專利名稱：用于在一個基底上進(jìn)行至少一種工藝作業(yè)的設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于在一個基底上進(jìn)行至少一種工藝作業(yè)的設(shè)備。
已知對基底進(jìn)行一種工藝作業(yè)，例如利用濺射工藝、蒸發(fā)工藝如物理氣相沉積(PVD)、化學(xué)氣相沉積(CVD)或等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)工藝來涂層，以及為獲得特殊性能而對基底退火。
通常，一種所謂基底的批量工藝是已知的，其中大量的基底在一個工藝室內(nèi)同時進(jìn)行同一工藝作業(yè)。這種批量工藝的優(yōu)點是工藝容量大。但是，一個問題是需要對該工藝室內(nèi)存在的所有基底保證同樣的處理條件。
為了解決這個問題，已知在每種情況下將一個單獨的基底引入一工藝室并在其中進(jìn)行一次處理的工藝作業(yè)，即所謂單獨基底工藝作業(yè)。該工藝室中的條件因此可以精確地調(diào)整到適合于工藝室中存在的單獨基底，這能夠更好地控制工藝作業(yè)。
本發(fā)明涉及用于單獨基底工藝作業(yè)的一種設(shè)備和一種設(shè)備組件。
很清楚，在單獨基底的工藝作業(yè)中，從各個工藝室來回輸送基底所需的時間對于該設(shè)備的工藝容量是十分重要的。通常，對基底進(jìn)行工藝作業(yè)需要相當(dāng)大的負(fù)壓。因此希望在打開該工藝室以便在其中放置一個基底時，該工藝室中占優(yōu)勢的負(fù)壓不會喪失。事實是，在該工藝室中重新產(chǎn)生相當(dāng)大的負(fù)壓需要大量時間，單是這一條理由，單獨基底的工藝作業(yè)就已經(jīng)難以以經(jīng)濟(jì)上有利的方式進(jìn)行。此外，有待避免工藝室的污染，因此只能在所謂潔凈房中打開該工藝室。基底從一種工藝作業(yè)到下一種工藝作業(yè)的輸送也應(yīng)當(dāng)在潔凈房中進(jìn)行。潔凈房的費用是特別高的，因此已知的單獨基底工藝作業(yè)是一種特別費錢的工藝基底的方式，在待制造的基底有非常高的要求時才使用。
本發(fā)明的目的是提供一種單獨基底工藝設(shè)備，利用該設(shè)備，可以以經(jīng)濟(jì)上有利的方式進(jìn)行一個或多個單獨基底的工藝作業(yè)。
為此，本發(fā)明提供一種用于在一個基底上進(jìn)行至少一種工藝作業(yè)的設(shè)備，該設(shè)備設(shè)有至少一個其中在使用時在減壓下進(jìn)行工藝作業(yè)的工藝室，并設(shè)有一個真空栓，用于將該基底從周圍安置到所述工藝室中而不會損失相應(yīng)工藝室中的減壓，真空栓包括一個由多個壁界定的真空室，真空室上連接一個真空泵，而在一個壁中設(shè)置至少一個供給孔，并且為了該工藝室或每個工藝室，在一個壁中設(shè)置一個屬于一相應(yīng)工藝室的工藝室孔，該至少一個供給孔在外部可以用一個外蓋封閉而從該真空室內(nèi)可以用一個內(nèi)蓋封閉，該內(nèi)蓋還用作基底支座并可以在該真空室內(nèi)移動到一個相應(yīng)的工藝室孔。
在本發(fā)明所述的該設(shè)備中，當(dāng)一個工藝室被打開時，減壓繼續(xù)在其中占優(yōu)勢，因為該工藝室孔被限定在其中保持真空的真空栓的真空室中。可以選擇地在該真空栓上可以連接幾個工藝室，使待一個基底可以進(jìn)行各種工藝作業(yè)而不必為此而離開真空室。特別是在多個工藝室中進(jìn)行不同的工藝作業(yè)之間的輸送期間，其中存在該基底的空間是潔凈的這一點非常重要。因為在按照本發(fā)明所述的該設(shè)備中，這些基底或者是在該真空栓的真空室中，或者是在一個工藝室中，對本發(fā)明的設(shè)備所處空間的潔凈度的要求比對目前已知的單獨基底工藝作業(yè)的潔凈度要求要低得多，后者只能在潔凈房中進(jìn)行。
因為該供給孔或每個供給孔設(shè)有一個內(nèi)蓋和一個外蓋，所以當(dāng)在該真空室中安置一個基底時，只需將內(nèi)蓋和外蓋之間的空間重新調(diào)整到所需的減壓。安置一個基底的程序如下關(guān)閉一個相應(yīng)的供給孔的內(nèi)蓋，打開外蓋，將待工藝的基底安置在用作基底支座的內(nèi)蓋上，關(guān)閉外蓋，打開內(nèi)蓋，由此一起取走基底。只有該內(nèi)蓋和外蓋之間的容積需要重新抽真空。用作基底支座的內(nèi)蓋與其上存在的基底一起，隨后可以被迅速輸送到工藝室孔中。
為了在插入一個新的基底后將在真空室中獲得所要真空的所需時間減到最小，按照本發(fā)明的詳細(xì)說明，特別有利的是，由至少一個供給孔的邊緣與內(nèi)蓋和外蓋界定的空間當(dāng)其處于封閉狀態(tài)時所具有的尺寸密切符合有待該設(shè)備處理的基底的尺寸，使得在封閉外蓋后有待重新調(diào)整到所要減壓的該空間的容積成為最小。
該空間的尺寸越是符合待處理基底的尺寸，將真空室再次調(diào)整到所要減壓的時間就越少。這樣一個短時間轉(zhuǎn)過來產(chǎn)生較大的工藝容量，從費用觀點看這是有利的。
為了防止由于在該至少一個工藝室內(nèi)進(jìn)行的工藝作業(yè)而產(chǎn)生的真空室的污染，按照本發(fā)明的詳細(xì)說明，一個工藝室孔能夠用一個內(nèi)蓋從真空室內(nèi)基本上封閉是有利的。
為此，最好是，該內(nèi)蓋或每個內(nèi)蓋安置在真空室中的一個臺上，此臺可以利用一驅(qū)動機(jī)構(gòu)移動，而該驅(qū)動機(jī)構(gòu)被包括在該真空栓的真空室內(nèi)。
因為該臺的驅(qū)動機(jī)構(gòu)被包括在該真空室內(nèi)，所以在該真空室的壁中就不需要用于轉(zhuǎn)動軸或可沿軸向移動的桿的通過導(dǎo)線的設(shè)施。這提供相當(dāng)大的優(yōu)點。此種真空密封的通過導(dǎo)線的設(shè)施通常很費錢，常常產(chǎn)生泄漏，易于磨損，產(chǎn)生相當(dāng)大的摩擦，這需要相當(dāng)重的電動機(jī)，而且相當(dāng)大地限制該臺運動的速度。這最后一點轉(zhuǎn)過來對設(shè)備的工藝容量會產(chǎn)生有害的影響。
為了使該臺能夠做成可以移動的結(jié)構(gòu)，重要的是，該內(nèi)蓋可以從該供給孔或工藝室孔的壁移開。為此，按照本發(fā)明的詳細(xì)說明，這至少一個內(nèi)蓋與該臺連接，從而可以沿垂直于該臺的方向移動。該臺與內(nèi)蓋之間的這樣一種連接可以包括(例如)一個彈簧。按照本發(fā)明的詳細(xì)說明，在該內(nèi)蓋或每個內(nèi)蓋與該臺之間的這種彈簧連接可以通過一個有一中心孔的盤形板形成，該中心孔中安裝該內(nèi)蓋，而該盤形板通過其外周緣安裝在該臺上，在盤形板中設(shè)置同心的圓周區(qū)段形的凹槽，這些凹槽相當(dāng)于該中心孔沿垂直于該板的平面的方向相對于外周邊產(chǎn)生一個位移，而中心孔的邊緣與外周邊保持精確的平行。
按照本發(fā)明的詳細(xì)說明，在該臺上安裝了一系列的磁體，而在該真空栓的壁上安裝了至少一個電磁線圈，該線圈連接在一個可控電源上，以便形成一個用于移動該臺的交替磁場。利用一種設(shè)置在真空室內(nèi)部的這樣構(gòu)造的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，可以獲得非常高的移動速度。高的移動速度導(dǎo)致更大的工藝容量，這轉(zhuǎn)過來產(chǎn)生基底的較低的價格費用。
這些蓋的真空密封封閉中涉及的一個問題是真空栓的變形，更確切地說是其壁的變形。由于占優(yōu)勢壓力的差異，大的壁表面受到相當(dāng)大的力，包括供給孔和工藝室孔的壁的一個微小的彎曲已經(jīng)可能產(chǎn)生一個漏氣的內(nèi)蓋或外蓋。為了解決這些問題，按照本發(fā)明的詳細(xì)說明，該設(shè)備的特征是，該真空栓有一個基本上圓筒形的周壁和兩個基本上平面的端壁，而在一個端壁中設(shè)置了至少一個供給孔和至少一個工藝室孔，這兩個端壁通過一個中心支座互相連接，該中心支座鄰近或處在該圓筒形周壁的中央。
該圓柱形的端壁本身已經(jīng)具有一個內(nèi)在的強(qiáng)度，而且，其變形的危險性是較小的。由于該中心支座，這兩個端壁具有相當(dāng)大的剛性，因此其變形是極小的，而在該端壁中可以設(shè)置很多個供給孔和工藝室孔，用于安裝不同的工藝室，或用于產(chǎn)生供給和移去基底用的不同的出入通道。這樣一種環(huán)形的真空栓所具有的特別高的剛性在封閉問題方面是特別有利的。
在真空栓的這樣一種設(shè)計中，特別有利的是，該臺包括一個基本上圓形的盤，該盤可以轉(zhuǎn)動地用軸承安裝在該中心支座上并且在該圓筒形周壁上或鄰近該周壁。按照本發(fā)明的詳細(xì)說明，在該圓筒形周壁中在多個均勻分布的周邊位置上補(bǔ)充地安裝了一個電磁線圈，而鄰近該臺的圓形周壁配置上述一系列磁體，該臺可以非常快地轉(zhuǎn)動180度。在此后描述的示范實施例中，基底具有一張CD或DVD的尺寸，這樣一種通過180度的轉(zhuǎn)動可以在0.3秒內(nèi)完成。顯然，這樣一種輸送方式使該設(shè)備具有非常高的工作能力。
按照本發(fā)明的詳細(xì)說明，一個工藝室可以有一個連接于其上的工藝室泵。利用這樣一個獨立的工藝室泵，可以在該工藝室中產(chǎn)生一個與真空室中占優(yōu)勢的壓力不同的壓力。而且，該工藝室泵可用于排除基底工藝期間釋放的工藝氣體。
本發(fā)明的設(shè)備可用于各種工藝；例如，按照本發(fā)明的詳細(xì)說明，一個工藝室可以設(shè)置至少一個用于等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積的等離子體源，或設(shè)置至少一個物理氣相沉積源，或設(shè)置用于進(jìn)行化學(xué)氣相沉積的機(jī)構(gòu)，或設(shè)置用于基底退火的機(jī)構(gòu)。
本發(fā)明還涉及一種按照上面陳述中任何一項所述的設(shè)備與用于向真空栓的供給孔供給基底和移去基底的輸送裝置的組件。按照本發(fā)明，該組件的輸送裝置設(shè)有至少一個可以借助于一個輸送機(jī)構(gòu)而移動的運載頭，用于接合該基底。利用這樣一種組件，該設(shè)備不用人工操作就可裝載基底，而已工藝的基底不用人工操作就可從該設(shè)備移走。
如果待工藝的基底包括一個例如用于制造一張CD或DVD的中心孔，那么，按照本發(fā)明的詳細(xì)說明，特別有利的是，該輸送裝置包括可以卡緊在一個待工藝的基底的中心孔中的松的卡緊件，而該卡緊件可以由該至少一個運載頭接合。然后該基底可以與該卡緊件一起引入真空室，在那里于該基底進(jìn)行工藝作業(yè)期間保持與基底的連接。然后最好該卡緊件用磁性敏感材料制成，而在該至少一個運載頭中配置一個電磁線圈，該線圈連接在一個可控電源上，該電源為了吸住該卡緊件并因此吸住該基底而在線圈中產(chǎn)生一個電磁場，該電磁場對該卡緊件產(chǎn)生一個吸引作用。因此，可以以非常簡單的方式通過該運載頭吸起和傳送該基底。
按照本發(fā)明的詳細(xì)說明，該卡緊件可以包括一個盤形部件，在工藝室中工藝基底期間該盤形部件用作屏蔽該基底的中心部分的內(nèi)掩模。
可以選擇地，當(dāng)使用一個磁性敏感的松的卡緊件時，在該真空栓的該內(nèi)蓋或每個內(nèi)蓋中可以配置一個永久磁體，該永久磁體對該卡緊件產(chǎn)生一個吸引作用。從而可以使該基底可靠地安置在該內(nèi)蓋的中央。
為了限制一個供給孔的封閉操作次數(shù)，并因而盡可能減少將一個基底安置在該真空室中所需的時間，按照本發(fā)明的詳細(xì)說明，特別有利的是，該輸送裝置的至少一個運載頭還運載該外蓋。
下面參照附圖根據(jù)一個示范的實施例進(jìn)一步闡述本發(fā)明。


圖1表示一種有兩個工藝室的真空栓的透視圖，在該示范的實施例中，這兩個工藝室設(shè)計用作濺射工藝室；圖2表示圖1中所示的該示范的實施例的頂視平面圖；圖3表示沿圖2中線III-III截取的截面圖；圖4表示圖1-3中所示真空栓的頂視平面圖，省去了濺射工藝室；圖5表示沿圖4中線V-V截取的截面圖；圖6表示沿真空栓中存在的臺的圖7中線VI-VI截取的截面圖；圖7表示圖6中所示的臺的頂視平面圖；圖8表示連接彈簧的頂視平面圖，利用該彈簧使內(nèi)蓋與臺連接；圖9表示一種用于與圖1-3中示出的真空栓配合的輸送裝置的透視圖；圖10表示一種卡緊件的透視圖11表示一個帶有附接于其上的卡緊件的外蓋的截面圖；以及圖12表示圖11中所示的蓋的頂視平面圖。
圖1-3表示真空栓1的一個示范實施例，該真空栓1有兩個安裝在其上面的工藝室2、3，工藝室2的蓋子示于打開位置，而工藝室3的蓋子示于關(guān)閉位置。圖示的工藝室預(yù)期在其中進(jìn)行濺射工藝。這樣一種工藝本身是已知的，不需在此進(jìn)一步說明。其次，圖1表示一個泵區(qū)4，利用該泵區(qū)可以在真空栓和工藝室2、3中產(chǎn)生真空。“真空”在這里應(yīng)當(dāng)理解為一種適合于進(jìn)行濺射工藝的壓力。該圖還清楚地表明，真空栓1設(shè)有頂壁5和圓筒形周壁6。頂壁5中設(shè)置兩個供給孔7，用于通過這些供給孔將一個基底安裝在一個基底支座上。再次，頂壁5設(shè)有兩個工藝室孔8，它們在圖4和5中看得更清楚。
圖3表示真空栓1的內(nèi)部?？梢郧宄乜吹巾敱?、圓筒形周壁6和設(shè)在頂壁中的供給孔7，供給孔7用于向真空栓1供給一個基底和將其移去。其次，在頂壁中可以看到一個工藝室孔8，其中安置一個所謂外掩模9。供給孔7可以用圖9、11、12中示出的外蓋10關(guān)閉。再次，供給孔7可以用內(nèi)蓋11關(guān)閉。內(nèi)蓋11安裝在一個基本上盤形的臺12中，該臺更詳細(xì)地示于圖6和7中。真空栓1特別是其各個壁界定一個真空室13，其中充滿所要的減壓。盤形臺12利用軸承14、15可以轉(zhuǎn)動地用軸承安裝在真空室13中。內(nèi)軸承14安置在中心支座16上，中心支座16使真空栓1的頂壁5與真空栓1的底壁17連接。由于該中心支座16，頂壁5具有相當(dāng)大的剛性，這種剛性防止頂壁5在各種壓力的影響下變形。
圖5更清楚地表明臺12被包括在真栓1中的方式以及內(nèi)蓋11與臺12連接的方式。在圖6中也清楚地表示這種連接。內(nèi)蓋11這樣與臺12連接，使得可以沿垂直于臺12的平面的方向相對于該臺12移動。在該示范的實施例中，這種連接是用在圖8的頂視平面圖中示出的彈簧連接件18形成的。在該示范的實施例中，彈簧連接件18設(shè)計成帶中心孔19的盤形板18，孔19中安裝內(nèi)蓋11。盤形板18通過其外周邊20附接在臺12上。在盤形板18中設(shè)有圓圈區(qū)段形凹槽21，這些凹槽21相當(dāng)于中心孔19沿垂直于板18的平面的方向相對于外周邊20產(chǎn)生一個位移，而中心孔19的邊緣22和外周邊20保持精確的平行。其次，圖5清楚地表明，電磁線圈23、24圍繞供給孔7和工藝室孔8配置在頂壁5中。再次，可以清楚地看到，在內(nèi)蓋11上安裝了一個沿內(nèi)蓋11的周邊伸出的封閉環(huán)25。該封閉環(huán)25用磁性敏感材料制成。電磁線圈23、24連接在一個可控電源上，為了關(guān)閉內(nèi)蓋11，該可控電源可以在線圈23、24中產(chǎn)生電磁場，該電磁場對封閉環(huán)25施加吸引作用。一當(dāng)電磁線圈23、24受到激勵，封閉環(huán)25就對著真空栓1的頂壁5被向上拉。當(dāng)電磁線圈23、24的激勵結(jié)束時，內(nèi)蓋11由于施加在其上面的外部空氣壓力而將自動打開。在圖7中，盤形臺12在頂視平面圖中示出?？梢郧宄吹剑撆_設(shè)有一個中心孔26，其中安置內(nèi)軸承14。其次，在頂視平面圖中可以清楚地看到，該臺12安置了四個內(nèi)蓋11。同樣清楚地示出的是封閉環(huán)25和一系列永久磁體27。永久磁體27按照磁場方向相反的順序交替安置。圖5示出真空栓1中存在的三個電磁線圈28中的兩個，這些線圈28與真空栓的底壁17連接。線圈28連接在一個可控電源上，以便為了移動臺12(更明確地說是轉(zhuǎn)動臺12)而形成一個交替的磁場。因為臺12的驅(qū)動(該驅(qū)動是由一系列永久磁體27和線圈28形成的)被包括在真空栓1的真空室13中，所以在真空栓的壁中不需包括用于移動部件的通過導(dǎo)線的設(shè)施。從維護(hù)和真空技術(shù)的觀點看，這是有很大好處的。在例示的示范實施例中，臺12可以在0.3秒內(nèi)轉(zhuǎn)動通過180度。圖3、5和6還清楚地顯示一個編碼器環(huán)29。該編碼器環(huán)與設(shè)置在真空栓1的中心支座16內(nèi)的一個編碼器傳感器(未示出)配合。利用編碼器環(huán)29和編碼器傳感器，可以知道在每種情況下臺12在真空室13中的位置。
圖9表示一個設(shè)有孔31的安裝板30，孔31中可以安裝真空栓1。一個輸送裝置32與安裝板30連接。在該示范實施例中，該輸送裝置32設(shè)計成可以圍繞一個中心軸33轉(zhuǎn)動的多個臂34的星輪。外蓋10懸掛在這些臂34的端部上，用于關(guān)閉真空栓1的供給孔7。當(dāng)外蓋10安置在真空栓1的供給孔7中而且各供給孔7的內(nèi)蓋11又處在關(guān)閉位置時，由供給孔7的邊緣35與內(nèi)蓋11和外蓋10界定的空間具有這樣的尺寸，使得待工藝的基底可以剛巧裝入其中，因此在關(guān)閉外蓋后需要重調(diào)到所要減壓的空間容積盡可能小。更詳細(xì)地示于圖11和12中的外蓋10設(shè)有一個接合基底用的運載頭36。在該示范實施例中，這些基底有一中心孔，而這些基底更特定地預(yù)期用于制造一張CD或DVD。輸送裝置32包括與運載頭36可以拆卸地連接的松的卡緊件37，卡緊件37可以卡緊在待處理的基底的中心孔內(nèi)。在該示范實施例中，更詳細(xì)地示于圖10中的卡緊件37是用磁性敏感材料制成的。每個運載頭36設(shè)有一個連接在可控電源上的電磁線圈38，為了吸住該卡緊件從而保持住該基底，該電源在線圈中產(chǎn)生一電磁場，該電磁場對卡緊件37施加一吸引作用?？ňo件37還設(shè)有一個盤狀部分40，用作在工藝室2、3中工藝基底期間屏蔽基底中心部分的內(nèi)掩模。內(nèi)蓋11設(shè)有永久磁體39，用于吸住卡緊件37，以便將該基底定中心地保持在內(nèi)蓋11上。
設(shè)備的操作如下利用輸送裝置32將一個其中已安裝了卡緊件37的基底取起并輸送到真空栓1的供給孔7中。其次，利用輸送裝置32將外蓋10降低到供給孔中。該基底位于由外蓋10、內(nèi)蓋11和供給孔7的周邊35界定的封閉的安裝空間中。此時，電磁線圈23受到激勵，因此相應(yīng)的內(nèi)蓋11的封閉環(huán)25緊靠線圈23而內(nèi)蓋11處于關(guān)閉狀態(tài)。其后，線圈2 3的激勵結(jié)束，使得內(nèi)蓋11在上述空間中占優(yōu)勢的壓力的影響下打開?，F(xiàn)在該內(nèi)蓋在真空栓1的頂壁5下面的平面中。然后可以激勵臺12的驅(qū)動機(jī)構(gòu)的電磁線圈28來轉(zhuǎn)動臺12，并將相應(yīng)的內(nèi)蓋11帶到工藝室孔8的下面。臺12的位置由帶有相關(guān)編碼器傳感器的編碼器環(huán)29精確測量。當(dāng)相應(yīng)的內(nèi)蓋11位于工藝室孔8下面時，位于那里的封閉線圈24受到激勵而內(nèi)蓋11被拉動緊靠真空栓的頂壁5。其次，安置在內(nèi)蓋11上的基底可以在工藝室2、3中接受處理。在工藝作業(yè)完成時，封閉線圈24的激勵可以結(jié)束而臺12可以轉(zhuǎn)動，因此該相應(yīng)的內(nèi)蓋可以被帶到另一處理室孔去接受另一處理，或?qū)⒃撓鄳?yīng)的內(nèi)蓋11帶到供給孔7，以便從真空栓1移走該基底。為了移走該基底，圍繞該相應(yīng)的供給孔7延伸的封閉線圈23再次受到激勵，其后位于外蓋10和內(nèi)蓋11之間的空間受到充氣，從而其中充滿環(huán)境壓力。當(dāng)這樣時，可以借助于輸送裝置32升高外蓋10，由此取出該基底。通過結(jié)束運載頭36中的電磁線圈38的激勵。隨后可由輸送裝置32將該基底傳送到另一位置。
顯然，本發(fā)明不限于該示范實施例，而可以在由權(quán)利要求書界定的本發(fā)明的架構(gòu)內(nèi)進(jìn)行各種修改。比如，在工藝室內(nèi)不是進(jìn)行濺射工藝，而是進(jìn)行不同的工藝作業(yè)，如不同形式的物理氣相沉積(PVD)、化學(xué)氣相沉積(CVD)、等離子體增強(qiáng)的化學(xué)氣相沉積(PECVD)、退火等等。可以選擇地，一個工藝室可以有一連接于其上的獨立的工藝室泵，用于從該工藝室抽去供給的氣體或在工藝作業(yè)期間生成的氣體。可以選擇地，也可以在一個工藝室和真空室13之間結(jié)合一個帶有可控的或不可控的節(jié)流的旁路管線，以便在處理過程期間保持該工藝室和真空室13之間的壓差。在這些條件下，可以任選地省去一個獨立的工藝室泵。還可以明白，利用上述設(shè)備和上述組件，可以順序進(jìn)行不同的工藝。為此，顯然需要將不同的工藝室與該真空栓連接。
權(quán)利要求
1.一種用于在一個基底上進(jìn)行至少一種工藝作業(yè)的設(shè)備，該設(shè)備設(shè)有至少一個工藝室，其中在使用時在減壓下進(jìn)行工藝作業(yè)，并設(shè)有一個真空栓，用于將該基底從周圍安置到所述工藝室中而不會損失在相應(yīng)工藝室中的減小的壓力。該真空栓包括一個由多個壁界定的真空室，真空室上連接一個真空泵，而在一個壁中設(shè)置至少一個供給孔，并且為了該工藝室或每個工藝室，在一個壁中設(shè)置一個屬于一相應(yīng)工藝室的工藝室孔，該至少一個供給孔在外部可以用一個外蓋封閉而從該真空室內(nèi)可以用一個內(nèi)蓋封閉，該內(nèi)蓋還用作基底支座并可以在該真空室內(nèi)移動到一個所述工藝室孔。
2.一種如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，當(dāng)在封閉狀態(tài)下，由該至少一個供給孔的一個孔的邊緣與內(nèi)蓋和外蓋所界定的空間的尺寸密切符合由該設(shè)備處理的基底的尺寸，使得在封閉該外蓋后等待重新調(diào)整到所要減壓的空間容積是最小的。
3.一種如權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，其特征在于，一個所述工藝室孔可以從該真空室內(nèi)用一個所述內(nèi)蓋基本上封閉。
4.一種如上述權(quán)利要求中任何一項所述的設(shè)備，其特征在于，該內(nèi)蓋或每個內(nèi)蓋安置在一個位于該真空室中的臺中，該臺可以借助于一個驅(qū)動機(jī)構(gòu)而移動，該驅(qū)動機(jī)構(gòu)被包括在該真空栓的真空室中。
5.一種如權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其特征在于，該至少一個內(nèi)蓋與該臺連接，因此可以沿一個垂直于該臺的方向移動。
6.一種如權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其特征在于，在該臺和一個所述內(nèi)蓋之間的這種連接包括一個彈簧。
7.一種如權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其特征在于，在該內(nèi)蓋或每個內(nèi)蓋與該臺之間的這種彈簧連接是通過一個有一中心孔的盤形板形成的，該中心孔中安裝該內(nèi)蓋，而該盤形板通過其外周緣連接在該臺上，在盤形板中設(shè)置同心的圓周區(qū)段形的凹槽，這些凹槽能使該中心孔沿垂直于該板的平面的方向相對于外周邊產(chǎn)生一個位移，而中心孔的邊緣與外周邊保持精確的平行。
8.一種如權(quán)利要求4-7中任何一項所述的設(shè)備，其特征在于，在該臺上安裝了一系列的磁體，而在該真空栓的壁上安裝了至少一個電磁線圈，該線圈連接在一個可控電源上，以便形成一個用于移動該臺的交變磁場。
9.一種如上述權(quán)利要求中任何一項所述的設(shè)備，其特征在于，該真空栓有一個基本上圓筒形的周壁和兩個基本上平的端壁，而在一個端壁中設(shè)置了至少一個供給孔和至少一個工藝室孔，這兩個端壁通過一個中心支座互相連接，該中心支座鄰近或處在該圓筒形周壁的中央。
10.一種如權(quán)利要求9和權(quán)利要求4-8中任何一項所述的設(shè)備，其特征在于，該臺包括一個基本上圓形的盤，該盤可以用軸承轉(zhuǎn)動地安裝在該中心支座上和該圓筒形周壁上。
11.一種如權(quán)利要求8和10所述的設(shè)備，其特征在于，在該圓筒形周壁上或鄰近該周壁，在一些均勻分布的周邊位置上安裝一個電磁線圈，而鄰近該臺的圓形周邊配置所述一系列磁體。
12.一種如權(quán)利要求10或11所述的設(shè)備，其特征在于，在該臺上配置一個編碼器環(huán)，利用該編碼器環(huán)可以確定該臺相對于真空室壁的相對位置。
13.一種如上述權(quán)利要求中任何一項所述的設(shè)備，其特征在于，該至少一個內(nèi)蓋設(shè)有一個用磁性敏感材料制成的沿內(nèi)蓋周邊延伸的封閉環(huán)，而圍繞和鄰近該至少一個供給孔和該至少一個工藝室孔的邊緣配置至少一個電磁線圈，該線圈連接在一個可控電源上，該電源為了封閉該內(nèi)蓋而在該線圈中產(chǎn)生一個電磁場，該電磁場在該封閉環(huán)上產(chǎn)生一個吸引作用。
14.一種如上述權(quán)利要求中任何一項所述的設(shè)備，其特征在于，一個所述工藝室有一個連接于其上的工藝室泵。
15.一種如上述權(quán)利要求中任何一項所述的設(shè)備，其特征在于，一個所述工藝室設(shè)有至少一個用于等離子體增強(qiáng)的化學(xué)氣相沉積的等離子體源。
16.一種如上述權(quán)利要求中任何一項所述的設(shè)備，其特征在于，一個所述工藝室設(shè)有至少一個物理氣相沉積源。
17.一種如上述權(quán)利要求中任何一項所述的設(shè)備，其特征在于，一個所述工藝室設(shè)有用于進(jìn)行化學(xué)氣相沉積的機(jī)構(gòu)。
18.一種如上述權(quán)利要求中任何一項所述的設(shè)備，其特征在于，一個所述工藝室設(shè)有用于使該基底退火的機(jī)構(gòu)。
19.一種如上述權(quán)利要求中任何一項所述的設(shè)備和用于向該真空栓的供給孔供給基底及移去基底的輸送裝置的組件，該輸送裝置設(shè)有至少一個用于接合該基底的可以利用一輸送機(jī)構(gòu)移動的運載頭。
20.一種如權(quán)利要求19所述的組件，其特征在于，該有待工藝處理的基底包括一個例如用于制造一張CD或DVD的中心孔，該輸送裝置包括可以卡緊在一個待工藝處理的基底的中心孔中的松的卡緊件，而該卡緊件可以由該至少一個運載頭接合。
21.一種如權(quán)利要求20所述的組件，其特征在于，該卡緊件用磁性敏感材料制成，而在該至少一個運載頭中配置一個電磁線圈，該線圈連接在一個可控電源上，該電源為了吸住該卡緊件并因此吸住該基底而在線圈中產(chǎn)生一個電磁場，該電磁場對該卡緊件產(chǎn)生一個吸引作用。
22.一種如權(quán)利要求20或21所述的組件，其特征在于，該卡緊件包括一個盤形部件，在工藝室中工藝基底期間該盤形部件用作屏蔽該基底的中心部分的內(nèi)掩模。
23.一種如權(quán)利要求21或22所述的組件，其特征在于，在該真空栓的該基底支座或每個基底支座中配置一個永久磁體，該磁體對該卡緊件產(chǎn)生一個吸引作用。
24.一種如權(quán)利要求19-23中任何一項所述的組件，其特征在于，該至少一個運載頭還運載一個所述外蓋。
全文摘要
用于在一基底上進(jìn)行至少一種工藝作業(yè)的設(shè)備，該設(shè)備設(shè)有至少一個工藝室(2)和一個真空栓(1)，用于將該基底從周圍安置到一工藝室中而不會損失相應(yīng)工藝室中的減低的壓力，該真空栓包括一個由多個壁(5，6)界定并連接一真空泵(4)的真空室，而在一個壁中設(shè)置至少一個供給孔(7)，并為了每個工藝室在一個壁中設(shè)置一個屬于一相應(yīng)工藝室的工藝室孔，該至少一個供給孔在外部可以用一個外蓋(10)封閉而從該真空室內(nèi)可以用一個內(nèi)蓋(11)封閉。還公開了這樣一種設(shè)備與一種用于將基底供給到該真空栓的一個供給孔中和將基底移走的輸送裝置的組件。
文檔編號F16K51/02GK1455827SQ01815515
公開日2003年11月12日 申請日期2001年6月26日 優(yōu)先權(quán)日2000年7月12日
發(fā)明者R·J·C·M·科克, M·A·T·霍姆普斯, M·F·J·埃弗斯, A·哈布拉肯, F·C·丁斯 申請人:Otb集團(tuán)有限公司