本發(fā)明涉及電解裝置領(lǐng)域，具體而言，涉及一種制氫制氧裝置。

背景技術(shù)：

人體進行新陳代謝時，例如每一次呼吸，都需要氧氣，過程中會產(chǎn)生自由基，并分解成水與二氧化碳，排出體外。但隨著年齡增加，自由基無法自動分解，轉(zhuǎn)而攻擊細胞，造成細胞損傷與老化，組織器官功能衰退，機體進入衰老狀態(tài)，出現(xiàn)長痘、皺紋、色斑等一系列肌膚問題，這就是人體氧化反應(yīng)——氧化是肌膚衰老的最大威脅。

富氫水，顧名思義就是富含氫氣的水。英文是hydrogenrichwater，日文是“水素水”。作為一種選擇性抗氧化物質(zhì)，氫氣對很多疾病具有治療作用，具有十分廣泛的應(yīng)用前景。

近年來，國內(nèi)市場上富氫水、水素水產(chǎn)品漸多，富氫水、水素水的杯具也有所見，其中采用電解制氫的技術(shù)占有相當比例，包括相關(guān)的專利技術(shù)的涌現(xiàn)。在這些電解制氫杯具及其專利技術(shù)中，常見有水平布置的電極結(jié)構(gòu)，如中國專利:申請?zhí)?01510366113.8、申請?zhí)?01510126957.5、201520051049.x等；也有上下布置的電極結(jié)構(gòu)，如中國專利:申請?zhí)?01520786526.7等。這兩種布置的電極結(jié)構(gòu)其產(chǎn)品經(jīng)實驗或?qū)嵱?，仍發(fā)現(xiàn)其不足現(xiàn)象。

現(xiàn)有技術(shù)中的富氫水保健產(chǎn)品通常都是供使用者飲用的設(shè)備，使用者需要將富氫水喝入體內(nèi)，經(jīng)過人體新陳代謝才能起到美容、保健作用，因而效果較為緩慢，尤其是對皮膚的抗衰老效果不明顯。而且，現(xiàn)有的富氫水保健產(chǎn)品通常所制成的氫氣和氧氣均分散在水中，然而，含有氧氣的水被飲用后對加速人體機體的老化，對人體產(chǎn)生一定的潛在危害。

而且，現(xiàn)有的制氫制氧裝置中的電極結(jié)構(gòu)通常直接安裝在材質(zhì)較硬的殼體中，密封效果不好。為了防止漏水，只能添加密封圈，但密封圈在制氫制氧裝置內(nèi)難以安裝，而且密封圈在電化學環(huán)境中容易腐蝕，不但會過早失去密封效果，而且容易污染水體。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供了一種制氫制氧裝置。具體地，其技術(shù)方案如下：

一種制氫制氧裝置，包括電解室和設(shè)置在所述電解室內(nèi)的氫氧分離組件，所述氫氧分離組件包括陰極片、陽極片和設(shè)置于所述陰極片和所述陽極片之間的透水隔氣膜，所述陰極片、所述陽極片圍成一電解區(qū)，所述透水隔氣膜用于將所述電解區(qū)分隔成氫產(chǎn)生區(qū)和氧產(chǎn)生區(qū)；

所述電解室內(nèi)還設(shè)置有硅膠電解套，所述硅膠電解套的內(nèi)壁沿圓周方向設(shè)置有環(huán)形槽，所述陰極片、所述陽極片和所述透水隔氣膜嵌入所述環(huán)形槽內(nèi)。

作為對技術(shù)方案的改進，所述電解室由電解槽和電解槽上蓋圍繞而成，所述硅膠電解套設(shè)置在所述電解槽和所述電解槽上蓋形成的容納腔內(nèi)。

作為對技術(shù)方案的改進，所述電解槽和/或所述電解槽上蓋的材質(zhì)為硅膠。

作為對技術(shù)方案的改進，所述陰極片靠近所述電解槽上蓋設(shè)置，所述陽極片靠近所述電解槽設(shè)置。

作為對技術(shù)方案的改進，所述電解槽的槽底沿圓周方向設(shè)置有環(huán)形安裝座，所述硅膠電解套的底部與所述環(huán)形安裝座的頂部抵接，用于使所述環(huán)形安裝座內(nèi)側(cè)的區(qū)域形成電解區(qū)。

作為對技術(shù)方案的改進，所述硅膠電解套的頂部設(shè)置有連接盤，所述連接盤與所述電解槽上蓋固定連接。

作為對技術(shù)方案的改進，所述環(huán)形安裝座外側(cè)的槽底設(shè)置有用于連通廢水箱的出液口，所述環(huán)形安裝座上設(shè)置有若干連通所述環(huán)形安裝座內(nèi)外兩側(cè)槽底的通道。

作為對技術(shù)方案的改進，所述透水隔氣膜為離子膜、自增濕膜或微濾膜。

作為對技術(shù)方案的改進，所述陰極片和/或所述陽極片為鈦片。

作為對技術(shù)方案的改進，所述陰極片和/或所述陽極片的表面設(shè)置有按照預(yù)設(shè)的規(guī)則分布的通孔。

本發(fā)明至少具有以下有益效果：

(1)在制氫時，陰極片產(chǎn)生的氫氣富集在氫產(chǎn)生區(qū)，陽極片產(chǎn)生的氧氣富集在氧產(chǎn)生區(qū)，透水隔氣膜阻隔了氫氣向氧產(chǎn)生區(qū)的擴散以及阻隔了氧氣向氫產(chǎn)生區(qū)的擴散，由此達到了氫氣和氧氣的分離；

(2)通過將陰極片、陽極片和透水隔氣膜嵌入環(huán)形槽內(nèi)，即陰極片、陽極片和透水隔氣膜包裹在硅膠電解套內(nèi)，能夠利用硅膠實現(xiàn)密封，防止制氫制氧裝置中各個區(qū)域之間漏水，而且硅膠化學性質(zhì)穩(wěn)定，在電化學環(huán)境中不易被腐蝕。

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉較佳實施例，并配合所附附圖，作詳細說明如下。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例的技術(shù)方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，應(yīng)當理解，以下附圖僅示出了本發(fā)明的某些實施例，因此不應(yīng)被看作是對范圍的限定，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他相關(guān)的附圖。

圖1是本發(fā)明實施例中制氫制氧裝置的第一斜視圖；

圖2是本發(fā)明實施例中制氫制氧裝置的第二斜視圖；

圖3是本發(fā)明實施例中氫氧分離組件的爆炸圖；

圖4是本發(fā)明實施例中硅膠電解套的剖視圖；

圖5是本發(fā)明實施例中電解槽的斜視圖。

主要元件符號說明：

1000-制氫制氧裝置，0110-電解槽，0111-環(huán)形安裝座，0112-通道，0113-出液口，0120-電解槽上蓋，0210-陰極片，0220-陽極片，0230-透水隔氣膜，0300-硅膠電解套，0310-環(huán)形槽。

具體實施方式

在下文中，將更全面地描述本發(fā)明的各種實施例。本發(fā)明可具有各種實施例，并且可在其中做出調(diào)整和改變。然而，應(yīng)理解：不存在將本發(fā)明的各種實施例限于在此公開的特定實施例的意圖，而是應(yīng)將本發(fā)明理解為涵蓋落入本發(fā)明的各種實施例的精神和范圍內(nèi)的所有調(diào)整、等同物和/或可選方案。

在下文中，可在本發(fā)明的各種實施例中使用的術(shù)語“包括”或“可包括”指示所公開的功能、操作或元件的存在，并且不限制一個或更多個功能、操作或元件的增加。此外，如在本發(fā)明的各種實施例中所使用，術(shù)語“包括”、“具有”及其同源詞僅意在表示特定特征、數(shù)字、步驟、操作、元件、組件或前述項的組合，并且不應(yīng)被理解為首先排除一個或更多個其它特征、數(shù)字、步驟、操作、元件、組件或前述項的組合的存在或增加一個或更多個特征、數(shù)字、步驟、操作、元件、組件或前述項的組合的可能性。

在本發(fā)明的各種實施例中，表述“或”或“a或/和b中的至少一個”包括同時列出的文字的任何組合或所有組合。例如，表述“a或b”或“a或/和b中的至少一個”可包括a、可包括b或可包括a和b二者。

在本發(fā)明的各種實施例中使用的表述(諸如“第一”、“第二”等)可修飾在各種實施例中的各種組成元件，不過可不限制相應(yīng)組成元件。例如，以上表述并不限制所述元件的順序和/或重要性。以上表述僅用于將一個元件與其它元件區(qū)別開的目的。例如，第一用戶裝置和第二用戶裝置指示不同用戶裝置，盡管二者都是用戶裝置。例如，在不脫離本發(fā)明的各種實施例的范圍的情況下，第一元件可被稱為第二元件，同樣地，第二元件也可被稱為第一元件。

應(yīng)注意到：在本發(fā)明中，除非另有明確的規(guī)定和定義，“安裝”、“連接”、“固定”等術(shù)語應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接、也可以是可拆卸連接、或者一體地連接；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接連接，也是可以通過中間媒介間接相連；可以是兩個元件內(nèi)部的連通。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語在本發(fā)明中的具體含義。

在本發(fā)明中，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員需要理解的是，文中指示方位或者位置關(guān)系的術(shù)語為基于附圖所示的方位或者位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或者元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本發(fā)明的限制。

在本發(fā)明的各種實施例中使用的術(shù)語僅用于描述特定實施例的目的并且并非意在限制本發(fā)明的各種實施例。如在此所使用，單數(shù)形式意在也包括復(fù)數(shù)形式，除非上下文清楚地另有指示。除非另有限定，否則在這里使用的所有術(shù)語(包括技術(shù)術(shù)語和科學術(shù)語)具有與本發(fā)明的各種實施例所屬領(lǐng)域普通技術(shù)人員通常理解的含義相同的含義。所述術(shù)語(諸如在一般使用的詞典中限定的術(shù)語)將被解釋為具有與在相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域中的語境含義相同的含義并且將不被解釋為具有理想化的含義或過于正式的含義，除非在本發(fā)明的各種實施例中被清楚地限定。

實施例1

請參閱圖1和圖2，本實施例提供了一種制氫制氧裝置1000，該制氫制氧裝置1000用于制作富氫水。

具體地，如圖3所示，制氫制氧裝置1000包括電解室和設(shè)置在電解室內(nèi)的氫氧分離組件。氫氧分離組件包括陰極片0210、陽極片0220和設(shè)置于陰極片0210和陽極片0220之間的透水隔氣膜0230。陰極片0210、陽極片0220圍成一電解區(qū)，透水隔氣膜0230用于將電解區(qū)分隔成氫產(chǎn)生區(qū)和氧產(chǎn)生區(qū)。

在本實施例中，在制氫時，陰極片0210產(chǎn)生的氫氣富集在氫產(chǎn)生區(qū)，陽極片0220產(chǎn)生的氧氣富集在氧產(chǎn)生區(qū)，透水隔氣膜0230阻隔了氫氣向氧產(chǎn)生區(qū)的擴散以及阻隔了氧氣向氫產(chǎn)生區(qū)的擴散，由此達到了氫氣和氧氣的分離。

在氫產(chǎn)生區(qū)內(nèi)，氫氣溶解在水中，或者形成霧化的富氫水。富氫水中由于含有氫分子，能夠用于抵抗皮膚或器官發(fā)生氧化，具有一定的抗衰老功效。

如圖4所示，電解室內(nèi)還設(shè)置有硅膠電解套0300，硅膠電解套0300的內(nèi)壁沿圓周方向設(shè)置有環(huán)形槽0310，陰極片0210、陽極片0220和透水隔氣膜0230嵌入環(huán)形槽0310內(nèi)。

硅膠別名硅酸凝膠是一種高活性吸附材料，屬非晶態(tài)物質(zhì)，其化學分子式為msio2·nh2o。除強堿、氫氟酸外不與任何物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，不溶于水和任何溶劑，無毒無味，化學性質(zhì)穩(wěn)定。通過將陰極片0210、陽極片0220和透水隔氣膜0230嵌入硅膠電解套0300的環(huán)形槽0310內(nèi)，即陰極片0210、陽極片0220和透水隔氣膜0230包裹在硅膠電解套0300內(nèi)，能夠利用硅膠實現(xiàn)密封，防止制氫制氧裝置1000中各個區(qū)域之間漏水，而且硅膠化學性質(zhì)穩(wěn)定，在電化學環(huán)境中不易被腐蝕。由此避免在制氫制氧裝置中使用大量密封圈，不但提高了密封效果，簡化了結(jié)構(gòu)，而且更衛(wèi)生。

具體地，電解室由電解槽0110和電解槽上蓋0120圍繞而成。硅膠電解套0300設(shè)置在電解槽0110和電解槽上蓋0120形成的容納腔內(nèi)。

優(yōu)選地，電解槽0110和/或電解槽上蓋0120的材質(zhì)為硅膠。

優(yōu)選地，陰極片0210靠近電解槽上蓋0120設(shè)置，陽極片0220靠近電解槽0110設(shè)置。

優(yōu)選地，如圖5所示，電解槽0110的槽底沿圓周方向設(shè)置有環(huán)形安裝座0111，硅膠電解套0300的底部與環(huán)形安裝座0111的頂部抵接，用于使環(huán)形安裝座0111的內(nèi)側(cè)的區(qū)域形成電解區(qū)。

優(yōu)選地，硅膠電解套0300的頂部設(shè)置有連接盤，連接盤與電解槽上蓋0120固定連接。

優(yōu)選地，環(huán)形安裝座0111外側(cè)的槽底設(shè)置有用于連通廢水箱的出液口0113，環(huán)形安裝座0111上設(shè)置有若干連通環(huán)形安裝座0111內(nèi)外兩側(cè)槽底的通道0112。

上述透水隔氣膜0230是指具有透水隔氣功能的膜。需要注意的是，此處隔氣是指隔離以氣泡形式存在的氣體，而非以分子狀態(tài)存在。電解水所產(chǎn)生的氫氣的機理是，水中的氫分子在陰極片0210上得到電子而發(fā)生還原反應(yīng)產(chǎn)生氣相，由于氣相與水相之間的界面差，所以生產(chǎn)的氫氣以氫氣泡分散在水中。以陰極的電流密度為2～6ma/cm²、電解在常壓下和電解水為中性為例，所產(chǎn)生的氫氣泡的尺寸呈高斯隨機分布在20～80微米范圍內(nèi)。陽極片0220產(chǎn)生的氧氣也以氣泡的形式存在，以陽極電流密度為2～6ma/cm2并且電解在常壓下為例，所產(chǎn)生的氣泡分布在40～100微米范圍內(nèi)。因此，透水隔氣膜0230的實現(xiàn)形式可以是具有截留尺寸小于氫氣泡和氧氣泡大小的任何形式的膜，即具有截留尺寸(或稱為濾孔)在10微米以下。

具體而言，作為其中一種實施方式，透水隔氣膜0230為離子膜。離子膜是一種含離子基團的、對溶液里的離子具有選擇透過能力的高分子膜。因為一般在應(yīng)用時主要是利用它的離子選擇透過性，所以也稱為離子選擇透過性膜。本實施例中的離子膜為對氫分子具有選擇透過性的離子膜。

作為另外的實施方式，透水隔氣膜0230可以為截留尺寸(或稱為濾孔)在10微米以下的濾膜。例如，微濾膜。微濾膜是指濾孔徑在0.1～1微米之間的過濾膜。微濾膜可以使用無機膜和有機高分子膜。無機膜可以為陶瓷膜和金屬膜。有機高分子膜可以為天然高分子膜和合成高分子膜，例如聚偏氟乙烯(pvdf)、聚砜(psf)、聚丙烯腈(pan)、聚氯乙烯(pvc)、聚丙烯(pp)等。根據(jù)膜的形式又分為平板膜、管式膜、卷式膜和中空纖維膜；根據(jù)制膜原理，高分子膜的制備方法分為溶出法(干-濕法)、拉伸成孔法、相轉(zhuǎn)化法、熱致相法，浸涂法、輻照法、表面化學改性法、核徑跡法、動力形成法等，無機膜的制備方法主要有溶膠—凝膠法、燒結(jié)法、化學沉淀法等。溶劑理解的是，此處采用的是具有絕緣性的微濾膜，較佳是有機高分子微濾膜。當然，濾膜還可以使用超濾膜等。

作為另外的實施方式，透水隔氣膜0230為自增濕膜。自增濕膜是能允許液體水透過而其它介質(zhì)無法通過的膜。自增濕膜可使用親水物質(zhì)(例如二氧化鈦、二氧化硅、三氧化二鋁粒子摻雜修飾的nafion膜)。

優(yōu)選地，陰極片0210和/或陽極片0220的表面設(shè)置有按照預(yù)設(shè)的規(guī)則分布的通孔，以保證與水接觸的充分性。具體地，在本實施例中，預(yù)設(shè)的規(guī)則是指預(yù)先設(shè)定的通孔的形狀和排列方式，例如通孔為蜂窩狀的通孔，或其它形式。

在本實施例中，術(shù)語“電解區(qū)”是指具有電流通過的區(qū)域。

在本實施例中，陰極片0210、透水隔氣膜0230和陽極片0220三者可以不抵接，也可以是三者抵接的方式，例如陰極片0210、透水隔氣膜0230和陽極片0220依次疊加設(shè)置。

這里，“疊加設(shè)置”可以理解的是指多個具有層結(jié)構(gòu)的物件(例如薄膜等)采用一者貼合于另一者表面的堆疊方式。以a、b、c、d依次疊加設(shè)置為例，是指a的一個表面設(shè)置b、b的表面設(shè)置c、c的表面設(shè)置d，即按照某一方向(例如從上至下)，a、b、c、d依次排列。

陰極片0210和陽極片0220可以是鈦片。為了增強陰極片0210和陽極片0220的活性，可以在表面涂覆一些氧化物，如中國專利cn104562078a，具體為：涂層至少包含底層涂層和表層涂層，底層涂層包含鈦氧化物、銥氧化物和釕氧化物，表層涂層包含銥氧化物、釕氧化物、鈦氧化物、以及鈀、鉑中的一種或兩種元素的金屬或氧化物。底層涂層中釕、銥和鈦的摩爾百分比為：釕：銥：鈦＝30～50％：10～25％：30～45％；表層涂層中釕、銥、鈦和鈀的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鈀＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％。底層涂層中釕、銥和鈦的摩爾百分比為：釕：銥：鈦＝30～50％：10～25％：30～45％；表層涂層中釕、銥、鈦和鉑的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鉑＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％。底層涂層中釕、銥和鈦的摩爾百分比為：釕：銥：鈦＝30～50％：10～25％：30～45％；表層涂層中釕、銥、鈦、鈀和鉑的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鈀：鉑＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％：2.5～20％。底層涂層中還包括鋯氧化物，底層涂層中釕、銥、鈦和鋯的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鋯＝30～50％：10～25％：30～45％：2～10％；表層涂層中釕、銥、鈦和鈀的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鈀＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％。底層涂層中還包括鋯氧化物，底層涂層中釕：銥：鈦和鋯的摩爾比百分為：釕：銥：鈦：鋯＝30～50％：10～25％：30～45％：2～10％；表層涂層中釕、銥、鈦和鉑的摩爾百分比為，釕：銥：鈦：鉑＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％。底層涂層中還包括鋯氧化物，底層涂層中釕：銥：鈦和鋯的摩爾百分比為釕：銥：鈦：鋯＝30～50％：10～25％：30～45％：2～10％；表層涂層中釕、銥、鈦、鈀和鉑的摩爾百分比為，釕：銥：鈦：鈀：鉑＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％：2.5～20％。底層涂層的厚度為5～15微米，表層涂層的厚度為1～5微米。

在本實施例中，電解槽0110和電解槽上蓋0120之間，以及硅膠電解套0300的安裝，可以采用可拆卸方式，以方便對硅膠電解套0300、陰極片0210、陽極片0220和透水隔氣膜0230等部件的更換?？刹鹦兜姆绞?，可以是緊固件、滑接件、卡接件。此處，緊固件可列舉出法蘭件、螺接件等。

可舉出上述卡接件的一種實施結(jié)構(gòu)，具體為：卡接件包括設(shè)置于第一安裝件的卡扣和設(shè)置于第二安裝件的卡孔，該卡扣與卡孔相配合?？郯ㄔO(shè)置于第一安裝件的連接部以及位于連接部一端的彈性的卡扣部，卡孔周圍環(huán)繞有彈性的卡持部。卡扣部為一球體，卡扣為中空結(jié)構(gòu)，形成有自連接部延伸至卡扣部的育孔，從而允許該第一卡扣件受到擠壓時發(fā)生彈性形變。卡扣可與第一安裝件一體成型。卡持部形成有多個缺口，缺口將卡持部分隔成相互獨立的卡持，從而使卡持部在受到外力作用時產(chǎn)生彈性形變。卡扣孔的直徑小于卡扣部的球徑?？鄄坎迦肟讜r，卡持塊受到卡扣部的推力發(fā)生彈性變形向外擴張，使卡扣部穿過卡扣孔?？鄄看┻^卡孔，卡持塊及卡扣部均恢復(fù)原狀，卡扣部被卡持塊阻擋于卡孔外以將第一安裝件與第二安裝件固定?？ǔ植慷瞬啃纬捎械菇?，以便拆卸第一殼體與第二安裝件時使卡扣部在外力作用下易于回至卡孔內(nèi)。

上述卡接件還可列舉第二種實施結(jié)構(gòu)(圖中未示出)。具體為：卡接件可包括卡舌和卡扣?？ㄉ喟ǖ谝豢ú?、第二卡槽和位于第一卡槽和第二卡槽之間的鉤形的鉤體，該第一卡槽、第二卡槽、鉤槽均為彈性的結(jié)構(gòu)的槽?？郯ǖ谝徊鍡l、第二插條和位于第一插條、第二插條之間的鉤槽。該第一卡槽、第二卡槽、鉤槽均為彈性的槽。該第一卡槽、第二卡槽、鉤槽均為彈性的槽。當要實現(xiàn)卡舌同卡扣的卡緊時，該第一插條插入第一卡槽內(nèi)，第二插條插入第二卡槽內(nèi)，鉤體插入鉤槽，第一卡槽、第二卡槽、鉤槽的彈性保證第一插條、第二插條和鉤體的緊密接觸而達到了卡緊效果。

上述卡接件還可列舉第三種實施結(jié)構(gòu)(圖中未示出)。具體為：卡接件可包括卡座和卡舌，該卡座和卡舌相配合。于此，卡座和卡舌的形狀不做特別的限定，其結(jié)構(gòu)的實施方式有很多。其中第一種實施方式為應(yīng)用于背包帶的卡扣。具體為，卡座包括一卡槽。卡舌可為e字型，也就是說，該結(jié)構(gòu)的卡舌包括第一插條、第三插條，和位于第一插條、第三插條之間的第二插條，第一插條和第三插條為彈性結(jié)構(gòu)，在外力作用下二者可向第二插條靠攏，撤銷外力后，二者回復(fù)到原來的位置。第二插條可為彈性結(jié)構(gòu)，也可為非彈性。與插舌結(jié)構(gòu)對應(yīng)地，卡槽的前部要寬于后部。此處，“前”指沿插舌進入方向?？ú矍安康膶挾纫孕∮诓迳嗟膶挾龋ú鄣暮蟛繉挾纫黠@地小于插舌的寬度，如此可使得卡舌插入卡槽的過程中，當進入至卡槽的前部時，第一插條和第三插條被壓縮向第二插條靠攏，當進入至卡槽的后部時，由于卡槽的厚度為開放體，第一插條和第三插條自動向外彈開以從卡座內(nèi)外露出?？ú鄣漠斠獙崿F(xiàn)卡舌和卡座的卡扣時，將卡舌插入卡槽中，這時，第一插條和第三插條外露于卡座；當要實現(xiàn)卡舌和卡座的拆卸時，只需捏合第一插條和第三插條以使得卡舌拔出于卡槽。

滑接件可包括設(shè)置在滑舌和與該滑舌配合以供滑舌滑動的滑軌?；壍男问娇闪信e出二種，第一種是兩條平行的凸條，凸條之間形成供滑舌卡入的滑動腔。為了使得滑舌更好地卡入滑動腔內(nèi)，滑動腔為“凸”字形，于此對應(yīng)地，滑舌也為該“凸”字形?；壍牡诙N形式為開設(shè)在底座內(nèi)部的滑孔。同理地，為了使得滑舌更好地卡入滑孔內(nèi)，滑孔為“凸”字形，于此對應(yīng)地，滑舌也為該“凸”字形。滑舌和滑軌中至少一者可為彈性結(jié)構(gòu)。即，滑舌為可發(fā)生彈性形變的材質(zhì)制成，諸如以丁腈橡膠、三元乙丙橡膠等為代表的高彈性模量的橡膠材質(zhì)，滑軌為剛性的金屬材質(zhì)?；蛘叩?，滑軌為可發(fā)生彈性形變的材質(zhì)制成，滑舌為剛性的金屬材質(zhì)?；蛘叩?，二者均為可發(fā)生彈性形變的材質(zhì)制成。

除此，本實施例中的富氫美膚儀還可包括如本領(lǐng)域其它的結(jié)構(gòu)部件，例如用于提供電解所需源相關(guān)控制電路(基于恒流或恒壓的目的)、支架等。于此不再詳述。

上述未述及之處，適用于現(xiàn)有技術(shù)。

盡管以上較多使用了表示結(jié)構(gòu)的術(shù)語，例如“透水隔氣膜”、“氫產(chǎn)生區(qū)”、“氧產(chǎn)生區(qū)”等，但并不排除使用其它術(shù)語的可能性。使用這些術(shù)語僅僅是為了更方便地描述和解釋本發(fā)明的本質(zhì)；把它們解釋成任何一種附加的限制都是與本發(fā)明精神相違背的。

本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解附圖只是一個優(yōu)選實施場景的示意圖，附圖中的模塊或流程并不一定是實施本發(fā)明所必須的。

本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解實施場景中的裝置中的模塊可以按照實施場景描述進行分布于實施場景的裝置中，也可以進行相應(yīng)變化位于不同于本實施場景的一個或多個裝置中。上述實施場景的模塊可以合并為一個模塊，也可以進一步拆分成多個子模塊。

上述本發(fā)明序號僅僅為了描述，不代表實施場景的優(yōu)劣。

以上公開的僅為本發(fā)明的幾個具體實施場景，但是，本發(fā)明并非局限于此，任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員能思之的變化都應(yīng)落入本發(fā)明的保護范圍。