本發(fā)明涉及金鋼線生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種金鋼線橫向上砂裝置。
背景技術(shù):
金屬絲表面電鍍金剛石磨料制成的金鋼線是線切割技術(shù)領(lǐng)域使用非常普遍的線鋸材料,其切割效率高、切縫小、可同時(shí)切割多片產(chǎn)品并且環(huán)保。工業(yè)上許多硬質(zhì)材料都是用切割鋼線或者更高質(zhì)量的金鋼線來(lái)切割的,比如光伏領(lǐng)域的多晶硅切片,單晶硅,晶棒。
在金鋼線生產(chǎn)過(guò)程中需要經(jīng)過(guò)放線、堿洗、酸洗、預(yù)鍍、上砂、加固等多道工序,各工序之間緊密銜接,上砂工序即是將金鋼砂通過(guò)電鍍方式附著在金屬絲表面,對(duì)最終成品質(zhì)量起著決定性作用。但是現(xiàn)有上砂裝置上砂時(shí)存在上砂不均,上砂密度不易控制等不足。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明為解決上述技術(shù)問(wèn)題,提供一種金鋼線橫向上砂裝置。
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題采用以下的技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)。
一種金鋼線橫向上砂裝置,包括上砂槽,所述上砂槽上端開(kāi)口,底部設(shè)置通孔,所述上砂槽兩端面分別設(shè)置進(jìn)線孔、出線孔,金屬線從所述進(jìn)線孔進(jìn)入上砂槽,從所述出線孔離開(kāi)上砂槽,上砂槽內(nèi)位于金屬線兩側(cè)分別設(shè)置一對(duì)與金屬線平行的噴液管,所述噴液管朝向金屬線一面間隔設(shè)置噴嘴,含有金鋼砂的藥液從所述噴嘴噴出對(duì)金屬線上砂。
優(yōu)選的,所述上砂槽兩端面沿同一水平線間隔設(shè)置1-4個(gè)進(jìn)線孔與對(duì)應(yīng)的出線孔,實(shí)現(xiàn)同時(shí)對(duì)多對(duì)金屬線進(jìn)行上砂。
進(jìn)一步,所述上砂槽下端與支架連接,通過(guò)支架將上砂槽固定,所述支架優(yōu)選為伸縮架,從而靈活調(diào)節(jié)上砂槽高度,使其適應(yīng)流水線生產(chǎn)。
優(yōu)選的,所述上砂槽底部為圓錐形或三角形,便于對(duì)藥液進(jìn)行回收。
本發(fā)明的有益效果為:通過(guò)在上砂槽內(nèi)沿金屬線兩側(cè)分別設(shè)置帶有噴嘴的噴液管,從兩側(cè)對(duì)金屬線進(jìn)行上砂,上砂更為均勻,進(jìn)一步在上砂槽兩端面設(shè)置多個(gè)進(jìn)線孔和對(duì)應(yīng)的出線孔,可同時(shí)對(duì)多根金屬線進(jìn)行上砂作業(yè),提高了設(shè)備利用率,節(jié)省了成本。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明示意圖;
圖2為本發(fā)明上砂槽俯視圖;
圖3為本發(fā)明上砂槽側(cè)視圖。
具體實(shí)施方式
為了使本發(fā)明實(shí)現(xiàn)的技術(shù)手段、創(chuàng)作特征、達(dá)成目的與功效易于明白了解,下面結(jié)合具體圖示,進(jìn)一步闡述本發(fā)明。
如圖1-3所示,一種金鋼線橫向上砂裝置,包括上砂槽1,上砂槽1上端開(kāi)口,底部設(shè)置通孔5,兩端面分別設(shè)置進(jìn)線孔2、出線孔3,金屬線4從進(jìn)線孔2進(jìn)入上砂槽1,從出線孔3離開(kāi)上砂槽1,上砂槽1內(nèi)位于金屬線4兩側(cè)分別設(shè)置一對(duì)與金屬線4平行的噴液管7,噴液管7朝向金屬線4一面間隔設(shè)置噴嘴8,含有金鋼砂的藥液從噴嘴8噴出對(duì)金屬線4上砂,上砂槽1底部?jī)?yōu)選為圓錐形或三角形,便于對(duì)藥液進(jìn)行回收,上砂槽1下端與支架6連接,通過(guò)支架6將上砂槽1固定,支架6優(yōu)選為伸縮架,從而靈活調(diào)節(jié)上砂槽1高度,使其適應(yīng)流水線生產(chǎn),上砂槽1兩端面沿同一水平線間隔設(shè)置1-4個(gè)進(jìn)線孔2與對(duì)應(yīng)的出線孔3,實(shí)現(xiàn)同時(shí)對(duì)多對(duì)金屬線進(jìn)行上砂。
以上顯示和描述了本發(fā)明的基本原理、主要特征和本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解,本發(fā)明不受上述實(shí)施例的限制,上述實(shí)施例和說(shuō)明書(shū)中描述的僅為本發(fā)明的優(yōu)選例,并不用來(lái)限制本發(fā)明,在不脫離本發(fā)明精神和范圍的前提下,本發(fā)明還會(huì)有各種變化和改進(jìn),這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本發(fā)明范圍內(nèi)。本發(fā)明要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書(shū)及其等效物界定。