成有多個容置空間的基座、及多個分別容置于該等容置空間內(nèi)的滾動件。每一滾動件具有一可滾動地設(shè)置于相對應(yīng)容置空間內(nèi)的轉(zhuǎn)子、及一穿設(shè)該轉(zhuǎn)子的插銷。

每一滾動件可沿相對應(yīng)容置空間在一抵迫位置與一非抵迫位置間滾動，在該抵迫位置時，該滾動件的轉(zhuǎn)子是抵迫該摩擦單元，使該等摩擦板相互抵靠，在該非抵迫位置時，該等摩擦板是不相互抵靠。

本發(fā)明的功效在于：每一滾動件僅由一轉(zhuǎn)子及一插銷構(gòu)成，構(gòu)造簡單且配置容易，每一容置空間僅需考慮對應(yīng)該滾動件的轉(zhuǎn)子即可，可減少加工時間并降低成本，且同樣可達(dá)成離合的功效。

優(yōu)選地，該驅(qū)動單元的每一滾動件還具有一沿軸向貫通該插銷的通孔。

優(yōu)選地，該驅(qū)動單元的基座具有一設(shè)置于該殼體單元的外盤上的底壁部、及多個間隔環(huán)列設(shè)置于該底壁部上的導(dǎo)引壁部，每一容置空間是由該底壁部及兩相鄰導(dǎo)引壁部相配合界定出。

優(yōu)選地，該基座的每一導(dǎo)引壁部具有一遮擋段、及兩個分別設(shè)置 于該遮擋段的兩相反側(cè)且向外傾斜延伸的傾斜段。

優(yōu)選地，每一滾動件的插銷是與相對應(yīng)的兩相鄰導(dǎo)引壁部的相對應(yīng)傾斜段滾動接觸。

優(yōu)選地，每一滾動件的轉(zhuǎn)子是與該基座的底壁部相間隔。

優(yōu)選地，該摩擦單元還包括一底座、及一與該底座相間隔設(shè)置的頂座，該等摩擦板是設(shè)置于該底座及該頂座之間，在該抵迫位置時，該滾動件的轉(zhuǎn)子是抵迫該底座，使該底座抵迫相對應(yīng)摩擦板，而使該等摩擦板相互抵靠。

優(yōu)選地，每一滾動件的轉(zhuǎn)子是可相對于該插銷轉(zhuǎn)動。

優(yōu)選地，該驅(qū)動單元的基座具有一設(shè)置于該殼體單元的內(nèi)盤上的底壁部、及多個間隔環(huán)列設(shè)置于該底壁部上的導(dǎo)引壁部，每一容置空間是由該底壁部及兩相鄰導(dǎo)引壁部相配合界定出。

附圖說明

本發(fā)明的其他的特征及功效，將于參照附圖的實(shí)施方式中清楚地呈現(xiàn)，其中：

圖1是一不完整的剖視圖，說明一已知的摩擦板式離心離合器；

圖2是一示意圖，說明該摩擦板式離心離合器的其中一滾輪的滾動過程；

圖3是一局部零件剖視圖，說明該滾輪的位置配置；

圖4是一不完整的剖視圖，說明本發(fā)明摩擦板式離心離合器的一實(shí)施例；

圖5是一立體圖，說明該摩擦板式離心離合器未連接一傳動軸的態(tài)樣；

圖6是一立體圖，說明本實(shí)施例中的一基座及其中的一滾動件；

圖7是一立體圖，進(jìn)一步說明該滾動件的元件組成；

圖8是一不完整的剖視圖，說明本實(shí)施例中每一滾動件位于一非抵迫位置的態(tài)樣；

圖9是一不完整的剖視圖，進(jìn)一步說明其中一滾動件位于該非抵迫位置的剖視態(tài)樣；及

圖10是一不完整的剖視圖，進(jìn)一步說明該滾動件位于該抵迫位置的剖視態(tài)樣。

具體實(shí)施方式

參閱圖4及圖5，本發(fā)明摩擦板式離心離合器2的一實(shí)施例是配合一傳動軸31(圖5未示)及一齒輪軸32使用。該摩擦板式離心離合器2包含一連接該傳動軸31及該齒輪軸32的殼體單元4、一設(shè)置于該殼體單元4上的摩擦單元5、及一設(shè)置于該殼體單元4內(nèi)的驅(qū)動單元6。

該殼體單元4包括一連接該齒輪軸32而可帶動該齒輪軸32旋轉(zhuǎn)的內(nèi)盤41、一罩設(shè)該內(nèi)盤41且連接該傳動軸31而可被該傳動軸31帶動旋轉(zhuǎn)的外盤42、及一由該內(nèi)盤41及該外盤42所界定出的環(huán)設(shè)空間43。

該摩擦單元5是位于該環(huán)設(shè)空間43內(nèi)，并包括一底座51、一與該底座51相間隔設(shè)置的頂座52、多個穿設(shè)該底座51及該頂座52的導(dǎo)柱53、及多個位于該底座51及該頂座52之間的摩擦板54。該等摩擦板54是間隔交錯地設(shè)置于該殼體單元4的該內(nèi)盤41及該外盤42上。

該驅(qū)動單元6包括一位于該殼體單元4的環(huán)設(shè)空間43內(nèi)的基座61、及多個滾動接觸地相間隔環(huán)設(shè)于該基座61上的滾動件62。

參閱圖4及圖6，該基座61具有一設(shè)置于該殼體單元4的外盤42上且大概呈環(huán)狀的底壁部611、及多個間隔環(huán)列設(shè)置于該底壁部611上的導(dǎo)引壁部612。每一導(dǎo)引壁部612具有一向內(nèi)凸出的遮擋段613、及兩個分別設(shè)置于該遮擋段613的兩相反側(cè)且向外傾斜延伸的傾斜段614。該底壁部611及任兩相鄰導(dǎo)引壁部612相配合而界定出一容置空間615。每一傾斜段614的傾斜面是朝向該內(nèi)盤41，且沿該外盤42的徑向方向傾斜。需要特別說明的是，該底壁部611也可以設(shè)置于該內(nèi)盤41上，以提供另一種配置選擇。

參閱圖4、圖6、及圖7，該等滾動件62是分別設(shè)置于該等容置空間615內(nèi)(圖6中只顯示其中的一個)。每一滾動件62具有一位于 兩相鄰導(dǎo)引壁部612間的轉(zhuǎn)子621、一貫穿該轉(zhuǎn)子621的插銷622、及一沿軸向貫通該插銷622的通孔623。該轉(zhuǎn)子621是位于該兩個導(dǎo)引壁部612的相對應(yīng)傾斜段614之間。該插銷622是由該轉(zhuǎn)子621的兩相反側(cè)向外凸出，且分別與該等傾斜段614滾動接觸。該插銷622的兩相反端面是被該等導(dǎo)引壁部612的遮擋段613擋阻限位，以避免脫落掉出。藉由該插銷622使該轉(zhuǎn)子621是與該底壁部611相間隔而不接觸，以減少摩擦力。此外，該轉(zhuǎn)子621是可相對于該插銷622轉(zhuǎn)動，以進(jìn)一步減少該轉(zhuǎn)子621及該插銷622間因轉(zhuǎn)動摩擦而產(chǎn)生的磨耗。

參閱圖4、圖6、及圖8，該摩擦板式離心離合器2的運(yùn)作過程如下：該傳動軸31將動力輸入而帶動該外盤42旋轉(zhuǎn)，這使得設(shè)置于該外盤42上的基座61、及設(shè)置于該基座61上的該等滾動件62也一起旋轉(zhuǎn)。而當(dāng)轉(zhuǎn)速超過設(shè)定值時，旋轉(zhuǎn)時所產(chǎn)生的離心力會迫使該等滾動件62分別沿該等容置空間615，由如圖9所示的一非抵迫位置滾動至如圖10所示的一抵迫位置。

當(dāng)該等滾動件62位于如圖9所示的該非抵迫位置時，該等滾動件62的轉(zhuǎn)子621是僅接觸而不抵迫該摩擦單元5的底座51，使分別設(shè)置于該外盤42及內(nèi)盤41上的相鄰摩擦板54是相互間隔出空隙而不接觸，從而使該內(nèi)盤41不隨該外盤42旋轉(zhuǎn)。

在由該非抵迫位置滾動至該抵迫位置的過程中，每一轉(zhuǎn)子621是不與該底壁部611接觸，而每一插銷622是在相對應(yīng)導(dǎo)引壁部612的該等傾斜段614上滾動，使該轉(zhuǎn)子621及該插銷622向外移動。

當(dāng)該等滾動件62如圖10所示地位于該抵迫位置時，該等滾動件62的轉(zhuǎn)子621會推動該底座51朝該頂座52的方向移動，進(jìn)而推動該等摩擦板54，迫使該等摩擦板54相互抵靠，以使該外盤42能藉由該等摩擦板54間的摩擦力，帶動該內(nèi)盤41一同旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而驅(qū)動連接該內(nèi)盤41的齒輪軸32旋轉(zhuǎn)，以達(dá)到傳遞動力的功效。

參閱圖7、圖9、及圖10，該等滾動件62結(jié)構(gòu)簡單，每一滾動件62僅由一轉(zhuǎn)子621及一插銷622構(gòu)成，且每一轉(zhuǎn)子621是如圖9及圖10所示地不與該底壁部611接觸，每一容置空間615僅需對應(yīng)該轉(zhuǎn)子621的徑向長度及直徑配置，加工簡單而可降低成本。此外，每一通 孔623的孔徑大小可視需求改變，藉此可調(diào)整該插銷622的重量，提升泛用性，而每一轉(zhuǎn)子621是與相對應(yīng)插銷622存有間隙，故可相對于該插銷622轉(zhuǎn)動，可有效降低該轉(zhuǎn)子621及該插銷622之間的摩擦力。

綜上所述，該等滾動件62構(gòu)件少且加工簡單，可有效降低成本及工序，藉由改變開設(shè)于該等插銷622上的通孔623的孔徑，可調(diào)整該等插銷622的重量，以設(shè)定使該等滾動件62由該非抵迫位置滾動至該抵迫位置的轉(zhuǎn)速值，可增加泛用性，故確實(shí)能達(dá)成本發(fā)明的目的。

以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例而已，當(dāng)不能以此限定本發(fā)明實(shí)施的范圍，凡是依本發(fā)明權(quán)利要求書及專利說明書內(nèi)容所作的簡單的等效變化與修改，都仍屬本發(fā)明專利覆蓋的范圍內(nèi)。

附圖標(biāo)記說明

2 摩擦板式離心離合器 6 驅(qū)動單元

31 傳動軸 61 基座

32 齒輪軸 611 底壁部

4 殼體單元 612 導(dǎo)引壁部

41 內(nèi)盤 613 遮擋段

42 外盤 614 傾斜段

43 環(huán)設(shè)空間 615 容置空間

5 摩擦單元 62 滾動件

51 底座 621 轉(zhuǎn)子

52 頂座 622 插銷

53 導(dǎo)柱 623 通孔

54 摩擦板