1.一種閥門機構，用于開啟或封閉腔室的閥口；其特征在于，包括閥板以及用于驅動所述閥板上升或下降的驅動裝置，其中，
所述閥板設置在所述腔室的內部，且所述閥板與所述閥口分別具有傾斜的對接面，所述閥板的對接面與所述閥口的對接面相互平行；所述閥板通過上升或下降使其對接面與所述閥口的對接面相接觸或相分離，以實現(xiàn)所述閥口的開啟或封閉。
2.根據(jù)權利要求1所述的閥門機構，其特征在于，所述閥板的對接面位于所述閥口的對接面下方。
3.根據(jù)權利要求2所述的閥門機構，其特征在于，所述驅動裝置包括升降軸和氣缸，其中，
所述升降軸豎直設置，且所述升降軸的上端與所述閥板連接，所述升降軸的下端與所述氣缸連接；
所述氣缸用于驅動所述升降軸上升或下降。
4.根據(jù)權利要求2所述的閥門機構，其特征在于，所述驅動裝置包括旋轉組件、升降軸和氣缸，其中，
所述升降軸豎直設置，且所述升降軸的上端通過所述旋轉組件與所述閥板連接；所述升降軸的下端與所述氣缸連接；
所述氣缸用于驅動所述升降軸上升或下降；
所述旋轉組件用于允許所述閥板在預定角度范圍內旋轉，并且旋轉的中心線平行于所述閥板的對接面在水平方向上的中心線，且垂直于所述升降軸。
5.根據(jù)權利要求4所述的閥門機構，其特征在于，所述旋轉組件包括旋轉軸和調節(jié)件，其中
所述旋轉軸沿所述閥板旋轉的中心線設置，且與所述升降軸的 上端連接，并且所述旋轉軸與所述閥板可旋轉地連接；
所述調節(jié)件用于將所述閥板相對于所述旋轉軸旋轉的角度限定在所述預定角度范圍內。
6.根據(jù)權利要求5所述的閥門機構，其特征在于，所述旋轉組件還包括兩個軸承座和兩個滾動軸承，其中，
所述兩個軸承座沿所述閥板旋轉的中心線間隔設置在所述閥板背離其對接面的表面；
每個所述軸承座中設置有一個所述滾動軸承，所述旋轉軸的兩端分別穿過所述兩個滾動軸承，且所述旋轉軸與所述滾動軸承相配合。
7.根據(jù)權利要求5所述的閥門機構，其特征在于，所述調節(jié)件包括固定部，所述固定部固定在所述旋轉軸上，且位于所述兩個滾動軸承之間；并且，在所述固定部上分別設置有第一阻擋部和第二阻擋部，二者均位于所述軸承座的旋轉路徑上，其中，
所述第一阻擋部用于在所述閥板的旋轉角度到達所述預定角度范圍的其中一個邊界值時，阻擋所述軸承座繼續(xù)旋轉；
所述第二阻擋部用于在所述閥板的旋轉角度到達所述預定角度范圍的其中另一個邊界值時，阻擋所述軸承座繼續(xù)旋轉。
8.根據(jù)權利要求4所述的閥門機構，其特征在于，所述閥板與所述閥口的兩個對接面的傾斜角度均為45°。
9.根據(jù)權利要求8所述的閥門機構，其特征在于，所述預定角度范圍為：大于等于43°，并小于等于47°。
10.根據(jù)權利要求5所述的閥門機構，其特征在于，在所述閥板的對接面的上側邊處設置有圓柱，所述圓柱與所述旋轉軸相互平行；
對應地在所述閥口的對接面的上側邊處設置有凹槽，所述閥板 在所述圓柱進入所述凹槽內，并與之相接觸時，無法繼續(xù)上升。
11.根據(jù)權利要求3或4所述的閥門機構，其特征在于，所述閥門機構還包括波紋管組件；
在所述腔室底部的腔室壁上設置有沿其厚度方向貫穿的第一通孔，所述氣缸位于所述腔室的外部，且固定在所述腔室的底部；所述升降軸的下端經(jīng)由所述第一通孔延伸至所述腔室的外部，并與所述氣缸連接；
所述波紋管組件位于所述腔室內，且套設在所述升降軸上，用以對所述升降軸與所述第一通孔之間的間隙進行密封。
12.根據(jù)權利要求3或4所述的閥門機構，其特征在于，所述閥門機構還包括安裝部件和波紋管組件，其中，
在所述腔室底部的腔室壁上設置有沿其厚度方向貫穿的第一通孔，所述安裝部件與所述腔室底部的腔室壁密封連接，且在所述安裝部件的頂部設置有安裝凹槽，所述安裝凹槽與所述第一通孔對接，且在所述安裝部件中，且位于所述安裝凹槽內設置有貫穿其底部厚度的第二通孔；所述氣缸位于所述安裝部件的外部，且固定在所述安裝部件的底部；所述升降軸的下端依次經(jīng)由所述第一通孔和第二通孔延伸至所述腔室的外部，并與所述氣缸連接；
所述波紋管組件位于所述安裝凹槽內，且套設在所述升降軸上，用以對所述升降軸與所述第二通孔之間的間隙進行密封。
13.一種半導體加工設備，包括至少兩個腔室以及用于開啟或封閉相鄰的兩個所述腔室之間的閥口的閥門機構，其特征在于，所述閥門機構采用權利要求1-12任意一項所述的閥門機構。