一種同位素示蹤流量注聚剖面測(cè)井裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供了一種同位素示蹤流量注聚剖面測(cè)井裝置，包括電纜頭、管體、扶正器、定位器、同位素噴射器、第一探測(cè)頭和第二探測(cè)頭，同位素噴射器包括電機(jī)、絲杠、柱塞泵、進(jìn)液閥、艙體和噴射口，其中，電機(jī)主軸連接絲杠，絲杠通過螺母與柱塞泵固定連接，同位素噴射器連續(xù)均勻地噴射示蹤劑懸浮液，進(jìn)行連續(xù)測(cè)量。本實(shí)用新型的一種同位素示蹤流量注聚剖面測(cè)井裝置中的同位素噴射器能緩慢地、均勻地釋放同位素，并可控制釋放的時(shí)間和用量，提高了注聚井同位素示蹤測(cè)井的成功率，同時(shí)本裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，使用方便，操作靈活，測(cè)井?dāng)?shù)據(jù)準(zhǔn)確，降低了測(cè)井成本，能進(jìn)行分小層的注聚剖面的測(cè)量。
【專利說明】一種同位素示蹤流量注聚剖面測(cè)井裝置【【技術(shù)領(lǐng)域】】
[0001]本實(shí)用新型涉及同位素施工測(cè)井裝置【技術(shù)領(lǐng)域】，更具體地，涉及一種同位素示蹤流量注聚剖面測(cè)井裝置。
【【背景技術(shù)】】
[0002]隨著石油天然氣工業(yè)幾十年的發(fā)展，油田經(jīng)過多年注水開發(fā)，剩余可采儲(chǔ)量逐年減少，為了控制含水上升，穩(wěn)定原油產(chǎn)量，采取了注入井注聚合物等措施。在大慶等油田注聚合物已成為提高采收率穩(wěn)產(chǎn)的主要措施，聚合物剖面測(cè)井成為亟待解決的問題。現(xiàn)有技術(shù)中曾將成熟的放射性同位素示蹤注水剖面測(cè)井技術(shù)用于聚合物剖面測(cè)井中，但遇到諸多問題，在聚合物的井中，由于聚合物的年度比水高出許多，一次性釋放示蹤劑不能均勻的進(jìn)入每個(gè)小層，從而得不到符合井下情況的準(zhǔn)確聚合物剖面資料，同時(shí)，現(xiàn)有測(cè)井裝置使用不方便，操作不靈活，測(cè)井?dāng)?shù)據(jù)不準(zhǔn)確，測(cè)井成本高，分小層的注聚剖面無法測(cè)量。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]有鑒于此，本實(shí)用新型的主要目的在于提供一種同位素示蹤流量注聚剖面測(cè)井裝置，能夠解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的操作不靈活、測(cè)井?dāng)?shù)據(jù)不準(zhǔn)確的問題。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采取的技術(shù)方案為:本實(shí)用新型提供了一種同位素示蹤流量注聚剖面測(cè)井裝置，包括電纜頭、管體、扶正器、定位器、同位素噴射器、第一探測(cè)頭和第二探測(cè)頭，同位素噴射器包括電機(jī)、絲杠、柱塞栗、進(jìn)液閥、艙體和噴射口，其中，電機(jī)主軸連接絲杠，絲杠通過螺母與柱塞栗固定連接，同位素噴射器連續(xù)均勻地噴射示蹤劑懸浮液，進(jìn)行連續(xù)測(cè)量。
[0005]優(yōu)選地，還包括第一加重桿和第二加重桿，第一加重桿固定在管體的上端，第二加重桿固定在同位素噴射器的下端。
[0006]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型具有如下有益效果:本實(shí)用新型的一種同位素示蹤流量注聚剖面測(cè)井裝置中的同位素噴射器能緩慢地、均勻地釋放同位素，并可控制釋放的時(shí)間和用量，提高了注聚井同位素示蹤測(cè)井的成功率，同時(shí)本裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，使用方便，操作靈活，測(cè)井?dāng)?shù)據(jù)準(zhǔn)確，降低了測(cè)井成本，能進(jìn)行分小層的注聚剖面的測(cè)量。
【【專利附圖】

【附圖說明】】
[0007]圖1示出了根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的一種同位素示蹤流量注聚剖面測(cè)井裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0008]結(jié)合附圖在圖上標(biāo)記以下附圖標(biāo)記:
[0009]1-電纜頭，2-第一加重桿，3_管體，4-扶正器，5_定位器，6_同位素噴射器，7_第二加重桿，8-第一探頭，9_第二探頭，61-電機(jī)，62-絲杠，63-柱塞栗，64-進(jìn)液閥，65-艙體，66-噴射口?！尽揪唧w實(shí)施方式】】
[0010]下面將參考附圖并結(jié)合實(shí)施例，來詳細(xì)說明本實(shí)用新型。
[0011]圖1示出了根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的一種同位素示蹤流量注聚剖面測(cè)井裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]如圖1所示，一種同位素示蹤流量注聚剖面測(cè)井裝置，包括電纜頭1、管體3、扶正器4、定位器5、同位素噴射器6、第一探測(cè)頭8和第二探測(cè)頭9，同位素噴射器6包括電機(jī)61、絲杠62、柱塞栗63、進(jìn)液閥64、艙體65和噴射口 66，其中，電機(jī)61主軸連接絲杠62，絲杠62通過螺母與柱塞栗63固定連接，同位素噴射器6連續(xù)均勻地噴射示蹤劑懸浮液，進(jìn)行連續(xù)測(cè)量。
[0013]其中，還包括第一加重桿2和第二加重桿7，第一加重桿2固定在管體3的上端，第二加重桿7固定在同位素噴射器6的下端。
[0014]本實(shí)用新型的上述實(shí)施例的一種同位素示蹤流量注聚剖面測(cè)井裝置中的同位素噴射器能緩慢地、均勻地釋放同位素，并可控制釋放的時(shí)間和用量，提高了注聚井同位素示蹤測(cè)井的成功率，同時(shí)本裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，使用方便，操作靈活，測(cè)井?dāng)?shù)據(jù)準(zhǔn)確，降低了測(cè)井成本，能進(jìn)行分小層的注聚剖面的測(cè)量。
[0015]以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本實(shí)用新型，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本實(shí)用新型可以有各種更改和變化。凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改 、等同替換、改進(jìn)等，均包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種同位素示蹤流量注聚剖面測(cè)井裝置，包括電纜頭(I)、管體(3)、扶正器(4)、定位器(5)、同位素噴射器(6)、第一探測(cè)頭(8)和第二探測(cè)頭(9)，其特征在于，所述同位素噴射器(6)包括電機(jī)(61)、絲杠(62)、柱塞栗(63)、進(jìn)液閥(64)、艙體(65)和噴射口(66)，其中，所述電機(jī)(61)主軸連接所述絲杠(62)，所述絲杠(62)通過螺母與所述柱塞栗(63)固定連接，所述同位素噴射器(6)連續(xù)均勻地噴射示蹤劑懸浮液，進(jìn)行連續(xù)測(cè)量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種同位素示蹤流量注聚剖面測(cè)井裝置，其特征在于，還包括第一加重桿(2 )和第二加重桿(7 )，所述第一加重桿(2 )固定在所述管體(3 )的上端，所述第二加重桿(7)固定在所述同位素噴射器(6)的下端。
【文檔編號(hào)】E21B43/22GK203603889SQ201320621746
【公開日】2014年5月21日 申請(qǐng)日期:2013年10月7日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月7日
【發(fā)明者】姜義 申請(qǐng)人:天津大港油田圣達(dá)科技有限公司