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可調(diào)節(jié)流動控制裝置制造方法

文檔序號:5302863閱讀:162來源:國知局
可調(diào)節(jié)流動控制裝置制造方法
【專利摘要】一種流動控制裝置,其包括:流體通路,被構(gòu)造為在井管的外部與井管的內(nèi)部之間提供流體連通;流動限制件,被設(shè)置在流體通路中,其中,流動限制件被設(shè)置為相對于井管徑向?qū)?zhǔn);以及流動阻塞件,被設(shè)置在流體通路中,其中,流動阻塞件基本阻止流體流過流體通路。
【專利說明】可調(diào)節(jié)流動控制裝置

【背景技術(shù)】
[0001]某些時候,會將井眼鉆入地層中以從地層中產(chǎn)出一種或多種流體。例如,井眼可用于產(chǎn)出一種或多種烴類。盡管通常會試圖限制從井眼或井眼的某個特定區(qū)段中產(chǎn)出水,但水等額外成分還是會與烴類一同被產(chǎn)出。由于多種原因,在井眼的壽命中烴類氣體等其它組分也會被限制。
[0002]已知的是,在從井眼穿透的地層的一個長區(qū)段中產(chǎn)出流體時,沿該區(qū)段平衡流體的產(chǎn)出可使得水錐和氣錐減少,并產(chǎn)生更加受控的一致性,從而增加該區(qū)段中產(chǎn)出的油或其它所需流體的比例和總量。已有多種裝置和完井組件可被用來幫助使來自井眼中的多個區(qū)段的流體的產(chǎn)出平衡。例如,流入控制裝置(I⑶)已被用來與井篩協(xié)同,以限制流體通過這些井篩流動,從而沿區(qū)段平衡產(chǎn)出。例如,在長的水平井眼中,對井眼的跟部附近流體流動的限制可大于對井眼的趾部附近流體流動的限制,以此平衡沿井眼的產(chǎn)出。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]在一個實(shí)施例中,流動控制裝置包括:流體通路,被構(gòu)造為在井管的外部與井管的內(nèi)部之間提供流體連通;流動限制件,被設(shè)置在流體通路中,其中,該流動限制件被設(shè)置為相對于井管徑向?qū)?zhǔn);以及流動阻塞件,被設(shè)置在流體通路中,其中,該流動阻塞件基本阻止流體流過流體通路。
[0004]在一個實(shí)施例中,流動控制裝置包括:流體通路,被構(gòu)造為在井管的外部與井管的內(nèi)部之間提供流體連通;多個流動限制件,被串聯(lián)設(shè)置在流體通路中;流動阻塞件,被設(shè)置在流體通路中,其中,流動阻塞件基本阻止流體流過流體通路;以及保持構(gòu)件,被構(gòu)造為將流動阻塞件維持在流體通路中,并允許接近流體通路中的流動阻塞件。
[0005]根據(jù)一個實(shí)施例,一種方法包括:設(shè)置流動控制裝置,該流動控制裝置包括位于井管的外部與井管的內(nèi)部之間的多個流體通路、以及被設(shè)置在多個流體通路中的多個流動限制件,其中,多個流動限制件中的至少一個流動限制件被設(shè)置為相對于井管徑向?qū)?zhǔn);以及在多個流體通路中選擇性地安裝或移除一個或多個流動阻塞件。
[0006]根據(jù)以下的具體說明并結(jié)合附圖和權(quán)利要求可以明確理解以上特征和其它特征。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0007]為了能夠更充分地理解本發(fā)明及其優(yōu)點(diǎn),請參考以下對于附圖的簡要說明以及詳細(xì)描述:
[0008]圖1是根據(jù)實(shí)施例的井眼維護(hù)系統(tǒng)的一個實(shí)施例的剖視圖;
[0009]圖2A是包括流動控制裝置的一個實(shí)施例的井篩組件的局部剖視圖;
[0010]圖2B是包括流動控制裝置的一個實(shí)施例的井篩組件的另一個局部剖視圖;
[0011]圖2C是包括流動控制裝置的一個實(shí)施例的井篩組件的又一個局部剖視圖;
[0012]圖2D是包括流動控制裝置的一個實(shí)施例的井篩組件的再一個局部剖視圖;
[0013]圖3是流動控制裝置的一個實(shí)施例沿圖2A中的A-A線截取的局部剖視圖;
[0014]圖4是包括流動控制裝置的又一個實(shí)施例的井篩組件的局部剖視圖;
[0015]圖5是包括流動控制裝置的再一個實(shí)施例的井篩組件的局部剖視圖;
[0016]圖6是包括流動控制裝置的另一個實(shí)施例的井篩組件的局部剖視圖;
[0017]圖7是包括流動控制裝置的又一個實(shí)施例的井篩組件的局部剖視圖;
[0018]圖8是包括流動控制裝置的再一個實(shí)施例的井篩組件的局部剖視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0019]在附圖和以下的說明中,相似的部件通常會在說明書全文以及附圖中分別以相同的附圖標(biāo)記表示。附圖中的圖像不一定符合比例。本發(fā)明的某些特征會以夸大的比例或某種原理圖的形式示出,而且為了清晰和簡要的目的,某些常用元件的細(xì)節(jié)會被省略。
[0020]除非另有規(guī)定,以任何形式對于“連接”、“接合”、“聯(lián)接”、“附接”等術(shù)語的任何使用、或?qū)τ诿枋龆鄠€元件之間的相互作用的任何其它術(shù)語的任何使用均不是意圖將這種相互作用限制為這些元件之間的直接相互作用,而是也可包括所述元件之間的間接相互作用。在下文的論述和權(quán)利要求中,術(shù)語“包含”和“包括”用于開放式描述,應(yīng)理解為“包括但不限于”。對上或下的引用為了描述的目的,其中“上”、“上部”、“向上”、“上游”、或“上方”指的是朝向井眼的地面方向,而“下”、“下部”、“向下”、“下游”、或“下方”指的是朝向井眼的終端方向,與井眼的方位無關(guān)。本領(lǐng)域技術(shù)人員在閱讀下文關(guān)于多個實(shí)施例的具體描述并參照附圖后,在本申請的幫助下容易發(fā)現(xiàn)上述的多種特征以及下文具體描述的其它特征和特點(diǎn)。
[0021]本文公開了一種用于井眼中的可調(diào)節(jié)流動控制裝置,該裝置可作為I⑶使用。流動控制裝置可形成井篩組件的一部分,且可包括一流體通路,流體通路可選擇性地被調(diào)節(jié),以允許流體流動或基本阻止流體流動。然后可根據(jù)來自井眼的一個區(qū)段的流動和/或流量所需的阻力,來調(diào)節(jié)通過流動控制裝置的流動,從而能夠?qū)碜跃鄣囊粋€或多個區(qū)段的產(chǎn)出進(jìn)行平衡。在一些實(shí)施例中,流動控制裝置可包括多個流體通路和流動限制件,這些流體通路和流動限制件中的每一個均可被選擇性地且獨(dú)立地調(diào)節(jié),以供選擇所需的總流動阻力和/或總流量。該多個流動限制件中的每一個可對流動具有不同阻力,從而提供大范圍的總阻力和/或流量。因此,該可調(diào)節(jié)流動控制裝置可用于對井眼的產(chǎn)出進(jìn)行微調(diào),這樣就會優(yōu)于阻力和/或流量相對固定的其它ICD。
[0022]流動限制件可具有多種構(gòu)造。例如,流動限制件可被設(shè)置為相對于井管徑向?qū)?zhǔn),這樣不需要對應(yīng)地增加井篩組件的直徑就能夠增加(流動限制件的)尺寸(例如直徑)。此外,多個流動限制件可與多個井篩組件一同使用,從而能夠?qū)νㄟ^流體通路的流動的阻力進(jìn)行微調(diào)。該多個流動限制件可在流體通路中被設(shè)置成串聯(lián),這使得多個流動限制件的構(gòu)造能夠?qū)Χ喾N流體的流動施加不同的阻力。例如,流動限制件可被構(gòu)造為對水的流動施加的阻力大于對油的流動施加的阻力。
[0023]本文公開的可調(diào)節(jié)流動控制裝置不需要移除流體通路中設(shè)置的流動限制件,就能夠選擇性地調(diào)節(jié)個別流體通路。為了實(shí)現(xiàn)此種接入,可使用保持構(gòu)件對每個流體通路提供獨(dú)立且直接的接入,并允許在流通通路中設(shè)置和/或移除流動阻塞件。這與需要打開或密封關(guān)閉整套通路的其它ICD相比是有益的。此外,保持構(gòu)件可從流動控制裝置的外部直接進(jìn)入,因而與需要移除封蓋和/或套管的其它設(shè)計(jì)相比能節(jié)省時間。而且,由于本文描述的流動控制裝置可被容易地調(diào)節(jié),能夠?qū)νㄟ^流動控制裝置的流體在其制造位置和井眼中的儲存位置之間進(jìn)行一次或多次的調(diào)節(jié)和/或再調(diào)節(jié)。本文具體描述了以上和其它優(yōu)點(diǎn)。
[0024]參照圖1,其示出了可使用流動控制裝置的井眼操作環(huán)境的一個示例。如圖所示,該操作環(huán)境包括修井機(jī)和/或鉆井機(jī)106 ;修井機(jī)和/或鉆井機(jī)106位于地面104上,且在井眼114上圍繞井眼114延伸,井眼114穿透地層102以回收烴類??墒褂萌魏魏线m的鉆井技術(shù)將井眼114鉆入地層102內(nèi)。井眼114在豎直井眼部116上遠(yuǎn)離地面104且基本豎直地延伸,在偏轉(zhuǎn)井眼部136上從相對于地面104豎直的方向偏轉(zhuǎn),并過渡到水平井眼部117。在可選的操作環(huán)境中,井眼的所有部分可為豎直、以任何適當(dāng)角度偏轉(zhuǎn)、水平、和/或彎曲。井眼可為新井、現(xiàn)存井、直井、大位移井、側(cè)鉆井、多分支井,以及用于在一個或多個產(chǎn)出區(qū)進(jìn)行鉆進(jìn)和完井的其它任何類型的井眼。此外,該井眼可用作產(chǎn)出井和注入井兩者。
[0025]在井眼的全部壽命中,可將井眼管柱(井管)120降入地層102內(nèi),用于各種鉆井、完井、修井、處理、和/或產(chǎn)出過程。圖1中的實(shí)施例示出的井管120呈設(shè)置在井眼114中的完井組件柱的形式。應(yīng)理解,井管120可等效地實(shí)施為被插入井眼中的任何類型的井管,包括但不限于鉆桿、套管、襯層、接合管件和/或盤管。此外,井管120可在本文所述的任何方向(例如豎直、偏轉(zhuǎn)、水平、和/或彎曲)和/或任何類型的井眼中操作。在一個實(shí)施例中,井眼可包括井眼套管112,井眼套管112可在井眼114中以水泥接合就位。
[0026]在一個實(shí)施例中,井眼管柱120可包括完井組件柱,完井組件柱包括一種或多種類型的井管以及一個或多個井下工具(例如帶狀封隔裝置118、篩、閥等)。該一個或多個井下工具可為多種形式。例如,帶狀封隔裝置118可用于在井眼114中隔離不同區(qū)域,且可包括但不限于封隔器(例如產(chǎn)出封隔器、礫石填充封隔器、壓裂填充封隔器等)。在一個實(shí)施例中,井眼管柱120可包括多個井篩組件122,井篩組件可被設(shè)置在水平井眼部117中。帶狀封隔裝置118可被用在不同的井篩組件122之間,例如用以將井眼114中的不同區(qū)域或區(qū)段彼此隔離。
[0027]修井機(jī)和/或鉆井機(jī)106可包括井架108,井架108具有鉆臺110,井管120從鉆井機(jī)106穿過鉆臺向下延伸至井眼114內(nèi)。修井機(jī)和/或鉆井機(jī)106可包括由電機(jī)驅(qū)動的卷揚(yáng)機(jī)或其它相關(guān)設(shè)備,卷揚(yáng)機(jī)或其它相關(guān)設(shè)備用于將井管120送入井眼114,以將井管120定位在選定深度。雖然圖1所示的操作環(huán)境涉及用于將井管120送入陸基井眼114內(nèi)的固定式修井機(jī)和/或鉆井機(jī)106,但在多個可選實(shí)施例中,可使用移動式修井機(jī)、井眼維護(hù)單元(例如盤管單元)等將井管120送入井眼114內(nèi)。應(yīng)理解,井管120可被可選地用于其它操作環(huán)境,例如用于離岸井眼操作環(huán)境。
[0028]本文描述的流動控制裝置允許對通過流動控制裝置的流動和/或流量施加的阻力進(jìn)行選擇性的調(diào)節(jié)。概括而言,本文描述的流動控制裝置包括:流動限制件,被設(shè)置在位于井管外部與井管內(nèi)部之間的流體通路中;流動阻隔器,被設(shè)置在流體通路中,其中,該流動阻隔器被構(gòu)造為基本阻止流體通過流體通路流動;以及保持構(gòu)件,被構(gòu)造為將流動阻隔器維持在流體通路中。流動控制裝置可在流動限制件在流體通路中保持原位的同時被調(diào)節(jié)。此外,可從流動控制裝置的外部,通過保持構(gòu)件直接進(jìn)入流體通路,來調(diào)節(jié)流動控制裝置。
[0029]參照圖2A,其以放大比例示例性地示出了包括流動控制裝置的多個井篩組件122中的一個井篩組件的局部剖視原理圖。井篩組件122的流動控制裝置是下文中按照可選構(gòu)造來描述的多個不同的流動控制裝置的若干示例中的一個。大致來說,井篩組件122包括過濾部202和流動控制裝置204。過濾部202用于將基本從篩組件122的外部216流到內(nèi)部的流體中的任何砂礫和/或其它雜物的至少一部分濾除。圖2A示出的過濾部202是所謂“繞絲”型,因?yàn)樗峭ㄟ^圍繞井管206螺旋形地緊密繞絲形成的,繞絲之間的間隔被選擇為能夠留下砂礫及大于選定尺寸的其它類似物體,使其不能通過這些繞絲間隔。也可使用其它類型的過濾部(例如燒結(jié)式的、編織和/或非編織網(wǎng)式的、預(yù)填充式的、膨脹式的、狹縫式的、穿孔式的,等等)。過濾部202還可包括一層或多層過濾材料。流體通路210可被設(shè)置在過濾部202與井管206之間,用以使流體能夠經(jīng)過過濾部202,沿井管的外表面流到流動控制裝置204。
[0030]流動控制裝置204可執(zhí)行數(shù)個功能。在一個實(shí)施例中,流動控制裝置204為I⑶,其具有限制從中通過的流動的功能,例如用以沿區(qū)段平衡流體產(chǎn)出。概括而言,流動控制裝置204包括流動限制件208,該流動限制件被設(shè)置在位于井管206的外部216與井管206的內(nèi)部通孔218之間的流體通路210中。在一個實(shí)施例中,流動限制件208被設(shè)置在殼體226中。殼體226可包括基本柱形的構(gòu)件,該構(gòu)件被設(shè)置成圍繞井管206。殼體226可與井管206固定地接合,且在殼體226與井管206的外表面之間可設(shè)置有一個或多個密封件,以在殼體226與井管206之間提供基本不透流體的接合。
[0031]套筒228包括環(huán)形構(gòu)件,該環(huán)形構(gòu)件可被設(shè)置為圍繞殼體226的一部分和過濾部202的一段。套筒228與殼體226的外表面形成密封接合,且套筒228和/或殼體226的對應(yīng)的凹部中可使用一個或多個密封件(例如0形環(huán))來協(xié)助形成密封接合。套筒228可被構(gòu)造為與過濾部202的一部分接合,并阻止流體不經(jīng)過過濾部202就進(jìn)入殼體226。套筒228的內(nèi)表面、井管206的外表面、殼體226與過濾部202之間可限定出腔室232。雖然所示的套筒228是獨(dú)立于殼體226的構(gòu)件,但套筒228可以和殼體226為一整體,且/或殼體226和套筒228可為單一的整體式部件(例如圖2B所示)。
[0032]經(jīng)過過濾部202和腔室232的任何流體可被導(dǎo)向流體通路210,流體通路210被設(shè)置在穿過殼體226的基本縱向方向上。流體通路210可在內(nèi)部通孔218與井管206的外部216之間提供流體連通路徑。流體通路210可基本包括圓筒形通孔,然而也可使用其它形狀的橫截面,例如卵形、方形、矩形、梯形等。流體通路210基本從殼體226的第一端234延伸到殼體226的第二部分236,其中第一端234與腔室232流體連通,而第二部分236中設(shè)有一個或多個端口 222。端口 222可與被設(shè)置在井管206中的一個或多個端口 224對準(zhǔn),且端口 222、224可共同提供流體通路210與井管206的內(nèi)部通孔218之間的流體流通路徑。端口 222和/或端口 224可基本包括具有方形、圓形、狹縫形或其它構(gòu)造的多個孔。
[0033]在一個實(shí)施例中,可在殼體226中圍繞井管206的周緣設(shè)置有多個流體通路210。圖3示出了流動控制裝置的實(shí)施例沿圖2A中的A-A’線截取的剖視圖。在該實(shí)施例中,在殼體226內(nèi)圍繞井管206的八個對應(yīng)的流體通路中對應(yīng)地設(shè)有八個流動限制件302、304。每個流體通路可被構(gòu)造為用以在井管206的外部216與井管206的內(nèi)部通孔218之間提供流體連通。雖然圖3示出了八個流體通路,但在殼體226中在流體通路210的可用空間的限制之內(nèi),可使用任何數(shù)量的、帶有本文描述的流動控制裝置的流體通路。在一個實(shí)施例中,流動控制裝置可包括為數(shù)在大約1個與大約12個之間的流體通路,可選的是為數(shù)在大約2個與大約10個之間的流體通路。在一些實(shí)施例中,殼體226中可設(shè)置有12個流體通路,從而為通過流動控制裝置的更大流量的流體提供更大的流動面積。
[0034]在一個實(shí)施例中,多個流體通路可圍繞井管206均勻地分布,或者多個流體通路210可不均勻地分布。例如,井管206在殼體226內(nèi)的偏心對準(zhǔn)會允許多個流體通路圍繞井管206的偏心對準(zhǔn)的應(yīng)用。在一個實(shí)施例中,每個流體通路210可具有相同或不同的直徑和/或縱向長度。
[0035]回到圖2A,流動限制件208可基本被設(shè)置在位于第一端234與一個或多個端口222之間的流體通路210中。流動限制件208被構(gòu)造為對流過流動限制件208的流體施加所需阻力。流動限制件208可被選擇為用以沿區(qū)域平衡產(chǎn)出的阻力。可將多種類型的流動限制件208與本文所述的流動控制裝置一同使用。在圖2A所示的實(shí)施例中,流動限制件包括噴嘴,噴嘴包括中心開口(例如孔口 ),中心開口被構(gòu)造為對流過流動限制件208的流體造成規(guī)定的阻力和壓降。中心開口可具有多種構(gòu)造,可為圓形橫截面,也可在橫截面中的一個或多個第一邊緣211或第二邊緣213包括尖銳的方形邊緣。概括而言,在第一邊緣211和/或第二邊緣213處采用方形邊緣,可比其它形狀在孔口中造成更大的壓降。此外,采用方形邊緣,可根據(jù)通過流動限制件的流體的粘度而在流動限制器中造成壓降。采用方形邊緣可在流動限制器中對水性流體(aqueous fluid)造成比烴類流體大的壓降,從而相對于任何烴類(例如油)產(chǎn)物,對任何所產(chǎn)生的水產(chǎn)物的流動表現(xiàn)出更大的阻力。因此,采用包括方形邊緣的中心開口可有益地抵抗水的流動(與對烴類流動的抵抗相比)。在本文描述的一些實(shí)施例中,可使用串聯(lián)的多個噴嘴型流動限制件。
[0036]多個流動限制件208也可包括一個或多個限流器管。限流器管基本包括具有多個內(nèi)部限制件(例如孔口)的管形段。這些內(nèi)部限制件被構(gòu)造為對通過限流器管的流動表現(xiàn)最大的阻力。這些限流器管的橫截面可為基本圓筒形,然而其它形狀的橫截面也是可行的。這些限流器管可被設(shè)置在流體通路210中,使流體通過限流器管的內(nèi)部,且這些限流器管可與井管在流體通路210中的縱軸線基本對準(zhǔn)。因此,該多個內(nèi)部限制件可對流體施加規(guī)定的阻力。
[0037]這些內(nèi)部限制件可與上文中關(guān)于噴嘴型流動限制件所描述的中心開口相同或相似。在一個實(shí)施例中,內(nèi)部限制件中的一個或多個可包括方形邊緣。在一些實(shí)施例中,這些邊緣中的一個或兩個可不設(shè)有邊緣上的圓角或倒角,甚至可被制造為尖銳的。這些內(nèi)部限制件可具有方形肩臺部,這些肩臺部位于內(nèi)部限制件與限流器管的內(nèi)表面之間的內(nèi)部邊緣處。在一個實(shí)施例中,限流器管的縱向長度可至少大于一個或多個內(nèi)部限制件中的任一個內(nèi)部限制件的縱向長度的兩倍。對于該多個內(nèi)部限制件中的每個內(nèi)部限制件來說,內(nèi)部限制件的構(gòu)造(例如橫截面形狀、內(nèi)徑、縱向長度等)可以相同或不同。由于采用一個或多個噴嘴型流動限制件,所用的限流器管包括多個內(nèi)部限制件,而內(nèi)部限制件包括一個或多個方形邊緣,所以與對烴類的流動相比,能夠有益地抵抗水的流動。
[0038]也可使用其它適當(dāng)?shù)牧鲃酉拗萍?,包括但不限于狹窄流動管、環(huán)形通道、彎管流動限制器、以及螺旋管等。狹窄流動管可包括長度與直徑之比大于約2.5且對流動施加所需阻力的任何管。類似地,環(huán)形通道包括狹窄流動通道,其通過流體通路的表面施加的摩擦力來施加阻力。彎管流動限制器包括管狀結(jié)構(gòu),當(dāng)流體進(jìn)入并流過流動限制器時,該管狀結(jié)構(gòu)迫使流體改變方向。類似地,螺旋管制器包括流體通路,當(dāng)流體流過流動限制器時,該流體通路迫使流體進(jìn)入螺旋形流動路徑。通過彎管和/或螺旋管流動限制器的流體的動量被反復(fù)改變,增加了對流體的阻力且能夠使用較大的流動通道,較大的流動通道不像狹窄流動管和/或環(huán)形通道的狹窄流動通道那樣容易阻塞。這些不同類型的流動限制件均可對流過流動限制器的流體施加所需的流動阻力和/或壓降。由于流動阻力會根據(jù)流體的類型變化,所以流動限制件的類型可被選擇,以對一種或多種流體的流動施加所需阻力。
[0039]流動限制件會受到經(jīng)過流動限制件的流體的侵蝕和/或磨耗。因此流動限制件,或至少將與流體流動相接觸的那些部分可用任何耐侵蝕和/或耐磨的適當(dāng)材料來形成。適當(dāng)材料可包括各種硬質(zhì)材料,例如各種鋼、鎢、鈮、釩、鑰、硅、鈦、鉭、鋯、鉻、釔、硼、碳化物(例如碳化鎢、碳化硅、碳化硼)、氮化物(例如氮化硅、氮化硼)、氧化物、硅化物、以上材料的合金、以及以上材料的任何組合。在一個實(shí)施例中,這些硬質(zhì)材料中的一種或多種可形成一部分復(fù)合材料。例如,這些硬質(zhì)材料可形成在抵抗侵蝕和/或磨耗上有效的顆?;虿贿B續(xù)相材料,且母體材料可結(jié)合硬質(zhì)顆粒相。適當(dāng)?shù)哪阁w材料可包括銅、鎳、鐵、鈷、以上材料的合金、以及以上材料的任何組合物。由于對硬質(zhì)、耐磨、耐侵蝕和/或耐磨的材料進(jìn)行機(jī)加工通常既困難又昂貴,所以可通過以金屬來形成呈所需構(gòu)造的這些流動限制件,然后可對流動限制件的一個或多個部分進(jìn)行處理,來提供所需的磨耗、侵蝕和/或磨損耐性。用于提供侵蝕和/或磨耗耐性的適當(dāng)表面處理可包括但不限于滲碳、滲氮、熱處理及其任何組合。在侵蝕和/或磨耗并非關(guān)注點(diǎn)的實(shí)施例中,可使用適當(dāng)?shù)母郊硬牧?,例如各種聚合物。
[0040]在殼體226中圍繞井管206設(shè)置多個流體通路210的一個實(shí)施例中,在每個流體通路210中可設(shè)置有一個或多個流動限制件208。對于被設(shè)置在每個流體通路210中的一個或多個流動限制件208來說,流動限制件的設(shè)計(jì)和類型可被分別改變。例如,每個流體通路中的多個流動限制件208的類型可為彼此相同或不同。
[0041]在一個實(shí)施例中,被設(shè)置在每個流體通路210內(nèi)的一個或多個流動限制件中的每一個流動限制件的設(shè)計(jì)也可相同或不同。在圖3所示的實(shí)施例中,多個流動限制件包括多個噴嘴型流動限制件,多個中心開口的構(gòu)造(例如尺寸、橫截面形狀等)可確定流動的阻力以及每個流動限制件302、304中的壓降。被設(shè)置在每個流體通路210中的多個流動限制件302、304中的每個可流動限制件具有不同尺寸的中心開口,從而將一些流動限制件302設(shè)置為流動的阻力較低(例如使用較大的中心開口)而一些流動限制件304對流動具有較高阻力(例如使用較小的中心開口)。在圖3示出的實(shí)施例中,流動限制件302的中心開口可大于流動限制件304 (的中心開口)。大流動限制件302和小流動限制件304的組合則可用于提供流動控制裝置的所需的總流動阻力和/或總流量。雖然圖3中示出了兩種中心開口的尺寸,但應(yīng)認(rèn)識到,也可存在三種或更多種不同的尺寸,且在一個實(shí)施例中,每個流動限制件可為不同尺寸的限制件。此外,還可按照流動限制件302、304設(shè)置一個或多個附加流動限制件。在一個實(shí)施例中,通過流動控制裝置的總流量和阻力、或全部流量和阻力,可為被設(shè)置在多個流體通路210中的多個流動限制件208所施加的每個單獨(dú)的流量和阻力的組合的函數(shù)。由于利用多個流動限制件208的組合能夠?qū)α黧w流動形成不同的阻力,所以可允許以一個給定的流動控制裝置提供對總流量和總流動阻力的大范圍選擇,從而能夠沿一個區(qū)段對產(chǎn)出進(jìn)行平衡。
[0042]回到圖2A的實(shí)施例,流動限制件208可被固定地接合在流體通路210中。例如,流動限制件208可被壓配合、卡扣配合、收縮配合、結(jié)合(例如粘附、錫焊、銅焊、釬焊等)、和/或與殼體一體成型從而無法從殼體226上移除。在某些情況下流動限制件可被認(rèn)為是永久性地安裝到殼體226中。在一些實(shí)施例中,流動限制件208可與殼體226接合,但不是永久性地與殼體226接合,從而只有移除流動控制裝置的一個或多個部分(例如套筒228)才能進(jìn)入流動限制件。在一個實(shí)施例中,不能通過進(jìn)入端口 230和/或陷入殼體226的保持構(gòu)件214來接近和/或移除流動限制件208。
[0043]在產(chǎn)出操作中,流體220通常會通過過濾部202從井管206的外部216流到篩組件122,并流到流動控制裝置204。在流動控制裝置204中,流體220可流過腔室232,流過對流體220的流動施加阻力的流動限制件208,再流過流體通路210,流過殼體226中的一個或多個端口 222,然后流過被設(shè)置在井管206中的一個或多個端口 224。然后,流體220可流入井管206的內(nèi)部通孔218內(nèi),內(nèi)部通孔218縱向延伸穿過作為管柱120的一部分的流動控制裝置。流體220可通過管柱120被產(chǎn)出到地面。流體220也可通過過濾部202和/或流動控制裝置204向外流動。例如有時在完井操作中,流體220可從井管206的內(nèi)部通孔218向外朝向井管206的外部216流動。雖然以上按照特定設(shè)置來描述過濾部202和流動控制裝置204,但流動控制裝置204可相對于從井管206的外部216流到內(nèi)部通孔218的流體,位于過濾部202的上游。
[0044]井篩組件122的其它多種構(gòu)造也是可行的。如圖2B所示,流體通路210基本從殼體226的與腔室232流體連通的第一端234延伸到殼體226的第二部分236。不同于在殼體226中設(shè)置端口,流動限制件208可被設(shè)置在殼體226中且位于第二部分236與被設(shè)置在井管206中的一個或多個端口 224之間,這樣來提供進(jìn)入井管206的內(nèi)部通孔218的流體通路。在一個實(shí)施例中,流動限制件208包括噴嘴型流動限制件,且噴嘴型流動限制件的中心開口可沿徑向(即基本垂直于井管206的縱軸線的方向)對準(zhǔn)。為了能夠?qū)⒘鲃幼枞3衷诹黧w通路210中,殼體226可包括肩臺部253或者包括流體通路210的其它形式的內(nèi)徑減小部,以提供接合流動阻塞件212的表面。在該實(shí)施例中,流動阻塞件212可被設(shè)置在位于井管206的外部216與流動限制件208之間的流體通路210中。流動限制件208的徑向?qū)?zhǔn)能夠使流動限制件具有較大的可使用直徑而無需增大井篩組件122的總直徑。
[0045]使用本文所述的用于安裝流動限制件208的任何方法,流動限制件208能夠被安裝為徑向?qū)?zhǔn)。在一個實(shí)施例中,進(jìn)入端口 250可被設(shè)置在殼體226中,且與流動限制件208徑向?qū)?zhǔn),以提供用于安裝流動限制件208的入口。當(dāng)流動限制件208被設(shè)置在殼體226中之后,蓋帽251可被接合在進(jìn)入端口 250中。蓋帽可被壓配合、卡扣配合、收縮配合、結(jié)合(例如粘附、錫焊、銅焊、釬焊等)、或以上配合方式的組合,使蓋帽一旦被安裝就無法從殼體226上移除。
[0046]在圖2B所示的實(shí)施例中,通過過濾部202進(jìn)入井篩組件122的流體260通常會流過腔室232,流過流體通路210,流過沿徑向?qū)?zhǔn)的流動限制件208,然后流過被設(shè)置在井管206中的一個或多個端口 224。然后流體260可流入井管206的內(nèi)部通孔218內(nèi),井管206縱向地穿過作為管柱120的一部分的流動控制裝置延伸。流體260還可以沿相反的流動路線,通過過濾部202和/或流動控制裝置204向外流動。
[0047]圖2C示出了井篩組件122的又一個實(shí)施例。在該實(shí)施例中,多個流動限制件可被設(shè)置在流體通路210中,且位于內(nèi)部通孔218與井管206的外部216之間。第一流動限制件252可被設(shè)置在殼體226中且接近腔室232,而第二流動限制件248可被設(shè)置在殼體226中且位于第二部分236與被設(shè)置在井管206中的一個或多個端口 224之間。第一流動限制件252可與井管206的縱軸線基本對準(zhǔn),而第二流動限制件248可如同關(guān)于圖2B所描述的那樣被徑向?qū)?zhǔn)。在該實(shí)施例中,流動阻塞件212可被設(shè)置在流體通路210中且位于第一流動限制件252與第二流動限制件248之間。在一個實(shí)施例中,第二流動限制件248可包括噴嘴型流動限制件,而第一流動限制件252可包括另一個噴嘴型流動限制件或本文描述的任何其它類型的流動限制件。流動限制件248、252可利用本文描述的任何方法來安裝。如上所述,利用噴嘴型流動限制件可對不同類型的流體施加不同的阻力。將多個噴嘴型流動限制件設(shè)置成串聯(lián),則可使得對流動控制裝置204中的水產(chǎn)物施加的阻力大于對液體烴類產(chǎn)物施加的阻力。
[0048]在圖2C所示的實(shí)施例中,通過過濾部202進(jìn)入井篩組件122的流體262通常會流過腔室232,流過第一流動限制件252,流過流體通路210,流過沿徑向?qū)?zhǔn)的第二流動限制件248,然后流過被設(shè)置在井管206中的一個或多個端口 224。然后流體262可流入井管206的內(nèi)部通孔218,井管206縱向地穿過作為管柱120的一部分的流動控制裝置延伸。流體262還可以沿相反的流動路線,通過過濾部202和/或流動控制裝置204向外流動。
[0049]圖2D示出了井篩組件122的再一個實(shí)施例。在該實(shí)施例中,多個流動限制件可在流體通路210中被設(shè)置為串聯(lián),且位于內(nèi)部通孔218與井管206的外部216之間。第一流動限制件252、第二流動限制件254、和第三流動限制件256可在流體通路210中被設(shè)置為串聯(lián)。流動限制件252、254、256中的每一個均可與井管206的縱軸線基本對準(zhǔn)。流動限制件252、254、256可由本文描述的任何方法進(jìn)行安裝。雖然示出了三個流動限制件252、254、256,但在流體通路210中,也可將兩個流動限制件或多于三個的流動限制件設(shè)置為串聯(lián)。雖然未示出,但另一個流動限制件可被設(shè)置為接近一個或多個端口 224,該流動限制件可設(shè)置為徑向?qū)?zhǔn)。在一個實(shí)施例中,流動限制件252、254、256可包括噴嘴型流動限制件。每個噴嘴型流動限制件可具有相同或不同的構(gòu)造。如上所述,利用噴嘴型流動限制件可對不同類型的流體施加不同的阻力。將多個噴嘴型流動限制件形成串聯(lián)則可使得對流動控制裝置204中的水產(chǎn)物施加的阻力大于對液體烴類產(chǎn)物施加的阻力。因此,具有所需構(gòu)造的適當(dāng)數(shù)量的流動限制件可被選擇和設(shè)置為串聯(lián),以對流動產(chǎn)生適當(dāng)?shù)牟煌枇Α?br> [0050]雖然所示的被設(shè)置為串聯(lián)的多個流動限制件中的一個或多個為噴嘴型流動限制件,但流動限制件可包括本文描述的任何其它類型的流動限制件。在一個實(shí)施例中,這些流動限制件可被形成為單個流動限流器管,該流動限流器管沿其長度具有多個內(nèi)部限制件。該構(gòu)造可沿流體通路210的長度,在內(nèi)部通孔218與井管206的外部216之間設(shè)有多個流動限制件。在一些實(shí)施例中,該多個流動限制件中的一個或多個可為一種或多種其它類型的流動限制件。
[0051]在圖2D所示的實(shí)施例中,通過過濾部202進(jìn)入井篩組件122的流體263通常會流過腔室232,流過第三流動限制件256,流過第二流動限制件254,流過第一流動限制件252,流過流體通路210,到達(dá)流體通路210的第二部分236,然后流過被設(shè)置在井管206中的一個或多個端口 224。然后流體263可流入井管206的內(nèi)部通孔218,井管206縱向地穿過作為管柱120的一部分的流動控制裝置延伸。流體263還可以沿相反的流動路線,通過過濾部202和/或流動控制裝置204向外流動。
[0052]回到圖2A,流動阻塞件212可被設(shè)置在流體通路210中,且可借助保持構(gòu)件214被保持在流體通路210中。保持構(gòu)件214可移除地接合殼體226,從而能夠在流體通路210中設(shè)置和/或移除流動阻塞件212。在一個實(shí)施例中,該保持構(gòu)件包括入口插塞,入口插塞的外部設(shè)有螺紋且該螺紋被構(gòu)造為與被設(shè)置在殼體226上的相應(yīng)螺紋接合。在一個實(shí)施例中,入口插塞可被壓配合、卡扣配合與殼體226保持接合,和/或利用保持夾(例如開口環(huán))、緊定螺釘?shù)缺3衷c殼體226保持接合。在包括圍繞井管206被設(shè)置在殼體226中的多個流體通路210的一個實(shí)施例中,每個流體通路210可與對應(yīng)的保持構(gòu)件214 —同使用,以允許進(jìn)入每個單獨(dú)的流體通路210。
[0053]保持構(gòu)件214可從流動控制裝置的外部216通過進(jìn)入端口 230進(jìn)入,進(jìn)入端口 230允許直接進(jìn)入每個單獨(dú)的流體通路210。進(jìn)入端口 230可從外部216進(jìn)入,而無需移除流動控制裝置的任何其它構(gòu)件和/或完井組件的任何其它構(gòu)件。由于保持構(gòu)件214會直接暴露在井眼環(huán)境中,所以保持構(gòu)件214可與殼體226形成基本不透流體的密封。一個或多個密封件(例如O形環(huán)密封件等)可用于在保持構(gòu)件214與殼體226之間形成密封。相對于具有封蓋或套筒且必須移除該封蓋或套筒才能進(jìn)入內(nèi)部流體通路210的現(xiàn)有設(shè)計(jì),上述的能夠直接進(jìn)入單獨(dú)的流體通路210的方式是有益的。
[0054]當(dāng)流動阻塞件212被設(shè)置在流體通路210中時,該流動阻塞件可用于基本阻止流體流過流體通路210,且可包括能夠基本阻止或阻擋流體流過流體通路210的任何機(jī)構(gòu)。流動阻塞件212能夠允許選擇性地限制殼體226中的一個或多個流體通路210。通過保持構(gòu)件214與入口相結(jié)合,被設(shè)置在流體通路210中的流動阻塞件212可用于快速地配置和/或重新配置流動控制裝置對流動的阻力和/或壓降(該流動控制裝置具有多個被固定在殼體226中的流動限制件208)。
[0055]在圖2A所示的實(shí)施例中,流動阻塞件212可包括桿或插塞。該桿可被構(gòu)造為可移除地設(shè)置在流體通路中,且具有與流體通路210相配的對應(yīng)形狀。該桿相對于流體通路210可具有相對小的公差,這樣當(dāng)該桿被設(shè)置在通路210中時,該桿與流體通路210之間僅保留一個小的環(huán)形空隙。該桿的長度可足以超過被設(shè)置在殼體226中的一個或多個端口 222,并延伸至流體通路210內(nèi),從而基本阻止通過流體通路210的流動。在一個實(shí)施例中,桿的直徑可大于通過流動限制件的通路(例如噴嘴的中心開口),從而可以被保持在位于保持構(gòu)件214與流動限制件208之間的流體通路210中。在一些實(shí)施例中,流體通路可包括縮窄部(例如在圖2B的肩臺部253處),用以將流動阻塞件212保持在流體通路210中。在一個實(shí)施例中,桿可不與流體通路210形成不透流體密封。然而,桿的外表面與流體通路210的內(nèi)表面之間的任何小環(huán)形空間可形成環(huán)空,該環(huán)空對流動具有相對較高的阻力,該阻力可基本大于相同或不同的流動控制裝置上的另一個流體通路210對流動的任何阻力。由于流動的阻力增加,所以可基本阻止流體流過設(shè)有桿的流體通路210。在一個實(shí)施例中,一個或多個密封件(例如O形環(huán)密封件)可被設(shè)置在桿和/或流體通路210上的凹部中,以提供桿與流體通路210之間的不透流體密封。
[0056]該桿可通過從殼體226上移除保持構(gòu)件214而從流體通路210被移除(殼體226是可通過進(jìn)入端口 230進(jìn)入)。保持構(gòu)件214和進(jìn)入端口 230的尺寸可被設(shè)定為允許移除桿。因此桿可被移除,且保持構(gòu)件214可隨后與殼體226重新接合,以使流體能夠流過流體通路210。類似地,通過從殼體上移除保持構(gòu)件214,并將桿插入流體通路210內(nèi),可將該桿設(shè)置在流體通路中。然后可使保持構(gòu)件214與殼體226重新接合,從而基本阻止流體流過流體通路210。
[0057]圖4所示的實(shí)施例中示出了流動控制裝置的另一個實(shí)施例。在該實(shí)施例中,流動阻塞件412包括具有錐形(例如圓錐形、平頭圓錐形、曲線型等)端段402的桿。該桿可被設(shè)置在流體通路210中,使得內(nèi)部通孔218中的壓力大于井管206的外部216 (的壓力),內(nèi)部通孔218中的壓力可作用到桿的一端406,并將桿偏置成與流動限制件208接觸。錐形端段可接合流動限制件208的開口(例如噴嘴型流動限制件的中心開口),該開口可具有相應(yīng)地成角度的和/或斜邊形的座部404。錐形端段402與座部404相互作用,可對通過流體通路210朝向腔室232流動的流體形成基本不透流體的密封。在一些實(shí)施例中,桿可接合流體通路210的縮窄部,該縮窄部被構(gòu)造為形成座部而非流動限制件,從而對流過流體通路210的流體形成基本不透流體的密封。
[0058]當(dāng)井管206的外部216的壓力大于內(nèi)部通孔218中的壓力時,桿可朝向保持構(gòu)件被偏置,并通過保持構(gòu)件214被保持在流體通路210中。在這樣的構(gòu)造中,桿的外表面與流體通路210的內(nèi)表面之間的狹窄環(huán)形空隙可對流體的流動形成實(shí)質(zhì)阻力,從而基本阻止流體流過流體通路210。在一個實(shí)施例中,一個或多個密封件(例如,O形環(huán)密封件)可被設(shè)置在桿和/或流體通路210上的凹部中,以在桿與流體通路210之間形成不透流體的密封,這可以作為錐形端段402與流動限制件208之間形成的密封的冗余密封。
[0059]可通過從殼體226上移除保持構(gòu)件214,而從流體通路210移除該桿,殼體226可通過進(jìn)入端口 230進(jìn)入。保持構(gòu)件214和進(jìn)入端口 230的尺寸可被設(shè)定為能夠移除桿。因此桿可被移除,并使保持構(gòu)件214與殼體226重新接合,以使流體能夠流過流體通路210。類似地,通過從殼體上移除保持構(gòu)件214,并將桿插入流體通路210內(nèi),可將該桿設(shè)置在流體通路中。然后保持構(gòu)件214可與殼體226重新接合,從而基本阻止流體流過流體通路210。
[0060]在圖5所示的實(shí)施例中示出了流動控制裝置的另一個實(shí)施例。在該實(shí)施例中,流動阻塞件512包括一球。該球可由任何適當(dāng)?shù)牟牧闲纬?,且可基本為球形,但其它形狀也是可行的。球可被設(shè)置在腔室506中,腔室506被限定在流體通路210中。球的直徑可大于開口 502的直徑(開口 502與流動限制件208流體連通),且大于被設(shè)置在殼體226中的端口 222的開口 504直徑。在一個實(shí)施例中,流動限制件可被設(shè)置在端口 222處,且開口 504可包括流動限制件的開口(例如噴嘴型流動限制件的中心開口),該開口可被設(shè)置為徑向?qū)?zhǔn)。開口 502和/或開口 504可具有斜面形的和/或球形的匹配表面,以用作與球接觸的座部。
[0061]一旦球與開口 502和/或開口 504之間接合,該球可對流過開口 502和/或開口504的流體分別形成基本密封。如上所述,完全的流體密封不是必須的,因?yàn)橹灰獙α鲃拥淖枇敬笥诰?06的外部216與內(nèi)部通孔218之間的可選通路中的阻力,一定量的泄漏是允許的。所以一旦通過流體通路210施加壓力差,該球可基本阻止流體流過流體通路210。例如,當(dāng)存在于內(nèi)部通孔218中的壓力大于井管206的外部216的壓力時,該壓力和導(dǎo)致的任何流體流動可將球朝向開口 502偏置。球可接合流體通路的開口 502,并因而對通過流體通路210的流體形成密封。類似地,當(dāng)井管206的外部216的壓力大于內(nèi)部通孔218中的壓力時,球可抵靠開口 504被偏置。球可接合流體通路210的開口 504,并由此對通過流體通路210的流體形成密封。在一個實(shí)施例中,開口 502的直徑可大于球的直徑。在該實(shí)施例中,球可被構(gòu)造為接合流動限制件208的開口,從而基本形成密封。
[0062]該球可通過從殼體226上移除保持構(gòu)件214而從流體通路210被移除,殼體226可通過進(jìn)入端口 230進(jìn)入。保持構(gòu)件214和進(jìn)入端口 230的尺寸被設(shè)定為能夠移除球。因此球可從腔室506中被移除,并且保持構(gòu)件214可隨后與殼體226重新接合,使得流體能夠流過流體通路210。類似地,通過從殼體上移除保持構(gòu)件214,并將球插入流體通路210中的腔室506內(nèi),該球可被設(shè)置在流體通路中。然后保持構(gòu)件214可與殼體226重新接合,從而基本阻止流體流過流體通路210。
[0063]在圖6所示的實(shí)施例中示出了流動控制裝置的另一個實(shí)施例。在該實(shí)施例中,流動阻塞件612包括一插塞,該插塞被設(shè)置在位于流動限制件208與殼體226中的端口 222之間的流體通路210中。利用任何適當(dāng)?shù)母浇訖C(jī)構(gòu)或工具,該插塞可與流體通路210可移除地和/或可釋放地接合。在圖6示出的實(shí)施例中,插塞包括設(shè)有螺紋的外部,該螺紋被構(gòu)造為與被設(shè)置在流體通路210的內(nèi)部的螺紋接合。在一個實(shí)施例中,插塞可被壓配合、卡扣配合,和/或利用保持夾(例如開口環(huán))、緊定螺釘?shù)缺3衷槐3?。插塞可基本阻止流體流過流體通路210。插塞可基于插塞與流體通路210的接合來形成基本不透流體的密封。在一個實(shí)施例中,一個或多個密封件(例如O形環(huán))可被設(shè)置在插塞和/或流體通路210中的對應(yīng)的凹部內(nèi),以在插塞與流體通路210之間提供密封。
[0064]該插塞可通過從殼體226上移除保持構(gòu)件214而從流體通路210被移除,殼體226可通過進(jìn)入端口 230進(jìn)入。保持構(gòu)件214和進(jìn)入端口 230的尺寸被設(shè)定為能夠移除插塞。因此插塞可從流體通路210上脫開,并從流動控制裝置中被移除。然后保持構(gòu)件214可與殼體226重新接合,以使流體能夠流過流體通路210。類似地,通過從殼體上移除保持構(gòu)件214,并將插塞插入流體通路210內(nèi),該插塞可被設(shè)置在流體通路中。然后插塞可與流體通路210接合。然后保持構(gòu)件214可與殼體226重新接合,從而基本阻止流過流體通路210的流體。
[0065]在圖7所示的實(shí)施例中示出了流動控制裝置的另一個實(shí)施例。在該實(shí)施例中,流動阻塞件712包括與相對于圖6來描述的插塞類似的插塞。然而,圖7示出的插塞包括位于插塞中心的薄段702。插塞可被構(gòu)造為基本阻止流體流過流體通路210,且抵抗井管206的外部216與內(nèi)部通孔218之間的預(yù)期的壓力差。插塞也可被構(gòu)造為,使薄段702能夠被適當(dāng)?shù)臎_擊器或穿孔機(jī)構(gòu)刺穿和/或刺破,從而建立通過插塞的流體連通。在圖7所示的實(shí)施例中,插塞包括設(shè)有螺紋的外部,該螺紋被構(gòu)造為與被設(shè)置在流體通路210的內(nèi)部的螺紋接合。在一個實(shí)施例中,插塞可被壓配合、卡扣配合,和/或通過保持夾(例如開口環(huán))、緊定螺釘?shù)缺3衷槐3帧2迦诒淮檀┣翱苫咀柚沽黧w流過流體通路210。在一個實(shí)施例中,一個或多個密封件(例如O形環(huán))可被設(shè)置在插塞和/或流體通路210中的對應(yīng)的凹部內(nèi),以在插塞與流體通路210之間形成密封。
[0066]當(dāng)(插塞)接合在流體通路210中時,可通過從殼體226上移除保持構(gòu)件214來建立通過具有薄段702的插塞的流體連通,殼體226可通過進(jìn)入端口 230進(jìn)入。保持構(gòu)件214和進(jìn)入端口 230的尺寸可被設(shè)定為能夠使用沖機(jī)器或其他刺穿機(jī)構(gòu)穿入流體通路210內(nèi)。因此插塞可被刺穿和/或刺破,以形成通過插塞的流體流通路徑。然后保持構(gòu)件214可與殼體226重新接合,以使流體能夠沿流體通路210通過已被刺穿的插塞。
[0067]為了基本阻止流體流過流體通路210,被刺破插塞可由新插塞來替換。通過從殼體移除保持構(gòu)件,并從流體通路210移除被刺芽的插塞,新插塞可被設(shè)直在流體通路210中。然后新插塞可被插入并接合在流體通路210中。然后保持構(gòu)件214可與殼體226重新接合,從而基本阻止流體流過流體通路210。
[0068]在圖8所示的實(shí)施例中,示出了流動控制裝置的又一個實(shí)施例。在該實(shí)施例中,流動阻塞件812包括可變形插塞。可變形插塞可包括一種或多種可變形材料,且可被構(gòu)造為通過壓配合或其它適當(dāng)方式而被設(shè)置在流體通路210中。一旦插塞被壓配合在流體通路210中,該插塞可變形(例如彈性地變形和/或塑性地變形)并接合流體通路210的內(nèi)表面,從而基本阻止流體流過流體通路210??捎糜谛纬煽勺冃尾迦倪m當(dāng)材料可以包括任何數(shù)量的多種相對較軟的金屬,例如鉛、鋅、銅、銀、銻、金、錫、鉍、銦、鋁、以及上述金屬的組合或者合金。在一個實(shí)施例中,一種或多種適當(dāng)?shù)木酆衔锍煞挚捎糜谛纬煽勺冃尾迦6喾N聚合物成分可適當(dāng)?shù)赜迷诰戮郗h(huán)境中,其包括但不限于丁腈橡膠(例如腈基丁二烯橡膠(nitrile butadiene rubber),氫化臆基丁二烯橡膠(hydrogenated nitrile butadienerubber)等)、含氟聚合物(例如氟橡膠、四氟乙烯、四氟乙烯/丙烯混合物)、聚酰胺、乙丙二烯橡膠(ethylene propylene diene rubber)等等。也可使用額外的能夠在流體通路210內(nèi)變形的適當(dāng)材料。
[0069]為了基本阻止流體流過流體通路210,可從殼體226上移除保持構(gòu)件214 (保持構(gòu)件214可通過進(jìn)入端口 230來接近)。然后可將可變形插塞至少部分地設(shè)置在流體通路210中。然后可將可變形插塞壓配合到流體通路210內(nèi),從而使可變形插塞變形并使可變形插塞在流體通路210中受力。因此可變形插塞可基本阻止流體流過流體通路210。然后保持構(gòu)件214可與殼體226重新接合。
[0070]當(dāng)(可變形插塞)接合在流體通路210中時,可變形插塞可通過首先從殼體226上移除保持構(gòu)件214而被移除。在一個實(shí)施例中,可通過握持并移除可變形插塞來移除可變形插塞。在一個實(shí)施例中,可變形插塞可被鉆開和/或銑開,以移除可變形插塞的至少一部分,從而通過可變形插塞且沿流體通路210建立流體連通。然后保持構(gòu)件214可與殼體226重新接合,以允許流體通過可變形插塞的任何剩余部分。
[0071 ] 在流動控制裝置使用了多個流體通路的實(shí)施例中,任何流動限制件、流動阻塞件、以及在流體通路中安裝和/或移除流動阻塞件的方法均可與任何流體通路一同使用。每個流體通路可包括相同類型的流動阻塞件或不同類型的流動阻塞件。而且,每種類型的流動阻塞件可與本文描述的任何流動限制件一同使用。流動限制件和流動阻塞件之間的所有組合均可被視為本文描述的流動控制裝置的一部分。根據(jù)以上描述還應(yīng)注意,在每個示例中,流動阻塞件可被設(shè)置在流體通路中和/或從流體通路被移除,而無需移除一個或多個流動限制件(流動限制件可被固定地設(shè)置在流體通路中)。
[0072]在一個實(shí)施例中,多個流動控制裝置可用于一個或多個井管節(jié)段,這些井管節(jié)段可覆蓋井眼中的一個或多個區(qū)段。井眼管柱一般指的是多個井管節(jié)段,這些井管節(jié)段被連接在一起,用于在井眼內(nèi)進(jìn)行輸送。例如,井眼管柱可包括在井眼內(nèi)進(jìn)行輸送的生產(chǎn)管柱,生產(chǎn)管柱用于從井眼產(chǎn)出一種或多種流體?;诰壑械念A(yù)期狀況以及這些區(qū)段的位置,流動控制裝置的數(shù)量和種類、以及流動控制裝置沿井管的間隔可沿井管的長度變化。在一個實(shí)施例中,多個流動控制裝置包括一個或多個流動限制件和/或流動阻塞件,該一個或多個流動限制件和/或流動阻塞件被設(shè)置在一個或多個對應(yīng)的流體通路中,這些流動控制裝置可形成井眼管柱的一部分。井眼管柱可隨后被放置在設(shè)于地層中的井眼內(nèi),并用于從地層產(chǎn)出一種或多種流體。在一個實(shí)施例中,多個流動控制裝置可被用來平衡來自地層中的一個或多個區(qū)段的產(chǎn)出,這些流動控制裝置可形成一個或多個井篩組件的一部分。
[0073]由于能夠進(jìn)入流體通路,以在流體通路中設(shè)置和/或移除流動阻塞件,這使得流動控制裝置能夠被重新構(gòu)造,以對流動施加所需阻力,并由此針對井眼節(jié)段中的預(yù)期狀況來提供所需的通過流動控制裝置的流量。流動控制裝置可始于流動阻塞件,這些流動阻塞件被設(shè)置在所有流體通路中、不被設(shè)置在所有流體通路中、或被設(shè)置在一些流體通路中。然后可通過在個別的通路中安裝和/或移除流動阻塞件,以選擇性地調(diào)節(jié)這些流動阻塞件,而對通過流動控制裝置的流動施加所需阻力。在一個實(shí)施例中,這些流動阻塞件可基于多種原因、包括但不限于基于對流體阻力和/或流量的確定而被調(diào)節(jié)。
[0074]在一個實(shí)施例中,流動控制裝置可被設(shè)置為包括多個流體通路,這些流體通路位于井管的外部與井管的內(nèi)部之間。每個流體通路可包括一個或多個流動限制件,且一個或多個流動阻塞件被構(gòu)造為基本阻止流體流過流體通路。對應(yīng)的多個保持構(gòu)件可被構(gòu)造為將流動阻塞件維持在每個流體通路中。在該構(gòu)造中,可基本阻止所有通過流體通路的流動。為了選擇性地調(diào)節(jié)流動控制裝置,以對流動施加所需阻力,可利用上述的任何方法,在這些流體通路的一個或多個流體通路中選擇性地移除一個或多個流動阻塞件。例如,可從具有適當(dāng)組合的流動限制件的流體通路中移除流動阻塞件,這些流動限制件可為相同的、不同的、或相同的與不同的任何組合,以對通過流動控制裝置的流動施加所需的總阻力。然后流體可被允許流過已經(jīng)移除了流動阻塞件的一個或多個流體通路。例如,通過已經(jīng)移除了流動阻塞件的一個或多個流體通路,流動控制裝置可被用來從地層中產(chǎn)出流體和/或?qū)⒘黧w注入地層內(nèi)。
[0075]對于包括附加流動控制裝置的井眼管柱(這些附加流動控制裝置被構(gòu)造用于預(yù)期的井眼狀況),將流動控制裝置設(shè)置成所有的流體通路都包括流動阻塞件可有效地提供某種程度的調(diào)節(jié)性。在該實(shí)施例中,一個或多個流動控制裝置可作為沿管柱的備份,用于在井眼的區(qū)帶中調(diào)節(jié)對流動的總阻力。例如,在需要使通過區(qū)帶的流量增加和/或總阻力減小時,可從流體通路中移除一個或多個流動阻塞件。由于能夠接近個別流動阻塞件,所以允許在將流動控制裝置設(shè)置在井眼之前的任何時間,對流量和/或流動的阻力進(jìn)行微調(diào)。
[0076]在一個實(shí)施例中,流動控制裝置可被設(shè)置成包括位于井管的外部與井管的內(nèi)部之間的多個流體通路。每個流體通路可包括一個或多個流動限制件,但沒有任何流動阻塞件。多個保持構(gòu)件可被構(gòu)造為允許進(jìn)入每個流體通路,且不需要移除封蓋或套管等額外構(gòu)件就能夠從流動控制裝置的外部接近這些保持構(gòu)件。在該構(gòu)造中,能夠允許通過所有流體通路的流動,由此提供由單獨(dú)阻力(單獨(dú)阻力針對的是通過每個流動限制件的流動)的結(jié)合而產(chǎn)生的總阻力。為了選擇性地調(diào)節(jié)流動控制裝置,以對流動施加小于全部阻力的所需阻力,可利用上述的任何方法,將一個或多個流動阻塞件選擇性地設(shè)置和/或安裝在這些流體通路的一個或多個流體通路中。例如,流動阻塞件可被設(shè)置在一個或多個流體通路中,以使一個或多個開放的流體通路具有流動限制件的適當(dāng)組合,這些流動限制件可為相同的流動限制件、不同的流動限制件、或相同的流動限制件與不同的流動限制件的組合,以對通過流動控制裝置的流動施加所需的總阻力。然后流體可被允許流過沒有安裝流動阻塞件的一個或多個流體通路。例如,流動控制裝置可用于通過沒有安裝流動阻塞件的一個或多個流體通路,而從地層中產(chǎn)出流體和/或?qū)⒘黧w注入地層中。
[0077]使流動控制裝置中的流體通路均不包括流動阻塞件,可有效地提供能夠按需要進(jìn)行調(diào)節(jié)的初始組件。例如,多個流動控制裝置可被設(shè)置和選擇性地調(diào)節(jié),以根據(jù)井眼中的預(yù)期操作狀況提供所需的流量和/或流動阻力。在該實(shí)施例中,一個或多個流動阻塞件可被安裝,以在流體的生產(chǎn)位置與流體在井眼中的儲存位置之間的任何點(diǎn),對流動施加所需阻力。
[0078]在一個實(shí)施例中,流動控制裝置可被設(shè)置成包括位于井管的外部與井管的內(nèi)部之間的多個流體通路。一個或多個流體通路(并非一定是所有的流體通路)可包括一個或多個流動限制件,且一個或多個流動阻塞件被構(gòu)造為基本阻止流體通過對應(yīng)的流體通路流動。多個保持構(gòu)件可被構(gòu)造為允許進(jìn)入每個流體通路,并用以將這些流動阻塞件維持在每個包括流動阻塞件的流體通路中。在該構(gòu)造中,可基本阻止通過包括流動阻塞件的流體通路的流動。為了選擇性地調(diào)節(jié)流動控制裝置,以對流動施加所需阻力,可利用上述的任何方法,在這些流體通路的一個或多個流體通路中選擇性地安裝和/或移除一個或多個流動阻塞件。例如,可在這些流體通路的一個或多個流體通路中安裝和/或移除流動阻塞件,以設(shè)置流動限制件的適當(dāng)組合,這些流動限制件可為相同的流動限制件、不同的流動限制件、或相同的流動限制件與不同的流動限制件的任何組合,以對通過流動控制裝置的流動施加所需的總阻力。然后流體可被允許流過不設(shè)置流動阻塞件的一個或多個流體通路。例如,通過不設(shè)置任何流動阻塞件的一個或多個流體通路,流動控制裝置可被用來從地層中產(chǎn)出流體和/或?qū)⒘黧w注入地層內(nèi)。
[0079]在這些流動控制裝置被設(shè)置在井眼中之前,流動控制裝置可被選擇性地調(diào)節(jié)。例如,流動控制裝置可被制造為流體通路中不設(shè)有任何流動阻塞件。然后流動控制裝置可經(jīng)過不同的運(yùn)輸和分配中心來傳送,并在那里被選擇性地調(diào)節(jié)。當(dāng)流動控制裝置被交付到井場以在井眼中使用時,可在流動控制裝置被設(shè)置在井眼中之前,在地面上對流動控制裝置進(jìn)行選擇性的調(diào)節(jié)。進(jìn)一步地,流動控制裝置可在被設(shè)置在井眼中之后,從井眼中被取回。在流動控制裝置被取回之后且在被再次設(shè)置于井眼中之前,流動控制裝置可被選擇性地調(diào)節(jié)。
[0080]在一個實(shí)施例中,可基于對所需流體阻力和/或通過流動控制裝置的流量的確定,利用上述的任何方法,對流動控制裝置進(jìn)行選擇性的調(diào)節(jié)。概括而言,流體阻力和/或通過流動控制裝置的流量可被選擇,以沿一區(qū)段平衡流體的產(chǎn)出。對區(qū)段中的流體阻力和/或流量的確定可基于該區(qū)段的所需產(chǎn)出以及區(qū)段中的預(yù)期狀況(預(yù)期狀況包括但不限于區(qū)段中的地層的滲透率、區(qū)段的總長度、從區(qū)段產(chǎn)出的流體類型、和/或從區(qū)段產(chǎn)出的多種流體的流體特性)。一旦區(qū)段的所需流體阻力和/或流量被確定,流動控制裝置就可通過在流動控制裝置的一個或多個對應(yīng)的流體通路中安裝和/或移除一個或多個流動阻塞件,而被選擇性地調(diào)節(jié),進(jìn)而提供具有所需流體阻力和/或流量的總流體通路。在一個實(shí)施例中,流動控制裝置可被選擇性地調(diào)節(jié),而不移除一個或多個流動限制件。在一個實(shí)施例中,可經(jīng)由保持構(gòu)件(保持構(gòu)件能夠從流動控制裝置的外部直接地接近)進(jìn)入流體通路,來選擇性地調(diào)節(jié)流動控制裝置,而不需要移除套管、封蓋、和/或其它進(jìn)入機(jī)構(gòu)。
[0081]根據(jù)本文描述的多種系統(tǒng)和方法,多個實(shí)施例可包括但不限于:
[0082]在第一實(shí)施例中,一種流動控制裝置包括:流體通路,被構(gòu)造為在井管的外部與井管的內(nèi)部之間提供流體連通;流動限制件,被設(shè)置在流體通路中,其中,流動限制件被設(shè)置為相對于井管徑向?qū)?zhǔn);以及流動阻塞件,被設(shè)置在流體通路中,其中,流動阻塞件基本阻止流體通過流體通路流動。在第二實(shí)施例中,第一實(shí)施例中的流動限制件可包括噴嘴。在第三實(shí)施例中,第一或第二實(shí)施例中的流動阻塞件可被設(shè)置在井管的外部與流動限制件之間。在第四實(shí)施例中,第一實(shí)施例至第三實(shí)施例的任一實(shí)施例中的流動控制裝置還可包括第二流動限制件,第二流動限制件被設(shè)置在流體通路中且與流動限制件串聯(lián)。在第五實(shí)施例中,第四實(shí)施例中的流動阻塞件可被設(shè)置在流動限制件與第二流動限制件之間。在第六實(shí)施例中,第四實(shí)施例或第五實(shí)施例中的第二流動限制件可包括噴嘴。在第七實(shí)施例中,第一實(shí)施例至第六實(shí)施例的任一實(shí)施例中的流動控制裝置還可包括保持構(gòu)件,保持構(gòu)件被構(gòu)造為將流動阻塞件維持在流體通路中,并允許接近流體通路中的流動阻塞件。在第八實(shí)施例中,第一實(shí)施例至第七實(shí)施例的任一實(shí)施例中的流動控制裝置還可包括與流動限制件徑向?qū)?zhǔn)的進(jìn)入端口。在第九實(shí)施例中,第一實(shí)施例至第八實(shí)施例的任一實(shí)施例中的流體通路可包括縮窄部,縮窄部被構(gòu)造為將流動阻塞件保持在流體通路中。在第十實(shí)施例中,第一實(shí)施例至第九實(shí)施例的任一實(shí)施例中的流動阻塞件可包括以下構(gòu)件中的至少一個:被構(gòu)造為可移除地設(shè)置在流體通路中的桿;包括錐形端段的桿,該錐形端段被構(gòu)造為密封地接合流體通路中的縮窄部;被構(gòu)造為接合流體通路中的一個或多個開口的球,用以基本阻止流體通過流體通路流動;被構(gòu)造為可移除地設(shè)置在流體通路中的插塞;包括薄段的插塞,該薄段被構(gòu)造為通過被刺破來建立通過插塞的流體連通;或者被構(gòu)造為設(shè)置在流體通路中的可變形插塞。
[0083]在第^^一實(shí)施例中,一種流動控制裝置包括:流體通路,被構(gòu)造為在井管的外部與井管的內(nèi)部之間提供流體連通;多個流動限制件,被串聯(lián)設(shè)置在流體通路中;流動阻塞件,被設(shè)置在流體通路中,其中,流動阻塞件基本阻止流體通過流體通路流動;以及保持構(gòu)件,被構(gòu)造為將流動阻塞件維持在流體通路中,并允許接近流體通路中的流動阻塞件。在第十二實(shí)施例中,第十一實(shí)施例中的多個流動限制件中的至少一個流動限制件可被設(shè)置為相對于井管徑向?qū)?zhǔn)。在第十三實(shí)施例中,第H^一實(shí)施例或第十二實(shí)施例中的多個流動限制件可包括至少一個方形邊緣的限制件。在第十四實(shí)施例中,第十一至第十三實(shí)施例的任一實(shí)施例中的多個流動限制件可包括至少一種類型的限制件,該至少一種類型的限制件選自以下群組:噴嘴、限流器管、狹窄流體管、環(huán)形通道、彎管流動限制器、以及螺旋管。在第十五實(shí)施例中,第十一至第十四實(shí)施例的任一實(shí)施例中的多個流動阻塞件可被構(gòu)造為對水的流動和烴類流體的流動施加不同的阻力。在第十六實(shí)施例中,第十一實(shí)施例至第十五實(shí)施例的任一實(shí)施例中的流動阻塞件可被設(shè)置在多個流動限制件的至少兩個流動限制件之間。
[0084]在第十七實(shí)施例中,一種方法包括:設(shè)置流動控制裝置,該流動控制裝置包括位于井管的外部與井管的內(nèi)部之間的多個流體通路、以及被設(shè)置在多個流體通路中的多個流動限制件;以及在多個流體通路中,選擇性地安裝或移除一個或多個流動阻塞件。多個流動限制件中的至少一個流動限制件被設(shè)置為相對于井管徑向?qū)?zhǔn)。在第十八實(shí)施例中,第十七實(shí)施例中的一個或多個流體通路可包括被設(shè)置成串聯(lián)的兩個或多個流動限制件。在第十九實(shí)施例中,第十七或第十八實(shí)施例中的多個流動限制件可被構(gòu)造為對水的流動和烴類流體的流動施加不同的阻力。在第二十實(shí)施例中,第十九實(shí)施例中的多個流動限制件可被構(gòu)造為對水的流動施加的阻力大于對烴類流體的流動施加的阻力。
[0085]本文公開了至少一個實(shí)施例,且本領(lǐng)域普通技術(shù)人員對一個或多個實(shí)施例、和/或一個或多個實(shí)施例中的特征產(chǎn)生的多種變化、結(jié)合和/或改型均在本發(fā)明的范圍之內(nèi)。通過一個或多個實(shí)施例的特征的結(jié)合、整合和/或省略而得到的可選實(shí)施例也處于本發(fā)明的范圍之內(nèi)。雖然本文明確陳述了某些數(shù)值范圍或限制,這種明確的范圍或限制應(yīng)被理解為包括落入被明確陳述的范圍或限制內(nèi)的近似數(shù)量級的重疊的范圍或邊界(例如“從大約I到大約10”包括2、3、4等;“大于0.10”包括0.11,0.12,0.13等)。例如,一旦具有下限R1和上限Ru的數(shù)值范圍被公開,則任何落入此范圍內(nèi)的數(shù)值也被具體地公開。尤其是,以下范圍內(nèi)的數(shù)值被具體地公開:R = Ri+kX (Ru-R1),其中,k是從1%到100%并以1%為增量的變量,即 k 為 1%,2%,3%,4%,5%,......,50%,51%,52%,......,95%,96%,97%,98%,
99%、或100%。而且,任何由兩個數(shù)值R所限定的數(shù)值范圍(如以上所限定的)也被具體地公開。與權(quán)利要求中任何元件關(guān)聯(lián)使用術(shù)語“選擇性地”均意味著,該元件是必需的、或該元件選擇性地不是必需的,這兩種選擇均在該權(quán)利要求的范圍內(nèi)。所用的如“包括”、“包含”、以及“具有”等較寬泛的術(shù)語應(yīng)被理解為支持“組成”、“基本組成”、“基本包括”等較狹窄的術(shù)語。因此,保護(hù)范圍不應(yīng)由說明書來限定,而應(yīng)由所附權(quán)利要求限定,該范圍包括權(quán)利要求的主題的所有等同方案。每個權(quán)利要求均與說明書整合作為進(jìn)一步公開,且這些權(quán)利要求是本發(fā)明的一個或多個實(shí)施例。
【權(quán)利要求】
1.一種流動控制裝置,包括: 流體通路,被構(gòu)造為在井管的外部與所述井管的內(nèi)部之間提供流體連通; 流動限制件,被設(shè)置在所述流體通路中,其中,所述流動限制件被設(shè)置為相對于所述井管徑向?qū)?zhǔn);以及 流動阻塞件,被設(shè)置在所述流體通路中,其中,所述流動阻塞件基本阻止流體流過所述流體通路。
2.如權(quán)利要求1所述的流動控制裝置,其中,所述流動限制件包括噴嘴。
3.如權(quán)利要求1或2所述的流動控制裝置,其中,所述流動阻塞件被設(shè)置在所述井管的外部與所述流動限制件之間。
4.如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的流動控制裝置,還包括:第二流動限制件,被設(shè)置在所述流體通路中且與所述流動限制件串聯(lián)。
5.如權(quán)利要求4所述的流動控制裝置,其中,所述流動阻塞件被設(shè)置在所述流動限制件與所述第二流動限制件之間。
6.如權(quán)利要求4或5所述的流動控制裝置,其中,所述第二流動限制件包括噴嘴。
7.如權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的流動控制裝置,還包括:保持構(gòu)件,構(gòu)造為將所述流動阻塞件維持在所述流體通路中,并允許進(jìn)入所述流體通路中的所述流動阻塞件。
8.如權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的流動控制裝置,還包括:進(jìn)入端口,與所述流動限制件徑向?qū)?zhǔn)。
9.如權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的流動控制裝置,其中,所述流體通路包括縮窄部,構(gòu)造為將所述流動阻塞件保持在所述流體通路中。
10.如權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的流動控制裝置,其中,所述流動阻塞件包括下列至少之一:被構(gòu)造為可移除地設(shè)置在所述流體通路中的桿;包括錐形端段的桿,所述錐形端段被構(gòu)造為密封地接合所述流體通路中的縮窄部;被構(gòu)造為接合所述流體通路中的一個或多個開口的球,用以基本阻止流體流過所述流體通路;被構(gòu)造為可移除地設(shè)置在所述流體通路中的插塞;包括薄段的插塞,所述薄段被構(gòu)造為通過被刺破來建立通過所述插塞的流體連通;或者被構(gòu)造為設(shè)置在所述流體通路中的可變形插塞。
11.一種流動控制裝置,包括: 流體通路,被構(gòu)造為在井管的外部與所述井管的內(nèi)部之間提供流體連通; 多個流動限制件,被串聯(lián)設(shè)置在所述流體通路中; 流動阻塞件,被設(shè)置在所述流體通路中,其中,所述流動阻塞件基本阻止流體流過所述流體通路;以及 保持構(gòu)件,被構(gòu)造為將所述流動阻塞件維持在所述流體通路中,并允許接近所述流體通路中的所述流動阻塞件。
12.如權(quán)利要求11所述的流動控制裝置,其中,所述多個流動限制件中的至少一個流動限制件被設(shè)置為相對于所述井管徑向?qū)?zhǔn)。
13.如權(quán)利要求11或12所述的流動控制裝置,其中,所述多個流動限制件包括至少一個方形邊緣的限制件。
14.如權(quán)利要求11-13中任一項(xiàng)所述的流動控制裝置,其中,所述多個流動限制件包括選自以下群組中的至少一種類型的限制件:噴嘴、限流器管、狹窄流體管、環(huán)形通道、彎管流動限制器、以及螺旋管。
15.如權(quán)利要求11-14中任一項(xiàng)所述的流動控制裝置,其中,所述多個流動限制件被構(gòu)造為對水的流動和烴類的流動施加不同的阻力。
16.如權(quán)利要求11-15中任一項(xiàng)所述的流動控制裝置,其中,所述流動阻塞件被設(shè)置在所述多個流動限制件中的至少兩個流動限制件之間。
17.一種方法,包括: 設(shè)置一流動控制裝置,所述流動控制裝置包括: 位于井管的外部與所述井管的內(nèi)部之間的多個流體通路;以及 被設(shè)置在所述多個流體通路中的多個流動限制件,其中,所述多個流動限制件中的至少一個流動限制件被設(shè)置為相對于所述井管徑向?qū)?zhǔn);以及 在所述多個流體通路中選擇性地安裝或移除一個或多個流動阻塞件。
18.如權(quán)利要求17所述的方法,其中,所述多個流體通路中的一個或多個流體通路包括被串聯(lián)設(shè)置的所述多個流動限制件中的兩個或多個流動限制件。
19.如權(quán)利要求17或18所述的方法,其中,所述多個流動限制件被構(gòu)造為對水的流動和烴類的流動施加不同的阻力。
20.如權(quán)利要求19所述的方法,其中,所述多個流動限制件被構(gòu)造為對水的流動施加的阻力大于對烴類的流動施加的阻力。
【文檔編號】E21B43/12GK104271872SQ201380019043
【公開日】2015年1月7日 申請日期:2013年2月20日 優(yōu)先權(quán)日:2012年4月10日
【發(fā)明者】讓·馬克·洛佩斯, 斯蒂芬·M·格雷奇, 盧克·威廉·霍爾德曼 申請人:哈利伯頓能源服務(wù)公司
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