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用于等離子切割機(jī)雙氣流非高頻引弧控制裝置的制作方法

文檔序號(hào):5798110閱讀:598來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:用于等離子切割機(jī)雙氣流非高頻引弧控制裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種等離子切割機(jī)引弧控制裝置。
背景技術(shù)
目前, 一般等離子切割機(jī)的引弧均須依靠HF (3000V 10000V, 100 200KHZ的高頻脈沖)來(lái)引燃切割等離子弧,其致命的問(wèn)題就是 容易對(duì)電子設(shè)備產(chǎn)生較強(qiáng)的電磁干擾,因此,其使用受到限制,特別是 與CNC配套使用,非常容易干擾控制電腦的正常工作,而數(shù)碼切割是 目前發(fā)展快和應(yīng)用量非常大的生產(chǎn)工藝,利用雙氣流控制非高頻技術(shù), 有效地解決上述問(wèn)題,將大大降低CNC的電磁干擾。由于非高頻割槍 的特殊結(jié)構(gòu)原理,其引弧過(guò)程是依靠氣將電極和噴嘴由短路狀態(tài)推開(kāi)到 非短路狀態(tài),而它們之間通過(guò)引導(dǎo)(PILOT)電路電流形成(拉)電弧, 從而形成PILOT ARC (引導(dǎo)弧即小弧);當(dāng)割槍噴嘴接近工件再形成與 工件間的切割主弧,引弧過(guò)程對(duì)氣流和引弧電流的控制非常敏感,過(guò)大 氣流和過(guò)小電流均會(huì)可能無(wú)法起弧或吹滅電弧,反之會(huì)快速損壞電極噴 嘴甚至槍體而導(dǎo)致無(wú)法正常切割。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)合理,工作效果好的用于等離子切 割機(jī)雙氣流非高頻引弧控制裝置。本發(fā)明的技術(shù)解決方案是一種用于等離子切割機(jī)雙氣流非高頻引弧控制裝置,包括非高頻式 割槍、氣流提供系統(tǒng)、引導(dǎo)電路電流控制開(kāi)關(guān),其特征是氣流提供系 統(tǒng)上設(shè)置分時(shí)氣流裝置,分時(shí)氣流裝置是兩個(gè)并聯(lián)的閥, 一個(gè)為流量較 大的大氣閥,另一個(gè)為流量較小的小氣閥。弓1導(dǎo)電路電流控制開(kāi)關(guān)為IGBT K50T60。所述流量較大的大氣閥 的流量為30 100L/分鐘,流量較小的小氣閥的流量為5 15L/分鐘。兩 個(gè)并聯(lián)的閥是同體雙閥形式。本發(fā)明運(yùn)用并聯(lián)狀態(tài)的大小氣閥來(lái)控制割槍的分時(shí)氣流,同時(shí),通 過(guò)用IGBT K50T60作為引導(dǎo)電路電流控制開(kāi)關(guān),可以獲得精確的電流 控制(PCB設(shè)置在18~20A)和快速反應(yīng),且切割結(jié)束時(shí),用小氣冷卻 電極噴嘴,并隨時(shí)可以重起小弧。


下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明 附圖是本發(fā)明 一個(gè)實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示圖。
具體實(shí)施例方式
一種用于等離子切割機(jī)雙氣流非高頻引弧控制裝 置,包括非高頻式割槍l、氣流提供系統(tǒng)的氣泵2、引導(dǎo)電路電流控制 開(kāi)關(guān)3,氣流提供系統(tǒng)上設(shè)置分時(shí)氣流裝置,分時(shí)氣流裝置是兩個(gè)并聯(lián) 的闊4、 5, 一個(gè)為流量較大的大氣閥4,另一個(gè)為流量較小的小氣閥5。 引導(dǎo)電路電流控制開(kāi)關(guān)3為IGBT K50T60。所述流量較大的大氣閥4 的流量為30 100L/分鐘,流量較小的小氣閥5的流量為5 15L/分鐘。 兩個(gè)并聯(lián)的閥是同體雙閥形式(即設(shè)置在一個(gè)本體上,但各自獨(dú)立工 作)。PCB設(shè)置在18 20A。圖中還有工件6、機(jī)器輸出7、 8。
權(quán)利要求
1. 一種用于等離子切割機(jī)雙氣流非高頻引弧控制裝置,包括非高頻式割槍、氣流提供系統(tǒng)、引導(dǎo)電路電流控制開(kāi)關(guān),其特征是氣流提供系統(tǒng)上設(shè)置分時(shí)氣流裝置,分時(shí)氣流裝置是兩個(gè)并聯(lián)的閥,一個(gè)為流量較大的大氣閥,另一個(gè)為流量較小的小氣閥。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于等離子切割機(jī)雙氣流非高頻引弧控制裝置,其特征是引導(dǎo)電路電流控制開(kāi)關(guān)為IGBT K50T60。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于等離子切割機(jī)雙氣流非高頻引 弧控制裝置,其特征是所述流量較大的大氣閥的流量為30 100L/分鐘, 流量較小的小氣閥的流量為5 15L/分鐘。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于等離子切割機(jī)雙氣流非高頻引 弧控制裝置,其特征是兩個(gè)并聯(lián)的閥是同體雙閥形式。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種用于等離子切割機(jī)雙氣流非高頻引弧控制裝置,包括非高頻式割槍、氣流提供系統(tǒng)、引導(dǎo)電路電流控制開(kāi)關(guān),氣流提供系統(tǒng)上設(shè)置分時(shí)氣流裝置,分時(shí)氣流裝置是兩個(gè)并聯(lián)的閥,一個(gè)為流量較大的大氣閥,另一個(gè)為流量較小的小氣閥。本發(fā)明運(yùn)用并聯(lián)狀態(tài)的大小氣閥來(lái)控制割槍的分時(shí)氣流,同時(shí),通過(guò)用IGBT K50T60作為引導(dǎo)電路電流控制開(kāi)關(guān),可以獲得精確的電流控制(PCB設(shè)置在18~20A)和快速反應(yīng),且切割結(jié)束時(shí),用小氣冷卻電極噴嘴,并隨時(shí)可以重起小弧。
文檔編號(hào)F16K11/10GK101259564SQ20081002406
公開(kāi)日2008年9月10日 申請(qǐng)日期2008年4月25日 優(yōu)先權(quán)日2008年4月25日
發(fā)明者吳建中 申請(qǐng)人:吳建中
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