專利名稱：進行連續(xù)電解沉積過程的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于進行連續(xù)電解沉積過程的裝置，其包括一旋轉(zhuǎn)的陰極帶電輥，該陰極帶電輥具有一在其整個可用寬度上導(dǎo)電的表面，還包括一個或多個大致與帶電輥同心并與其隔開一定距離的陽極，包含待沉積金屬的電解溶液流過帶電輥與陽極之間的間隙空間，帶電輥的邊緣裝有用于防止在帶電輥的電解沉積過程中在用不到的區(qū)域上形成層的裝置。
一種電解法制造金屬帶的裝置是公知的，例如在US-PS2044415中對此做了描述。一個陰極帶電輥可被驅(qū)動旋轉(zhuǎn)，一些陽極設(shè)置成與帶電輥的圓柱形表面同心，并在大約160度的角度范圍內(nèi)環(huán)繞帶電輥，二者之間構(gòu)成一間隙空間，一種包含待沉積金屬的電解液流過該空間。包含在電解液中的本來是溶解狀的金屬在流過時沉積在帶電輥的陰極表面上。通過帶電輥的旋轉(zhuǎn)運動，可以將與電解液分離后形成金屬箔或薄金屬帶的電解層抽出，然后連續(xù)地輸送去處理加工。在這種公知的帶電輥中，帶電輥的整個寬度都用于構(gòu)成金屬箔的電解沉積過程。為了使過渡到端面的帶電輥的邊緣區(qū)域不受到電解沉積的影響(否則會導(dǎo)致缺陷)，采用一種橫截面為圓形的橡膠帶，這種橡膠帶支撐在帶電輥端側(cè)的邊棱上，并支撐在一設(shè)置在帶電輥的端側(cè)的不導(dǎo)電凸緣上。這種密封的橡膠帶保證電解液不會流向帶電輥的端側(cè)，從而防止在該區(qū)域的電解沉積。
由于采用了以這種會出現(xiàn)裂縫的方式來防止邊緣部分的電解沉積，所以這種以前公知的裝置只能適用于以一種單一的寬度，即，帶電輥的寬度生產(chǎn)金屬帶。如果要生產(chǎn)不同寬度的金屬帶，則不能使用這種裝置。這種公知的裝置也不適用于金屬帶的單面電解鍍膜。
在WO 94/10360中公開了一種金屬帶的單面電解鍍膜裝置。圍繞被驅(qū)動的陰極帶電輥有接觸地引導(dǎo)一外側(cè)待鍍膜的金屬帶。在此，該金屬帶經(jīng)過一轉(zhuǎn)向輥以與帶電輥盡可能小的間距被輸送給帶電輥，在鍍膜之后，在相對的一側(cè)通過另一轉(zhuǎn)向輥送走。金屬帶穿過一個間隙空間，一種電解液也流過該空間，在該空間內(nèi)金屬帶被電解鍍膜。由帶表面與相對設(shè)置的陽極構(gòu)成的間隙空間的側(cè)面被密封，密封件可在帶電輥的軸向上調(diào)節(jié)，以適應(yīng)被鍍膜的金屬帶的不同的寬度。各密封件分別以一密封段支撐在待鍍膜金屬帶的邊緣區(qū)域。這些支撐的密封段以一包容角與鍍膜金屬帶的表面接觸，該包容角的大小在金屬帶進入電解液時提供足夠的密封。
這種裝置可以對不同寬度的金屬帶進行單面鍍膜。在對窄的金屬帶鍍膜時，用不到的帶電輥的部段被避免電解鍍膜，因為通過密封措施這些用不到的部段不會被電解液所浸濕。即便使用這種公知的裝置防止了在帶電輥的用不到的邊緣區(qū)域上所不希望進行的電解鍍膜，但密封段在金屬帶上的支撐還是存在著缺陷的，特別是在對非常薄的金屬帶，例如箔進行鍍膜時。正是在對非常薄的金屬帶進行鍍膜時，被鍍膜的金屬帶拉過的這些密封段會留下痕跡。因此，在后續(xù)的一個工序中必須將這種帶或箔的邊緣區(qū)域切掉。
用按照WO 94/10360的技術(shù)主題不能進行電解法金屬帶制造。
出于所討論的這種現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明的目的是建議一種上述類型的裝置，在這種裝置中，不僅帶電輥的可利用區(qū)域可以調(diào)整，對帶電輥的用不著的區(qū)域作了有效的保護，使其避免了不希望的電解鍍膜，而且通過這種裝置可以電解生產(chǎn)金屬帶并對金屬帶進行單面的電解鍍膜。
本發(fā)明的目的是這樣實現(xiàn)的，即，帶電輥的各側(cè)面設(shè)置一由電絕緣材料制成的屏蔽帶，該屏蔽帶從端側(cè)突出于帶電輥的圓柱形表面，并位于陰極帶電輥與(一個或若干)陽極之間，與帶電輥上對于電解沉積過程有用的區(qū)域(有用區(qū)域)相鄰，對沉積工藝中用不到的帶電輥的邊緣區(qū)域進行電屏蔽，并且其包住帶電輥的部分至少要達到電解液的充填高度，屏蔽帶的各朝向有用區(qū)域的一側(cè)具有一個在該方向上的臺階，該臺階在屏蔽帶的縱向上延伸。
通過設(shè)置一屏蔽帶，最好是一條撓性的由非導(dǎo)電材料制成的帶，該帶在電解液的區(qū)域內(nèi)包住帶電輥，在一個或若干個(相宜地為非溶性的)陽極與由屏蔽帶覆蓋的用作陰極的帶電輥之間實現(xiàn)了一種有效的電屏蔽。陽極與陰極之間的電流通過只發(fā)生在帶電輥的有用區(qū)域內(nèi)，即，沒有被屏蔽帶所覆蓋的區(qū)域內(nèi)，因此，電解鍍膜只限制在帶電輥的有用區(qū)域內(nèi)。與此相反，在由屏蔽帶所覆蓋的部段上不發(fā)生電流流過，因此也不發(fā)生電解鍍膜。為了保證在朝向有用區(qū)域的屏蔽帶邊緣區(qū)域內(nèi)也防止在帶電輥表面上形成增高的電解鍍層，屏蔽帶具有一指向帶電輥的臺階。由此還可以使所生產(chǎn)的或所鍍膜的金屬帶的外邊緣部分具有邊緣減薄的層厚，該層厚在帶棱處減小至零，因此，在帶電輥的有用區(qū)域以外也不會沉積成層。
可以這樣來確定帶電輥的有用區(qū)域，對于不同的沉積過程規(guī)定以不同寬度的屏蔽帶對帶電輥的邊緣進行屏蔽。
本發(fā)明的裝置不僅適用于金屬帶或箔的電解生產(chǎn)，而且適用于金屬帶的單面電解鍍膜。因為保護用不到的帶電輥部分的裝置所應(yīng)用的原理是電屏蔽，而不是像WO 94/10360中那樣的液體密封。在金屬帶單面電解鍍膜的情況下，被鍍膜的金屬帶的邊緣區(qū)域接合在屏蔽帶的朝向有效區(qū)域的臺階內(nèi)，這樣，金屬帶的側(cè)棱已經(jīng)得到如此程度的電屏蔽，即，防止了在電解鍍膜過程中在金屬帶的這些部分上的過剩的鍍膜以及帶電輥的直接挨著由被鍍膜的金屬帶所覆蓋的部分上的鍍膜。
符合目的的是，兩個用于屏蔽的撓性屏蔽帶分別伸出到陰極帶電輥的端側(cè)。突出于端側(cè)的部分可以用于針對帶電輥的有用區(qū)域的寬度來調(diào)節(jié)兩屏蔽帶，使其適合于帶電輥的邊緣部分的被屏蔽寬度。有了這樣的兩條屏蔽帶，通過屏蔽帶的移動，可以將帶電輥的有用區(qū)域調(diào)節(jié)到理想的寬度，而不必更換屏蔽帶。
一支撐在帶電輥表面上的屏蔽帶在朝向帶電輥的一側(cè)相宜地具有支撐橫隔和與這些支撐橫隔交替設(shè)置的流動槽。通過這些流動槽，電解液不僅直接進入間隙空間，還經(jīng)過這些路徑從間隙空間中流出。此外，特別是對薄金屬帶，例如箔進行鍍膜時，通過相應(yīng)的吸入，箔(首先是其邊緣區(qū)域)壓緊在帶電輥上，這樣有利于箔在帶電輥上按規(guī)定予以固定。
優(yōu)選的是，各屏蔽帶在其背離帶電輥的有用區(qū)域并突出帶電輥端側(cè)的一側(cè)上帶有保持件，這些保持件與一調(diào)節(jié)裝置接合，該調(diào)節(jié)裝置用于針對各被屏蔽的帶電輥的寬度來調(diào)節(jié)帶。在一實施例中，設(shè)置成排的彼此隔開的橫隔作為保持件，這些橫隔保持在一接收件的一大致與其互補設(shè)計的接收槽內(nèi)。選擇橫隔的間距，使屏蔽帶易于穿入一這樣的接收件內(nèi)。符合目的的是，這種接收件與活塞-缸裝置接合，通過這種活塞-缸裝置來針對被屏蔽的帶電輥部分的寬度調(diào)節(jié)屏蔽帶。然而，也可以考慮其它的用于調(diào)節(jié)接收件的裝置，例如螺桿，必要時用電機驅(qū)動。
本發(fā)明的其它的優(yōu)點和進一步的改進是從屬權(quán)利要求的內(nèi)容，下面借助一優(yōu)選實施例予以描述，附圖中

圖1為一用于對金屬帶進行單側(cè)電解鍍膜的裝置沿著圖2中的A-B線截取的一截面，
圖2為圖1所示的裝置沿著圖1中的C-D線截取的縱剖面，圖3為圖2中以X表示的區(qū)域的一詳細的放大圖，圖4為一用于電解制造金屬帶的裝置的一相應(yīng)于圖1的截面圖。
圖1示出一用于金屬帶的單側(cè)電解鍍膜的裝置(鍍膜裝置)1。該鍍膜裝置包括一槽2，槽內(nèi)可旋轉(zhuǎn)地支撐一陰極帶電輥3。帶電輥3的旋轉(zhuǎn)方向用箭頭4表示。帶電輥3涉及的是一整體的帶電輥，其圓柱形表面在帶電輥3的整個寬度上設(shè)計成導(dǎo)電的。通過設(shè)置一個這樣的整體帶電輥3，避免了尤其是在對薄金屬帶鍍膜時出現(xiàn)的痕跡，例如在使用分開的帶電輥時就會出現(xiàn)這種痕跡。所需的陽極在圖1所示的截面中看不出，它位于一支撐壁5的后面。所使用的陽極是非溶解陽極。一種電解液流過由帶電輥3的表面和陽極所構(gòu)成的間隙空間6，一電解液輸送裝置7連續(xù)地向該間隙空間6中供入電解液，裝置7′將電解液取出。箭頭8表示電解液的送入方向。因此，電解液的流動方向與帶電輥3的旋轉(zhuǎn)方向4相同。在另一未示出的實施例中，電解液的流動方向與帶電輥3的旋轉(zhuǎn)方向4相反。間隙空間6的各邊緣分別通過一屏蔽帶9、9′限界，在圖1中只能看到屏蔽帶9。屏蔽帶9的朝向帶電輥3的一側(cè)帶有交替設(shè)置的支撐橫隔10和流動槽11。屏蔽帶9通過支撐橫隔10支撐在被屏蔽的帶電輥3的表面上。流動槽11用于間隙空間6內(nèi)的電解液的流動，它們的外側(cè)匯入一收集槽12。在收集槽12的最深處設(shè)置一個排出口13，從流動槽11中排出的電解液沿箭頭14的方向從排出口13排出。
一條待鍍膜金屬帶15在第一轉(zhuǎn)向輥16上轉(zhuǎn)向，以便送入間隙空間6。在此，金屬帶15在進入充以電解液的間隙空間6之前就已經(jīng)與陰極帶電輥3的表面接觸。在穿過間隙空間6時，在金屬帶15的外側(cè)進行了所需的鍍膜。在穿過鍍膜裝置1之后鍍上膜的金屬帶15′經(jīng)過第二轉(zhuǎn)向輥17送走。
從圖2所示的鍍膜裝置1的縱剖面中可以清楚地看出兩屏蔽帶9、9′在帶電輥3的可利用寬度區(qū)域N上的設(shè)置。圖2所示的縱剖面的上部示出各屏蔽帶9、9′分別位于一支撐橫隔10、10′的區(qū)域內(nèi)，而在該縱剖面的下部分別示出各屏蔽帶9、9′在各流動槽11、11′的區(qū)域內(nèi)的截面。屏蔽帶9、9′的寬度保證即使在最小寬度的待鍍膜金屬帶的情況下屏蔽帶的端側(cè)也會突出帶電輥。通過這些突出帶電輥3端側(cè)的端部段，各平板帶9、9′與一個調(diào)節(jié)裝置18、18′接合，借助于調(diào)節(jié)裝置18、18′，可以調(diào)節(jié)屏蔽帶9、9′的與帶電輥3隔離的邊緣段的寬度。為此，各屏蔽帶9、9′的外側(cè)具有底架橫檔19、19′，底架橫檔接合在一接收件21、21′的一相應(yīng)成形的接收槽20、20′內(nèi)。底架橫檔19、19′指的是若干彼此隔開的單獨的橫檔。
在屏蔽帶9、9′突出于帶電輥3的端側(cè)的部段的區(qū)域內(nèi)，流動孔22、22′裝在流動槽11、11′中，因此，溢出的電解液可以通過這些流動孔22、22′流入設(shè)置在下面的收集槽12、12′。
各調(diào)節(jié)裝置18、18′包括兩個活塞缸體裝置，它們支撐在電解槽2上，借助于這些活塞缸體裝置，接收件21、21′可在帶電輥3的軸向上移動調(diào)節(jié)。圖2示出屏蔽帶9、9′的一種布置，這只是用來說明屏蔽帶9、9′的調(diào)節(jié)變化。在此，如果需要對一較寬的金屬帶鍍膜，則屏蔽帶9、9′與其調(diào)節(jié)裝置18′處于一種用于形成較寬的使用區(qū)域N的位置。與此相對，如果需要對一非常窄的金屬帶鍍膜，則使屏蔽帶9′與其調(diào)節(jié)裝置18′處于一種用于形成一較窄的有用區(qū)域N的位置。在這兩種情況下都保證帶電輥3上未被金屬帶占用的區(qū)域由屏蔽帶9、9′電屏蔽，因此，其不會遭受電解液鍍膜。然而，在通常情況下，屏蔽帶9、9′相對于帶電輥3的中線23對中設(shè)置。
屏蔽帶9、9′通過調(diào)節(jié)裝置18、18′進行的調(diào)節(jié)可以借助于一定位在相應(yīng)位置上的光電管實現(xiàn)，該光電管檢測一待鍍膜金屬帶15在帶電輥3上的寬度。這種光電管可觸發(fā)一控制裝置，使其控制調(diào)節(jié)裝置18、18′來調(diào)節(jié)屏蔽帶9、9′。
在圖3中，以屏蔽帶9′的放大的截面X特別清楚地示出屏蔽帶9、9′的設(shè)置。屏蔽帶9′借助于其支撐橫隔10′支撐在帶電輥3的導(dǎo)電外側(cè)。僅僅在流動槽11′的區(qū)域內(nèi)，帶電輥3的這些邊緣段也與電解液接觸。但是由于屏蔽帶9′設(shè)計成不導(dǎo)電的，所以帶電輥3在這些區(qū)域受到電屏蔽，因此，避免了電解液在這些邊緣區(qū)域沉積。屏蔽帶9′通過適用的夾緊件與帶電輥3的外側(cè)保持接觸。在帶電輥3的表面與屏蔽帶9′之間因而存在滑動接觸。屏蔽帶9、9′沿帶電輥3的旋轉(zhuǎn)方向4以端部支撐在一止擋件上。
屏蔽帶9′的外側(cè)支撐在陽極支架24上，陽極支架接收在支撐壁5內(nèi)，屏蔽帶9′為了沿帶電輥3縱向可調(diào)節(jié)具有一滑動密封接觸。陽極A保持在陽極支架24內(nèi)。
在另一未示出的實施例中，屏蔽帶9、9′通過支撐在陽極支架24上的壓緊件壓在帶電輥3的表面上。這種壓緊件可以是一個可充氣軟管。
屏蔽帶9′的朝向金屬帶15的一側(cè)帶有一臺階25′，其高度與所接收的金屬帶15相適應(yīng)。通過臺階25′構(gòu)成一凸起部分26′，其向外突出于金屬帶15的外邊緣部分。通過突出于金屬帶15的凸起部分26′，將金屬帶到其帶邊棱的最外邊緣區(qū)域的鍍層厚度減小至零，因此，在有用區(qū)域N外也不發(fā)生帶電輥的鍍膜。
從屏蔽帶9′的這種設(shè)置中可以清楚地看到，通過屏蔽帶9′達到了對帶電輥3上的未由金屬帶15覆蓋的區(qū)域的有效的電屏蔽，而不必采用達到流體密封的手段來防止電解液進入該區(qū)域。從圖3中可以特別清楚地看到，金屬帶15自由地引入臺階25′，而不與屏蔽帶9′接觸。
在圖4中示出鍍膜裝置1，現(xiàn)在該鍍膜裝置安裝成用于通過電解法制造金屬帶。在這里，不是通過轉(zhuǎn)向輥16送入待鍍膜的金屬帶。在電解液流過時，在帶電輥3的圓柱形表面上沉積出一金屬涂覆層，在帶電輥3的脫出區(qū)域，該沉積層通過帶電輥3的旋轉(zhuǎn)，經(jīng)過轉(zhuǎn)向輥17從間隙空間6中拉出，與帶電輥分離。然后可以將這樣生產(chǎn)出的金屬帶28連續(xù)輸送去繼續(xù)加工，或者卷繞起來予以儲存。為此，對帶電輥3的表面進行溫度、濕度處理，以保證帶電輥表面上形成的金屬層只有很小的粘附，因此可以毫無困難地將其拉出。
為了調(diào)節(jié)要生產(chǎn)的金屬帶的理想的寬度，對屏蔽帶9、9′進行調(diào)節(jié)，使得帶電輥的有用區(qū)域N相當于要生產(chǎn)的金屬帶28的寬度。由于能夠調(diào)節(jié)屏蔽帶9、9′，所以裝置1能夠適合于制造不同寬度的金屬帶。
從圖示實施例中可以清除地看到，無需進行變化，鍍膜裝置1就既可適合于金屬帶的單面電解鍍膜，又適合于借助于電解來生產(chǎn)金屬帶本身。通過屏蔽帶9、9′進行的調(diào)節(jié)的可變化性使裝置1具有通用性。
附圖標記匯總1鍍膜裝置2槽3帶電輥4箭頭5支撐壁6間隙空間7電解液供給裝置8箭頭
9、9′ 屏蔽帶10、10′ 支撐橫隔11、11′ 流動槽12、12′ 收集槽13 排出口14 箭頭15 金屬帶16 轉(zhuǎn)向輥17 轉(zhuǎn)向輥18、18′ 調(diào)節(jié)裝置19、19′ 底架橫檔20、20′ 接收槽21、21′ 接收件22、22′ 流出孔23 中線24 陽極支架25′ 臺階26′ 凸起部分27′ 邊緣間隙28 金屬帶A 陽極N 帶電輥的有用區(qū)域
權(quán)利要求
1.一種實施連續(xù)電解沉積過程的裝置，其包括一旋轉(zhuǎn)的陰極帶電輥(3)和一個或多個與帶電輥(3)大致同心并隔開一定間距設(shè)置的陽極(A)，該帶電輥具有一在其整個有用寬度上導(dǎo)電的表面，帶電輥(3)與陽極(A)之間的間隙空間(6)內(nèi)流過一種包含溶解狀待沉積金屬的電解液，在帶電輥(3)的邊緣部分設(shè)置用于防止在電解沉積過程中在帶電輥(3)的用不到的區(qū)域上鍍膜的裝置，其特征在于帶電輥(3)的各側(cè)面設(shè)置一由電絕緣材料制成的屏蔽帶(9、9′)，該屏蔽帶端側(cè)突出于帶電輥的圓柱形表面，其位于陰極帶電輥(3)與所述一個或若干陽極(A)之間，與帶電輥(3)上對于電解沉積過程有用的區(qū)域(有用區(qū)域)(N)相鄰，對沉積過程中用不到的帶電輥(3)的邊緣區(qū)域進行電屏蔽，并且其包繞帶電輥(3)的部分至少要達到電解液的充填高度，各屏蔽帶(9、9′)的朝向有用區(qū)域(N)的一側(cè)具有一個在該方向上的臺階(25′)，該臺階沿屏蔽帶(9、9′)的縱向延伸。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于屏蔽帶(9、9′)的遠離有用區(qū)域(N)的一側(cè)伸出帶電輥(30)的側(cè)端面。
3.如權(quán)利要求1或2所述的裝置，其特征在于屏蔽帶(9、9′)支撐在帶電輥(3)被屏蔽的表面上。
4.如權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于屏蔽帶(9、9′)在其朝向帶電輥(3)的一側(cè)具有橫向垂直于帶縱向的支撐橫隔(10、10′)和與這些橫檔交替設(shè)置的流動槽(11、11′)。
5.如權(quán)利要求2至4中任一項所述的裝置，其特征在于流動槽(11、11′)在其流出端區(qū)域具有流出孔(22、22′)。
6.如權(quán)利要求1至5中任一項所述的裝置，其特征在于屏蔽帶(9、9′)外側(cè)密封地支撐在一用于保持陽極(A)的支架(24)內(nèi)。
7.如權(quán)利要求2至6中任一項所述的裝置，其特征在于各屏蔽帶(9、9′)在其伸出于帶電輥(3)的端側(cè)具有保持結(jié)構(gòu)(19、19′)，這些保持結(jié)構(gòu)與一調(diào)節(jié)裝置(18、18′)接合，該調(diào)節(jié)裝置用于針對各有待屏蔽的帶電輥邊緣的寬度調(diào)節(jié)屏蔽帶。
8.如權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于調(diào)節(jié)裝置(18、18′)包括一環(huán)段狀的接收件(21、21′)，在其朝向帶電輥(3)的一側(cè)設(shè)置一接收槽(20、20′)，用于以其保持結(jié)構(gòu)(19、19′)接收屏蔽帶(9、9′)的外邊緣，該接收件(21、21′)可沿帶電輥(3)的軸向調(diào)節(jié)。
9.如權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于調(diào)節(jié)裝置(18、18′)包括兩個活塞-缸件，用于一接收件(21、21′)的軸向調(diào)節(jié)。
10.如權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于保持結(jié)構(gòu)為彼此隔開并沿屏蔽帶(9、9′)的縱向設(shè)置在其外邊緣上的隔擋(19、19′)，這些隔擋從帶表面上凸起。
11.如權(quán)利要求1至10中任一項所述的裝置，其特征在于各屏蔽帶(9、9′)的朝向帶電輥(3)的一側(cè)至少在與帶電輥(3)接觸的區(qū)段內(nèi)具有減小了摩擦的涂層。
全文摘要
一種實施連續(xù)電解沉積過程的裝置(1),其具有一陰極帶電輥(3),該帶電輥表面的整個有用區(qū)域?qū)щ?。一陽極A與帶電輥同心并隔開設(shè)置。一種電解液流過帶電輥(3)與陽極之間的間隙空間(6)。為帶電輥(3)設(shè)置了屏蔽帶(9、9’),其在帶電輥(3)的陰極表面與陽極A之間對帶電輥(3)的邊緣區(qū)域進行電屏蔽,從而防止該區(qū)域被電解鍍膜。帶電輥(3)上對于電解沉積過程有用的區(qū)域N位于屏蔽帶(9、9’)之間。各屏蔽帶(9、9’)朝向有用區(qū)域N的一側(cè)包括一臺階(25’),有待制造或鍍膜的金屬帶的邊緣部分的沉積層厚度一直到邊棱減小至零,因此,在帶電輥有用區(qū)域的外側(cè)沒有鍍膜沉積。裝置(1)即可用于電解法生產(chǎn)金屬帶,又可用于對金屬帶的一側(cè)進行電解鍍膜。
文檔編號C25D7/06GK1251624SQ98803897
公開日2000年4月26日 申請日期1998年4月11日 優(yōu)先權(quán)日1997年4月18日
發(fā)明者漢斯·J·梅, 羅蘭·施內(nèi)特勒, 米歇爾·科勒德 申請人:瑟基特·弗依股份有限公司, 漢斯·J·梅, 羅蘭·施內(nèi)特勒