旁通機(jī)構(gòu)及壓縮的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種旁通機(jī)構(gòu)及壓縮機(jī)。其中該旁通機(jī)構(gòu)包括閥座、密封膜片、磁鐵和支架，其中：支架的主體為圓柱環(huán)結(jié)構(gòu)，內(nèi)側(cè)設(shè)有用于放置密封膜片的支撐臺(tái)，且支撐臺(tái)的臺(tái)面高于支架的主體；磁鐵固定設(shè)置在支撐臺(tái)的下方；閥座設(shè)置在支撐臺(tái)的上方；密封膜片由磁鐵吸附設(shè)置在支撐臺(tái)上，且能夠移動(dòng)到閥座的氣體通口處關(guān)閉氣體通口；密封膜片在支撐臺(tái)上時(shí)，旁通機(jī)構(gòu)中能夠有氣體通過。其整體結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，在單缸或多缸壓縮機(jī)中均可以安裝使用，實(shí)現(xiàn)壓縮機(jī)變?nèi)萘浚瑥亩鴿M足壓縮機(jī)輸入更低冷量的要求。且其通過在支架內(nèi)部設(shè)置磁鐵，可有效防止密封膜片上下竄動(dòng)，從而也減小了可能由此帶來的壓縮機(jī)本體噪聲。
【專利說明】旁通機(jī)構(gòu)及壓縮機(jī)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及空調(diào)【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種旁通機(jī)構(gòu)及壓縮機(jī)。

【背景技術(shù)】
[0002]壓縮機(jī)是將低壓氣體提升為高壓氣體的一種從動(dòng)的流體機(jī)械。是制冷系統(tǒng)的心臟，它從吸氣管吸入低溫低壓的制冷劑氣體，通過電機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)帶動(dòng)活塞對(duì)其進(jìn)行壓縮后，向排氣管排出高溫高壓的制冷劑氣體，為制冷循環(huán)提供動(dòng)力。
[0003]在空調(diào)系統(tǒng)中，當(dāng)空調(diào)系統(tǒng)要求壓縮機(jī)輸入更低的冷量時(shí)，受壓縮機(jī)運(yùn)行頻率限制，常規(guī)壓縮機(jī)經(jīng)常滿足不了要求。而且，當(dāng)壓縮機(jī)處于較低頻率運(yùn)行時(shí)，壓縮機(jī)泵體泄露大，電機(jī)效率低，導(dǎo)致空調(diào)整機(jī)能效差。傳統(tǒng)技術(shù)中，對(duì)于雙缸和多缸壓縮機(jī)可通過氣缸卸載實(shí)現(xiàn)壓縮機(jī)變?nèi)萘?，從而使壓縮機(jī)滿足更低冷量輸出的目的。但是對(duì)于單缸壓縮機(jī)不能通過此方法實(shí)現(xiàn)壓縮機(jī)變?nèi)萘?。且壓縮機(jī)氣缸的加載、卸載需要控制的元件較多，不利于壓縮機(jī)的流暢運(yùn)行。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]基于此，有必要針對(duì)壓縮機(jī)輸入冷量要求很低時(shí)，傳統(tǒng)技術(shù)中對(duì)壓縮機(jī)的調(diào)整復(fù)雜，且難以滿足要求的問題，提供一種在單缸和多缸壓縮機(jī)中均可以實(shí)現(xiàn)壓縮機(jī)變?nèi)萘康呐酝C(jī)構(gòu)及包含該旁通機(jī)構(gòu)的壓縮機(jī)。
[0005]為實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型目的提供的一種旁通機(jī)構(gòu)，包括閥座、密封膜片、磁鐵和支架，其中:
[0006]所述支架的主體為圓柱環(huán)結(jié)構(gòu)，內(nèi)側(cè)設(shè)有用于放置所述密封膜片的支撐臺(tái)，且所述支撐臺(tái)的臺(tái)面高于所述支架的主體；
[0007]所述磁鐵固定設(shè)置在所述支撐臺(tái)的下方；
[0008]所述閥座設(shè)置在所述支撐臺(tái)的上方；
[0009]所述密封膜片由所述磁鐵吸附設(shè)置在所述支撐臺(tái)上，且能夠移動(dòng)到所述閥座的氣體通口處關(guān)閉所述氣體通口；
[0010]所述密封膜片在所述支撐臺(tái)上時(shí)，旁通機(jī)構(gòu)中能夠有氣體通過。
[0011]作為一種旁通機(jī)構(gòu)的可實(shí)施方式，所述支架的主體內(nèi)側(cè)設(shè)置有用于安裝所述磁鐵的安裝孔；
[0012]所述磁鐵放置在所述安裝孔中固定。
[0013]作為一種旁通機(jī)構(gòu)的可實(shí)施方式，所述支架的內(nèi)側(cè)還設(shè)置有導(dǎo)向柱；
[0014]所述密封膜片能夠沿所述導(dǎo)向柱在所述閥座的氣體通口和所述支撐臺(tái)之間移動(dòng)。
[0015]作為一種旁通機(jī)構(gòu)的可實(shí)施方式，所述導(dǎo)向柱在所述支架的主體的設(shè)有支撐臺(tái)的一端向外延伸；
[0016]所述閥座與所述導(dǎo)向柱相抵接。
[0017]作為一種旁通機(jī)構(gòu)的可實(shí)施方式，所述支撐臺(tái)設(shè)置在所述導(dǎo)向柱上。
[0018]作為一種旁通機(jī)構(gòu)的可實(shí)施方式，所述磁鐵距所述支撐臺(tái)的臺(tái)面較近的端面與所述支撐臺(tái)的臺(tái)面之間的垂直距離大于O且小于2毫米。
[0019]作為一種旁通機(jī)構(gòu)的可實(shí)施方式，所述氣體通口為圓形，所述密封膜片為圓形薄片，且密封膜片的直徑比所述氣體通口的直徑大I?4毫米。
[0020]作為一種旁通機(jī)構(gòu)的可實(shí)施方式，在所述閥座和/或所述支架的外側(cè)設(shè)置有環(huán)形凹槽。
[0021]基于相同構(gòu)思的一種壓縮機(jī)，包括氣缸，氣缸上設(shè)置有旁通孔，所述旁通孔的出口處設(shè)置有圓柱形空腔，所述圓柱形空腔中設(shè)置有前述的旁通機(jī)構(gòu)。
[0022]作為一種壓縮機(jī)的可實(shí)施方式，所述旁通機(jī)構(gòu)過盈裝配在所述圓柱形空腔中，且所述支架的主體的外側(cè)與所述圓柱形空腔之間及所述閥座的外側(cè)與所述圓柱形空腔之間分別設(shè)置有一個(gè)彈性密封圈。
[0023]本實(shí)用新型的有益效果包括:
[0024]本實(shí)用新型提供的一種旁通機(jī)構(gòu)及壓縮機(jī)，其中該旁通機(jī)構(gòu)整體結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，部件構(gòu)成及部件之間的裝配操作也簡(jiǎn)單。在單缸或多缸壓縮機(jī)中均可以安裝使用，實(shí)現(xiàn)壓縮機(jī)變?nèi)萘?，從而滿足壓縮機(jī)輸入更低冷量的要求。且其通過在支架內(nèi)部設(shè)置磁鐵，由磁鐵吸附密封膜片在支撐臺(tái)上，可有效防止旁通機(jī)構(gòu)連接吸入氣體側(cè)低氣壓時(shí)，由于氣體脈動(dòng)可能引起的密封膜片上下竄動(dòng)，從而也減小了可能由此帶來安裝此旁通機(jī)構(gòu)的壓縮機(jī)本體噪聲。同時(shí)也避免了密封膜片由于竄動(dòng)產(chǎn)生的損傷，延長(zhǎng)旁通機(jī)構(gòu)的使用壽命。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0025]圖1為本實(shí)用新型一種旁通機(jī)構(gòu)的一具體實(shí)施例的構(gòu)成示意圖；
[0026]圖2為本實(shí)用新型一種旁通機(jī)構(gòu)的一具體實(shí)施例的裝配完成構(gòu)成示意圖；
[0027]圖3為設(shè)置有旁通孔的氣缸示意圖；
[0028]圖4為設(shè)置有隔板旁通孔的隔板示意圖；
[0029]圖5為安裝有本實(shí)用新型一實(shí)施例的旁通機(jī)構(gòu)的雙缸壓縮機(jī)正常運(yùn)行(氣體通口關(guān)閉)時(shí)的不意圖；
[0030]圖6為圖5中A局部放大示意圖；
[0031]圖7為安裝有本實(shí)用新型一實(shí)施例的旁通機(jī)構(gòu)的雙缸壓縮機(jī)低冷量輸入運(yùn)行(氣體通口打開)時(shí)的示意圖；
[0032]圖8為圖7中B局部放大示意圖；
[0033]圖9為旁通機(jī)構(gòu)安裝在壓縮機(jī)中時(shí)的局部示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0034]為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的旁通機(jī)構(gòu)及壓縮機(jī)的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。
[0035]本實(shí)用新型一實(shí)施例的旁通機(jī)構(gòu)，參見1，包括閥座1、密封膜片2、磁鐵3和支架4。其中:支架4的主體為圓柱環(huán)結(jié)構(gòu)，內(nèi)側(cè)設(shè)有用于放置密封膜片2的支撐臺(tái)41，且所述支撐臺(tái)41的臺(tái)面高于所述支架4的主體。磁鐵3固定設(shè)置在支撐臺(tái)41的下方，與支撐臺(tái)的臺(tái)面之間具有一定的距離。閥座I設(shè)置在支撐臺(tái)41的上方，且閥座的氣體通口與支撐臺(tái)的臺(tái)面之間具有一定的距離。
[0036]作為一種可實(shí)施方式，也可以在支架4的主體內(nèi)側(cè)設(shè)置用于安裝磁鐵3的安裝孔42，將磁鐵3放置在安裝孔42中固定。當(dāng)然，也可以在支撐臺(tái)的臺(tái)面下方的臺(tái)柱上設(shè)置安裝磁鐵的安裝孔，用于固定磁鐵。當(dāng)然，在其他實(shí)施例中，也可以通過其他方式將磁鐵3固定在支撐臺(tái)41的臺(tái)面的下方，也即更靠近支架4的一側(cè)。如通過點(diǎn)焊將磁鐵卡在所需位置等。
[0037]如圖2所示，為裝配完成圖。裝配完成后，磁鐵3放置在安裝孔42中。閥座I與支架4形狀及大小相匹配，且裝配好之后，閥座I設(shè)置在支撐臺(tái)41的上方，也即如圖2所示，將閥座放置在支架的上方。需要說明的是，當(dāng)整個(gè)旁通機(jī)構(gòu)設(shè)置在壓縮機(jī)中時(shí)，整個(gè)旁通機(jī)構(gòu)可進(jìn)行任意反向的旋轉(zhuǎn)。如閥座朝下，支架朝上，或者閥座朝上，支架朝下等。而閥座的最下端凸出的一圈構(gòu)成的通口作為本實(shí)用新型實(shí)施例的氣體通口 U。
[0038]同時(shí)，裝配完成后，密封膜片2由磁鐵3吸附設(shè)置在支撐臺(tái)41上，且能夠移動(dòng)到閥座I的氣體通口 11處，當(dāng)密封膜片2移動(dòng)到氣體通口 11處時(shí)，能夠關(guān)閉氣體通口 11。從而阻斷旁通機(jī)構(gòu)與壓縮機(jī)氣缸上的旁通孔之間的連接。其中，如圖3所示，壓縮機(jī)的氣缸5上的設(shè)置有旁通孔51。如圖4所示，隔板6上也設(shè)置有隔板旁通口 61。旁通機(jī)構(gòu)可以安裝在壓縮機(jī)中與氣缸的旁通孔51連通的氣體通道中。氣體通道一端連接旁通孔51，另一端通過管路可以與壓縮機(jī)排除的高壓氣體或者與壓縮機(jī)的吸入氣體端連接，旁通機(jī)構(gòu)的閥座所在的一端設(shè)置在氣體通道連接旁通孔的一端。且氣體通道中安裝旁通機(jī)構(gòu)后，兩端只能通過旁通機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)氣體流通。當(dāng)密封膜片2在支撐臺(tái)41上時(shí)，旁通機(jī)構(gòu)中能夠有氣體通過。
[0039]此處需要說明的是，如圖1所示，支撐臺(tái)41間隔設(shè)置在支架4的內(nèi)側(cè)壁，密封膜片2放置在支撐臺(tái)41上時(shí)，氣體可以通過支撐臺(tái)之間的空隙流通，從而旁通機(jī)構(gòu)中可以有氣體通過。
[0040]具體的，帶有前述旁通機(jī)構(gòu)100的壓縮機(jī)的工作過程如下:
[0041]如圖5及圖6所示，壓縮機(jī)為雙缸壓縮機(jī)，安裝有兩個(gè)旁通機(jī)構(gòu)，其正常運(yùn)行的情況下，氣體通道的一端與壓縮機(jī)排出的高壓氣體連通，此時(shí)密封膜片兩側(cè)產(chǎn)生壓差，支架側(cè)為高壓，閥座端為低壓。此時(shí)密封膜片能夠克服磁鐵的磁力向閥座端移動(dòng)，將閥座的氣體通口封死，此時(shí)旁通機(jī)構(gòu)出于阻斷狀態(tài)，不流經(jīng)氣體。
[0042]如圖6所示，當(dāng)空調(diào)系統(tǒng)需要壓縮機(jī)輸入很低的冷量時(shí)，氣體通道一端斷開與壓縮機(jī)排出的高壓氣體的連通，而與壓縮機(jī)的吸入氣體側(cè)相連通。此時(shí)，旁通機(jī)構(gòu)中的密封膜片的兩側(cè)沒有壓力差，密封膜片在磁鐵磁力的作用下與支撐臺(tái)接觸，實(shí)現(xiàn)壓縮機(jī)腔室與吸氣通道旁通，達(dá)到壓縮機(jī)變通量的目的。使壓縮機(jī)輸入更低的冷量。
[0043]本實(shí)用新型實(shí)施例的旁通機(jī)構(gòu)，整體結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，部件構(gòu)成及部件之間的裝配操作也簡(jiǎn)單。在單缸或多缸壓縮機(jī)中均可以安裝使用，實(shí)現(xiàn)壓縮機(jī)變?nèi)萘?，從而滿足壓縮機(jī)輸入更低冷量的要求。且其通過在支架內(nèi)部設(shè)置磁鐵，由磁鐵吸附密封膜片在支撐臺(tái)上，可有效防止旁通機(jī)構(gòu)連接吸入氣體側(cè)低氣壓時(shí)，由于氣體脈動(dòng)可能引起的密封膜片上下竄動(dòng)，從而也減小了可能由此帶來的壓縮機(jī)本體噪聲。同時(shí)也避免了密封膜片由于竄動(dòng)產(chǎn)生的損傷，延長(zhǎng)旁通機(jī)構(gòu)的使用壽命。
[0044]在其中一個(gè)旁通機(jī)構(gòu)的實(shí)施例中，如圖1和圖2所示，支架4的內(nèi)側(cè)還設(shè)置有導(dǎo)向柱43。密封膜片2能夠沿所述導(dǎo)向柱在所述閥座的氣體通口 11和支撐臺(tái)之間移動(dòng)。導(dǎo)向柱43在支架4的主體的設(shè)有支撐臺(tái)41的一端向外延伸，導(dǎo)向柱的長(zhǎng)度超出支架的主體的端面。在裝配時(shí)，閥座I與導(dǎo)向柱相抵接。導(dǎo)向柱43對(duì)密封膜片2的移動(dòng)位置起限定作用。多個(gè)導(dǎo)向柱之間限定出一個(gè)圓柱形的空間，此圓柱形空間的直徑與密封膜片2的直徑的大小基本相同。密封膜片2沿著導(dǎo)向柱在氣體通口 11和支撐臺(tái)41之間移動(dòng)。
[0045]導(dǎo)向柱的設(shè)置使密封膜片在氣壓下的移動(dòng)更加平穩(wěn)，避免移動(dòng)過程中密封膜片傾斜造成對(duì)氣體通口的密封效果差。使本實(shí)用新型實(shí)施例的旁通機(jī)構(gòu)的開啟或者關(guān)閉更準(zhǔn)確可靠。導(dǎo)向柱也可保證密封膜片2在磁鐵3磁力及壓力作用下不發(fā)生偏移，避免邊緣與支架4的內(nèi)側(cè)壁接觸造成損壞。
[0046]其中，導(dǎo)向柱43的數(shù)量為至少3個(gè)。三個(gè)導(dǎo)向柱的設(shè)置可準(zhǔn)確的限定中一個(gè)圓柱形的移動(dòng)軌跡，有效避免密封膜片偏移，且制作成本低。同時(shí)，導(dǎo)向柱與密封膜片的接觸的面，可設(shè)置成凹面，與密封膜片的外圓周面更加吻合，限定效果更好。當(dāng)然導(dǎo)向柱的數(shù)量也可以設(shè)置為其他數(shù)量，如4個(gè)或者5個(gè)等。
[0047]此處需要說明的是，如圖1和圖2所示，所述支架的底端的底端氣體出口 44的直徑較小，也即支架底端處設(shè)置有一圈凸出部45，縮小了底端氣體出口 44。如此設(shè)計(jì)，可使高壓氣體沖擊密封膜片時(shí)，主要集中在密封膜片的中部，同樣也有減小密封膜片傾斜的作用。也可將導(dǎo)向柱設(shè)置在凸出部45上，整個(gè)結(jié)構(gòu)更加穩(wěn)固。
[0048]另，在其他實(shí)施例中也可將支撐臺(tái)41設(shè)置在導(dǎo)向柱43上。
[0049]作為一種可實(shí)施方式，設(shè)置磁鐵3的數(shù)量與導(dǎo)向柱43的數(shù)量相同，每個(gè)導(dǎo)向柱上都設(shè)置有安裝孔42，每個(gè)安裝孔42中安裝有一塊磁鐵。設(shè)置較小的磁鐵，將磁鐵整體放置到安裝孔42中，多個(gè)磁鐵從多個(gè)角度對(duì)密封膜片起吸附作用，將密封膜片吸附在支撐臺(tái)上。
[0050]此處需要說明的是，多個(gè)磁鐵整體的磁力F的取值應(yīng)該在如下范圍內(nèi):
[0051 ] G+0.8MPa*S 彡 F 彡 G+ (0.02MPa ?0.05MPa) *S，
[0052]其中，G為密封膜片的重量(重力)，S為密封膜片的面積。
[0053]作為其他可實(shí)施方式，磁鐵2可以為一個(gè)長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)的磁鐵塊。且可以在磁鐵塊的中間部位設(shè)置通孔。磁鐵2也可以為一整塊環(huán)形磁鐵，環(huán)形磁鐵的邊緣卡設(shè)在安裝孔42中固定。此時(shí)環(huán)形磁鐵或者長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)的磁鐵塊的磁力與前述多個(gè)磁鐵整體的磁力F取值范圍相同。
[0054]需要說明的是，如圖2所示，裝配完成后，磁鐵2的上表面，也即距支撐臺(tái)的臺(tái)面較近的端面，與支撐臺(tái)的臺(tái)面之間的垂直距離大于O且小于2毫米。這樣可以保證密封膜片2在磁鐵力作用下放置在支撐臺(tái)上，而不與磁鐵3發(fā)生碰撞，從而避免密封膜片與磁鐵發(fā)生碰撞發(fā)生變形，也避免磁鐵碰撞產(chǎn)生粉末雜質(zhì)進(jìn)入壓縮機(jī)腔體中。
[0055]其中，所述支撐臺(tái)的臺(tái)面為支撐臺(tái)的放置密封膜片的端面。
[0056]另外，閥座上的氣體通口 11為圓形，密封膜片2也為圓形薄片，且密封膜片的直徑比所述氣體通口的直徑大I?4毫米，即密封膜片與閥座接觸位置距密封膜片的邊緣0.5 ?2mmο
[0057]此處需要說明的是，閥座與密封膜片接觸的邊緣為圓弧面，此時(shí)為圓弧面與平面接觸，密封膜片的邊緣與接觸位置設(shè)有0.5?2_的距離可避免密封膜片與閥座出現(xiàn)邊緣接觸。如果出現(xiàn)邊緣接觸，當(dāng)氣體通道通入高壓氣體時(shí)，在氣體例作用下容易導(dǎo)致密封膜片邊緣斷裂。而本實(shí)用新型實(shí)施例有效降低了密封膜片在使用過程中的損傷。
[0058]作為一種可實(shí)施方式，如圖2所示，可在閥座和/或所述支架的外側(cè)設(shè)置環(huán)形凹槽46。在裝配時(shí)可在環(huán)形凹槽46中添加彈性密封圈，可使氣體通道中的氣體只能通過旁通機(jī)構(gòu)流動(dòng)，對(duì)壓縮機(jī)是否打開旁通機(jī)構(gòu)的控制更加精確。
[0059]基于相同構(gòu)思本實(shí)用新型還提供一種壓縮機(jī)，壓縮機(jī)的氣缸上設(shè)置有旁通孔，且在壓縮機(jī)中，還設(shè)置有連接旁通孔的出口的圓柱形空腔，圓柱形空腔中設(shè)置有前述的旁通機(jī)構(gòu)。此處圓柱形空腔即構(gòu)成前述的氣體通道。旁通機(jī)構(gòu)設(shè)置在由圓柱形空腔構(gòu)成的氣體通道中。放置支架一端的氣體通道根據(jù)壓縮機(jī)運(yùn)行需要連接壓縮機(jī)輸出的高壓氣體或者與壓縮機(jī)的吸氣側(cè)連通。壓縮機(jī)可以為雙杠壓縮機(jī)也可以為單缸壓縮機(jī)，可以針對(duì)每個(gè)氣缸各設(shè)置一個(gè)旁通機(jī)構(gòu)。設(shè)置旁通機(jī)構(gòu)的壓縮機(jī)可滿足很低冷量輸入的情況，且壓縮機(jī)噪聲小。
[0060]在其中一個(gè)壓縮機(jī)的實(shí)施例中，如圖7所示，旁通機(jī)構(gòu)過盈裝配在所述圓柱形空腔中，且旁通機(jī)構(gòu)的支架的主體的外側(cè)與所述圓柱形空腔之間及所述閥座的外側(cè)與所述圓柱形空腔之間分別設(shè)置有一個(gè)彈性密封圈6。彈性密封圈的設(shè)置可使氣體通道中的氣體只能通過旁通機(jī)構(gòu)流通，當(dāng)密封膜片移動(dòng)到閥座的氣體通口處時(shí)，可使整個(gè)氣體通道完全阻斷，壓縮機(jī)正常運(yùn)行，也即旁通機(jī)構(gòu)不打開，壓縮機(jī)不提供很低冷量。
[0061]以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本實(shí)用新型的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對(duì)本實(shí)用新型專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。因此，本實(shí)用新型專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種旁通機(jī)構(gòu)，其特征在于，包括閥座、密封膜片、磁鐵和支架，其中: 所述支架的主體為圓柱環(huán)結(jié)構(gòu)，內(nèi)側(cè)設(shè)有用于放置所述密封膜片的支撐臺(tái)，且所述支撐臺(tái)的臺(tái)面高于所述支架的主體； 所述磁鐵固定設(shè)置在所述支撐臺(tái)的下方； 所述閥座設(shè)置在所述支撐臺(tái)的上方； 所述密封膜片由所述磁鐵吸附設(shè)置在所述支撐臺(tái)上，且能夠移動(dòng)到所述閥座的氣體通口處關(guān)閉所述氣體通口； 所述密封膜片在所述支撐臺(tái)上時(shí)，旁通機(jī)構(gòu)中能夠有氣體通過。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旁通機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述支架的主體內(nèi)側(cè)設(shè)置有用于安裝所述磁鐵的安裝孔； 所述磁鐵放置在所述安裝孔中固定。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旁通機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述支架的內(nèi)側(cè)還設(shè)置有導(dǎo)向柱； 所述密封膜片能夠沿所述導(dǎo)向柱在所述閥座的氣體通口和所述支撐臺(tái)之間移動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的旁通機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述閥座與所述導(dǎo)向柱相抵接。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的旁通機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述支撐臺(tái)設(shè)置在所述導(dǎo)向柱上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旁通機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述磁鐵距所述支撐臺(tái)的臺(tái)面較近的端面與所述支撐臺(tái)的臺(tái)面之間的垂直距離大于O且小于2毫米。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旁通機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述氣體通口為圓形，所述密封膜片為圓形薄片，且密封膜片的直徑比所述氣體通口的直徑大I?4毫米。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旁通機(jī)構(gòu)，其特征在于，在所述閥座和/或所述支架的外側(cè)設(shè)置有環(huán)形凹槽。
9.一種壓縮機(jī)，包括氣缸，氣缸上設(shè)置有旁通孔，其特征在于，所述旁通孔的出口處設(shè)置有圓柱形空腔，所述圓柱形空腔中設(shè)置有權(quán)利要求1至8任一項(xiàng)所述的旁通機(jī)構(gòu)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的壓縮機(jī)，其特征在于，所述旁通機(jī)構(gòu)過盈裝配在所述圓柱形空腔中，且所述支架的主體的外側(cè)與所述圓柱形空腔之間及所述閥座的外側(cè)與所述圓柱形空腔之間分別設(shè)置有一個(gè)彈性密封圈。
【文檔編號(hào)】F04C29/00GK204200578SQ201420492391
【公開日】2015年3月11日 申請(qǐng)日期:2014年8月28日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月28日
【發(fā)明者】韓鑫, 金冀龍, 趙旭敏, 彭慧明, 朱倩, 樊峰剛 申請(qǐng)人:珠海格力節(jié)能環(huán)保制冷技術(shù)研究中心有限公司