本實(shí)用新型涉及一種電流遮板，尤指一種安裝在電鍍槽中，可以隨著被電鍍的基板的長(zhǎng)度自動(dòng)改變遮板長(zhǎng)度的電流遮板。

背景技術(shù)：

在印刷電路板的制造領(lǐng)域中，除了利用蝕刻等屬于被稱為是減去法(Subtractive)的方式來(lái)制造電路板外，另一大類的制造方式則是反過(guò)來(lái)利用被稱為是加成法(Additive)的方式來(lái)制造；加成法是利用在預(yù)鍍好薄銅的基板上，涂布覆蓋光阻劑(D/F)并以紫外光曝光顯影制作出遮蓋框架，并讓需要形成線路的地方露出，然后利用電鍍槽以電鍍的方式增厚基板上的銅箔線路到制作出來(lái)的電路板所需要的規(guī)格厚度，之后線路上再鍍上抗蝕刻的錫金屬后，去除光阻劑并把最底層未被錫金屬保護(hù)的銅箔電鍍掉以在基板上形成電路。

在這樣的加工過(guò)程中，為了保持電鍍加工質(zhì)量的一致性，電鍍槽的設(shè)計(jì)與受加工的電路板的長(zhǎng)度息息相關(guān)，請(qǐng)參考圖1、2所示的電鍍槽示意圖，在圖1所示的電鍍槽設(shè)計(jì)上，主要是具有一槽體10、槽體10的上方安裝有一向下延伸的飛靶11、一頂層浮板12以及多數(shù)個(gè)位于所述飛靶11兩側(cè)的陽(yáng)極籃13；所述飛靶11通過(guò)一夾具111以?shī)A持一之后被加工為PCB的基板14；所述頂層浮板12用以阻擋并減少陽(yáng)離子過(guò)量鍍到所述基板14的表面，可利用比重關(guān)系在電鍍液中浮升，所述頂層浮板12通過(guò)一滑軸121連接所述槽體10的頂部，并通過(guò)所述滑軸121限制于垂直方向上下滑動(dòng)，其中，當(dāng)所述基板14安裝于所述夾具111時(shí)，所述頂層浮板12位于所述基板14的下方，收到浮力作用而與所述基板14的底部互相接觸；所述陽(yáng)極籃13作為電鍍時(shí)的陽(yáng)極，內(nèi)部具有一放置空間(圖未示)，用來(lái)放置做為電鍍?cè)系慕饘偾颍怨?yīng)反應(yīng)中的陽(yáng)離子到鍍液中，再鍍到電路板上面。

在一般的電鍍情況下，當(dāng)所述基板14具有足夠的長(zhǎng)度而使得所述頂層浮板12底端會(huì)低于所述陽(yáng)極籃13的底端時(shí)，因加工時(shí)所述基板14所處于的電流放電區(qū)的電場(chǎng)方向較為均勻，使得最后加工出的PCB的線路的厚度較為均勻，但是當(dāng)所述基板14的長(zhǎng)度較短而使得所述頂層浮板12的底端會(huì)高于所述陽(yáng)極籃13的底端時(shí)(如圖2所示)，其所處于的放電區(qū)電場(chǎng)會(huì)因所述陽(yáng)極籃13的形狀而產(chǎn)生的尖端放電現(xiàn)象而產(chǎn)生方向不均勻的混亂不均勻電場(chǎng)15，使得生成于靠近所述基板14底端的部分的線路厚度增厚，導(dǎo)致最后生產(chǎn)出來(lái)的PCB上的線路厚度不均勻。

故為了解決這樣的問(wèn)題，除了配合所述基板14長(zhǎng)度以更換不同的槽體10外，另一種方式就是如圖2所示，在槽體10內(nèi)的所述陽(yáng)極籃13與所述頂層浮板12之間的位置安裝一平行于所述基板14表面的遮板16，使得靠近放電區(qū)末端的頂層浮板12處于方向較為均勻的電場(chǎng)中，以解決尖端放電現(xiàn)象所產(chǎn)生的PCB線路厚度不均的問(wèn)題；但以上兩種方式，無(wú)論是更換電鍍槽或是在電鍍槽槽體10內(nèi)放入各種配合所述基板14長(zhǎng)度的遮板16，皆需要額外的設(shè)備變更停機(jī)時(shí)間，而影響到產(chǎn)值基距。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為解決所述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型的目的在于：提供一種安裝于電鍍槽中的電流遮板，該電流遮板可對(duì)應(yīng)被電鍍的基板的長(zhǎng)度變化，通過(guò)安裝于飛靶的基板的底端壓抵而調(diào)整電流遮板板的高度，以防止電鍍時(shí)，因基板底端高低位置的不同而產(chǎn)生不均勻的電鍍結(jié)果。

本實(shí)用新型的次要目的在于提供一種電流遮板，該電流遮板具有可變化的垂直長(zhǎng)度，使得電流遮板為了對(duì)應(yīng)基板的底端位置而需要完全展開(kāi)時(shí)，電流遮板的垂直長(zhǎng)度可大于固定座的垂直長(zhǎng)度，而在為了對(duì)應(yīng)基板的底端位置而需要縮短時(shí)，電流遮板的垂直長(zhǎng)度能夠縮短到小于固定座的垂直長(zhǎng)度。

為實(shí)現(xiàn)所述目的，本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是：一種電流遮板，安裝于一能填充電鍍液體的電鍍槽內(nèi)，所述電鍍槽底部設(shè)有一限制所述電流遮板移動(dòng)范圍的固定座，且頂部安裝有一能帶動(dòng)所述電流遮板位移的飛靶，又所述固定座形成有一限位空間，其特征在于：所述電流遮板具有容設(shè)于所述限位空間的一第一浮板以及一第二浮板，且所述第一浮板及第二浮板能在所述電鍍液體作用下分別浮升至不同高度，使得所述電流遮板所構(gòu)成的一遮擋長(zhǎng)度大于所述固定座的垂直長(zhǎng)度，且所述第二浮板在受到所述飛靶帶動(dòng)下能夠相對(duì)于所述第一浮板位移來(lái)改變所述遮擋長(zhǎng)度的大小。

關(guān)于所述電流遮板的詳細(xì)結(jié)構(gòu)部分，于一些實(shí)施例中，所述第一浮板與第二浮板分別構(gòu)設(shè)有一第一限位件以及一第二限位件，使得所述第一浮板與第二浮板之間沿著一垂直方向產(chǎn)生相對(duì)位移。

其中，于一些實(shí)施例中，所述第一限位件設(shè)為多數(shù)個(gè)由底部垂直延伸的凸柱，且所述凸柱頂部具有一直徑大于所述凸柱的擋片，而所述第二限位件設(shè)為多數(shù)個(gè)對(duì)應(yīng)所述凸柱套接的套筒。

而關(guān)于所述實(shí)施例中，所述第一浮板于所述第二浮板間的作動(dòng)方式，所述第二浮板在受到所述飛靶推抵即產(chǎn)生向下位移，又所述第一浮板在受到所述第二浮板的套筒推抵始產(chǎn)生下向位移。

而關(guān)于所述套筒與所述凸柱的詳細(xì)設(shè)置位置，所述第一浮板或第二浮板的水平長(zhǎng)度大于所述固定座的水平長(zhǎng)度，而所述多數(shù)個(gè)凸柱以及套筒分別設(shè)置于所述第一浮板以及所述第二浮板的邊角位置。

關(guān)于所述第一浮板與所述第二浮板間的詳細(xì)形狀部分，于一些較佳實(shí)施例中，所述第一浮板具有形成一第一間隔距離的兩第一壁板，且所述兩第一壁板之間設(shè)有多數(shù)個(gè)第一支撐板相互連接，而所述第二浮板具有形成一第二間隔距離的兩第二壁板，且所述兩第二壁板之間設(shè)有多數(shù)個(gè)與所述多數(shù)個(gè)第一支撐板錯(cuò)位排列的第二支撐板，又所述第一間隔距離或所述第二間隔距離中的其中之一大于其中另一，使所述第一浮板或所述第二浮板的其中之一能夠位移進(jìn)入具有較大所述間隔距離的所述浮板的兩所述壁板之間。

于一較佳實(shí)施例中，所述兩第二壁板于所述第一支撐板的對(duì)應(yīng)位置分別形成有一凹槽，使得所述第二浮板在向下移動(dòng)過(guò)程中無(wú)法接觸所述第一支撐板。

另外，在細(xì)部的形狀設(shè)計(jì)上，于一些實(shí)施例中，所述第二壁板于兩相對(duì)側(cè)位置分別形成有一水平長(zhǎng)度大于所述第一浮板的外凸部；所述第一支撐板具有兩分別連接于所述第一壁板的傾斜部以及一連接于所述兩傾斜部之間的水平部。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，采用所述技術(shù)方案的本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于：為了使電流遮板能夠?qū)?yīng)飛靶延伸長(zhǎng)度的變化，并且可以對(duì)應(yīng)飛靶的底端位置而使得電流遮板的長(zhǎng)度能由大于固定座的垂直長(zhǎng)度的狀態(tài)，變?yōu)殡娏髡诎宓拈L(zhǎng)度而小于固定座的垂直長(zhǎng)度的狀態(tài)，所述電流遮板具有容設(shè)于所述限位空間的第一浮板及第二浮板，所述第一浮板及所述第二浮板能夠在電鍍槽中所填注的電鍍?nèi)芤旱淖饔孟赂∩敛煌母叨龋沟盟鲲w靶未完全抵頂所述電流遮板時(shí)，所述電流遮板所構(gòu)成的一遮檔長(zhǎng)度能夠大于所述固定座的垂直長(zhǎng)度，并在完全抵頂后，所述第二浮板受到所述飛靶帶動(dòng)而能夠相對(duì)于所述第一浮板位移而改變所述遮擋長(zhǎng)度的大小，使得所述遮擋長(zhǎng)度小于所述固定座的垂直長(zhǎng)度，使得所述電流遮板的遮擋長(zhǎng)度可對(duì)應(yīng)電路板底端位置的不同而進(jìn)行大幅度的改變。

附圖說(shuō)明

圖1、圖2為本實(shí)用新型電流遮板的前案示意圖；

圖3為本實(shí)用新型于一實(shí)施例中的剖面圖；

圖4為圖3的側(cè)面組合圖；

圖5為圖3實(shí)施例中第一浮板的立體圖；

圖6為圖3實(shí)施例中第二浮板的立體圖；

圖7為圖3實(shí)施例中電流遮板受到頂層浮板作用的剖面示意圖；

圖8為圖3實(shí)施例中電場(chǎng)方向的示意圖；

圖9為本實(shí)用新型于另一實(shí)施例中的剖面圖；

圖10為本實(shí)用新型于再一實(shí)施例中的剖面圖。

附圖標(biāo)記說(shuō)明：10-槽體；11-飛靶；111-夾具；12-頂層浮板；121-滑軸；13-陽(yáng)極籃；14-基板；15-混亂不均勻電場(chǎng)；16-遮板；20-電流遮板；21-第一浮板；211-凸塊；212-第一壁板；213-第一間隔距離；214-容置空間；215-第一支撐板；216-傾斜部；217-水平部；218-凹槽；219-凸塊；22-第二浮板；221-第二壁板；222-第二間隔距離；223-第二支撐板；224-凹槽；225-外凸部；226-容置空間；227-凸塊；23-限位裝置；231-第一限位件；232-第二限位件；233-凸柱；234-套筒；235-擋片；24-遮擋空間；25-遮擋長(zhǎng)度；30-電鍍槽；31-固定座；310-壁部；311-限位空間；312-垂直長(zhǎng)度；313-限位部；50-飛靶；51-夾具；60-頂層浮板；61-滑軸；62-V型凹槽；70-基板；80-液面；81-電場(chǎng)方向。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合具體實(shí)施例和附圖來(lái)進(jìn)一步描述本實(shí)用新型，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和特點(diǎn)將會(huì)隨著描述而更為清楚。

請(qǐng)參照?qǐng)D3及圖4所示，本實(shí)用新型電流遮板20在一較佳實(shí)施例中，安裝于一能填充電鍍液體(圖未示)的電鍍槽30內(nèi)，所述電鍍槽30底部設(shè)置有一限制所述電流遮板20移動(dòng)范圍的固定座31，所述固定座31形成有一限位空間311，且所述電鍍槽30頂部安裝有一飛靶50，及一帶動(dòng)所述電流遮板20位移的頂層浮板60，所述頂層浮板60通過(guò)一滑軸61(僅在圖3中畫出)連接于所述電鍍槽30的頂部，且所述頂層浮板60能在所述電鍍液體(圖未示)的作用下，因比重的不同受浮力而浮升，使得所述頂層浮板60的頂部與所述基板70連接，另外，所述頂層浮板60上還設(shè)置有一供所述基板70與所述頂層浮板60的頂部壓抵時(shí)，幫助所述基板70固定于所述頂層浮板60中央位置的V型凹槽62。

更精確的說(shuō)，請(qǐng)參照?qǐng)D3及圖4所示，在本實(shí)施例中，所述固定座31具有兩互相平行的壁部310，所述固定座31的所述壁部310具有一垂直長(zhǎng)度312，并在兩所述壁部310之間形成所述限位空間311，而所述電流遮板20則是容設(shè)于所述限位空間311內(nèi)；此外，所述壁部310的頂緣還設(shè)有一朝向所述限位空間311內(nèi)部延伸，而垂直于所述壁部310的作為限位部313的凸板(圖4中未示)；要特別說(shuō)明的是，所述限位空間311在本實(shí)施例中僅由所述固定座31的兩壁部310由兩側(cè)所限制，而沒(méi)有受到所述限位部313所限制，使得所述限位空間311的垂直方向上的范圍大于所述壁部310的所述垂直長(zhǎng)度312。

來(lái)到所述電流遮板20的部分：一樣請(qǐng)參考圖3及圖4所示，在本實(shí)施例中，所述電流遮板20容設(shè)于所述限位空間311內(nèi)，并能在所述電鍍液體的作用下，因比重的不同受浮力而浮升，具有一第一浮板21及一第二浮板22，所述第一浮板21的水平長(zhǎng)度大于所述固定座31的水平長(zhǎng)度，且所述第一浮板21與所述第二浮板22通過(guò)一限位裝置23連接而可于一垂直方向上產(chǎn)生相對(duì)位移，其中，所述限位裝置23是由一裝設(shè)于所述第一浮板21的一第一限位件231及一裝設(shè)于所述第二浮板22的一第二限位件232所構(gòu)成；當(dāng)然，本實(shí)用新型并沒(méi)有特別限制所述第二浮板22的水平長(zhǎng)度與所述固定座31之間的關(guān)系，使得在其他實(shí)施例中，所述第二浮板22的水平長(zhǎng)度可等同于所述第一浮板21的水平長(zhǎng)度，且大于所述固定座31的水平長(zhǎng)度。

在所述第一浮板21與所述固定座31之間的關(guān)系，所述第一浮板21的底緣具有一朝向所述限位空間311外側(cè)方向突出的凸塊211(圖4未示)，且所述第一浮板21及所述第二浮板22皆能在所述電鍍液體(圖未示)的作用下浮升，使得所述電流遮板20在所述電鍍液體填注于所述電鍍槽30時(shí)浮升時(shí)，所述凸塊211與所述限位部313互相接觸，而限制所述第一浮板21的浮升高度，并進(jìn)而使所述第二浮板22與所述第一浮板21浮升至不同的高度，并讓所述電流遮板20所構(gòu)成的一遮擋長(zhǎng)度25大于所述固定座31的垂直長(zhǎng)度312。

在組件的結(jié)構(gòu)部分，更精確的說(shuō)，請(qǐng)參考圖4及圖5所示，所述第一浮板21具有兩互相平行的第一壁板212，兩互相平行的第一壁板212除了在底緣具有所述凸塊211外，還通過(guò)互相間隔一第一間隔距離213而圍繞出一供所述第二浮板22置入的容置空間214；并為了強(qiáng)化所述第一浮板21的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度，兩互相平行的所述第一壁板212之間還具有多數(shù)個(gè)第一支撐板215以連結(jié)兩互相平行的所述第一壁板212，其中，多數(shù)個(gè)所述第一支撐板215具有兩分別連接于所述第一板壁212的傾斜部216以及一連結(jié)于所述兩傾斜部216之間的水平部217；而作為所述第一限位件231的所述凸柱233則是設(shè)置于所述第一浮板21的四個(gè)邊角位置。

同樣的請(qǐng)參考圖4及圖6所示，所述第二浮板22具有兩互相平行的第二壁板221，兩互相平行的所述第二壁板221互相間隔一第二間隔距離222，且兩所述第二壁板221之間還設(shè)置有一兩端連接所述第二壁板221并供所述頂層浮板60壓抵的第二支撐板223；為了解決干涉問(wèn)題，所述第二支撐板223與所述第一支撐板215之間錯(cuò)位排列，并于兩所述第二壁板221上還設(shè)置有多數(shù)個(gè)對(duì)應(yīng)所述第一支撐板215位置的凹槽224；而作為所述第二限位件232的所述套筒234則是設(shè)置于所述第二浮板22的四個(gè)邊角位置；其中，在本實(shí)施例中，所述第二壁板221于兩相對(duì)側(cè)位置還分別形成有一水平長(zhǎng)度大于于所述第一浮板21的外凸部225。

其中，請(qǐng)參考圖3、圖5及圖6所示，所述電流遮板20之所以能夠改變所述遮擋長(zhǎng)度25的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，是利用所述第一間隔距離213大于所述第二間隔距離222，使得所述第一浮板21、所述第二浮板22兩者相對(duì)移動(dòng)時(shí)，所述第二浮板22置入所述第一浮板21的兩所述第一壁板212之間的所述容置空間214中，以改變所述遮擋長(zhǎng)度25。

而所述限位裝置23的部分請(qǐng)參考圖3、圖4、圖5及圖6所示，在本實(shí)施例中所述第一限位件231是為多數(shù)個(gè)設(shè)在第一浮板21的所述第一壁部310的底部所垂直延伸出來(lái)的凸柱233，所述第二限位件232是為多數(shù)個(gè)安裝在所述第二浮板22的所述第二壁部310的套筒234；多數(shù)個(gè)所述凸柱233分別設(shè)置于所述第一浮板21的邊角位置，多數(shù)個(gè)所述套筒234一樣是設(shè)置于所述第二浮板22的邊角位置，以對(duì)應(yīng)所述凸柱233套接，使得所述套筒234的內(nèi)表面與所述凸柱233的表面接觸，以確保所述第一浮板21與所述第二浮板22相對(duì)位移時(shí)，所述第一浮板21與所述第二浮板22之間只會(huì)有垂直方向上的位移，而不會(huì)有因旋轉(zhuǎn)等動(dòng)作造成其他會(huì)造成所述第一浮板21與所述第二浮板22間干涉或卡住的可能性。

另外，請(qǐng)參考圖3、圖4及圖8所示，為了防止所述第一浮板21與所述第二浮板22分離，所述凸柱233的頂部還設(shè)置有一直徑大于所述凸柱233，而防止套結(jié)時(shí)所述套筒234無(wú)法脫離所述凸柱233的擋片235。

請(qǐng)參考圖8所示，當(dāng)使用時(shí)，所述電鍍液體填注于所述電鍍槽30中時(shí)，所述第一浮板21與所述第二浮板22通過(guò)所述擋片235與所述套筒234連結(jié)，所述第一浮板21與所述固定座31通過(guò)所述凸塊211與所述限位部313限位，使得所述第一浮板21、所述第二浮板22、所述固定座31三者連接而共同形成一遮擋空間24，以便在所述頂層浮板60的下方完全阻斷高電流區(qū)混亂的電場(chǎng)，使所述電鍍液體的液面80下產(chǎn)生較為均勻的電場(chǎng)方向81，陽(yáng)離子被限制沿著直線方向移動(dòng)而可均勻的電鍍，不會(huì)影響到成品的厚度，以達(dá)到控制均勻電鍍的目的。

關(guān)于動(dòng)作部分，請(qǐng)參考圖3及圖7所示，在本實(shí)施例中，當(dāng)所述飛靶50通過(guò)所述基板70壓抵所述頂層浮板60，所述頂層浮板60再壓抵所述電流遮板20的所述第二支撐板223時(shí)，除了所述電流遮板20的底部被所述頂層浮板60壓抵而接觸所述電鍍槽30的底部外，所述第二浮板22還因受到所述頂層浮板60壓抵而與所述第一浮板21產(chǎn)生相對(duì)位移，并置入所述容置空間214中，進(jìn)而改變所述遮擋長(zhǎng)度25的大小，使得所述電流遮板20可隨所述基板70的長(zhǎng)度變化來(lái)改變所述遮擋長(zhǎng)度25；此外，當(dāng)所述第二浮板22置入所述容置空間214的過(guò)程中，所述第一浮板21的所述第一支撐板215移至所述第二浮板22的所述凹槽224內(nèi)，使得所述第二浮板22在向下移動(dòng)過(guò)程中無(wú)法接觸所述第一支撐板215。

以下有幾點(diǎn)要特別說(shuō)明，首先是關(guān)于所述頂層浮板60與電鍍槽30之間的關(guān)系，在所述實(shí)施例中，所述頂層浮板60是通過(guò)所述滑軌61與所述電解槽30連接，但本實(shí)用新型并沒(méi)有限制所述頂層浮板60與所述電解槽30間的連接關(guān)系，使得在一些實(shí)施例中，所述滑軌61可以用其他限制所述頂層浮板60于垂直方向上移動(dòng)的其他機(jī)構(gòu)代替，甚至在一些實(shí)施例中，所述頂層浮板60可以不包含限制所述頂層浮板60于垂直方向上移動(dòng)的其他機(jī)構(gòu)，而僅利用所述頂層浮板60頂部所述V型凹槽62來(lái)定位所述頂層浮板60。

另外，本實(shí)用新型也沒(méi)有限制所述第二浮板22一定是要通過(guò)所述頂層浮板60壓抵而位于垂直方向上移動(dòng)，使得在一些實(shí)施例中，可變更所述飛靶50上的所述夾具51的設(shè)計(jì)，使得當(dāng)所述夾具51是為一具有橫方向開(kāi)口的ㄇ字型夾具時(shí)，是由上下兩個(gè)位置同時(shí)固定所述基板70，并讓所述第二浮板22直接通過(guò)所述夾具51的底端部分來(lái)壓抵所述頂層浮板60，或者，在所述基板70機(jī)械強(qiáng)度較高的實(shí)施例中，直接利用所述基板70壓抵所述頂層浮板60。

關(guān)于所述遮擋長(zhǎng)度25的部分，在本實(shí)施例中如圖7所示，改變后的所述遮擋長(zhǎng)度25是大致等同于(略小于)所述固定座31的所述垂直長(zhǎng)度312，但在本實(shí)用新型其他實(shí)施例中，改變后的所述遮擋長(zhǎng)度25的長(zhǎng)度量值大小可以小于所述垂直長(zhǎng)度312。

關(guān)于所述第一浮板21、所述第二浮板22與所述固定座31之間的相對(duì)移動(dòng)關(guān)系，在本實(shí)施例中，當(dāng)所述電流遮板20改變所述遮擋長(zhǎng)度25時(shí)，是在所述第二浮板22受到所述頂層浮板60推抵即產(chǎn)生向下位移，然后所述第一浮板21受到所述第二浮板22的所述套筒234推抵后始產(chǎn)生下向位移，但本實(shí)用新型并沒(méi)有限制所述第一浮板21、所述第二浮板22及所述固定座31之間相對(duì)移動(dòng)的順序，使得在本實(shí)用新型的其他實(shí)施例中，所述第一浮板21、所述第二浮板22及所述固定座31之間可能同時(shí)產(chǎn)生相對(duì)移動(dòng)(例如在所述第一浮板21、所述第二浮板22及所述固定座31之間皆安裝一彈簧)；而在一些實(shí)施例中，是先在所述第一浮板21與所述固定座31間產(chǎn)生相對(duì)移動(dòng)，固定住所述第一浮板21的位置后(例如本實(shí)施例是利用電鍍槽30底部或是其他實(shí)施例可利用在所述固定座31上設(shè)計(jì)其他的固定結(jié)構(gòu))，然后才在所述第一浮板21與所述第二浮板22間產(chǎn)生相對(duì)移動(dòng)。

請(qǐng)參照?qǐng)D3及圖9所示，同樣的，本實(shí)用新型也沒(méi)有限制所述第一浮板21、所述第二浮板22之間產(chǎn)生相對(duì)位移的方式，使得在圖3的實(shí)施例中，是由所述頂層浮板60壓抵所述第二浮板22，再由所述第二浮板22的所述套筒234的部分壓抵所述第一浮板21來(lái)移動(dòng)所述電流遮板20，但在其他實(shí)施例中如圖9所示，可通過(guò)改變所述第一浮板21的形狀設(shè)計(jì)，如圖9是增加所述水平部217的高度，使得所述電流遮板20在移動(dòng)與所述固定座31相對(duì)移動(dòng)時(shí)，是由所述頂層浮板60同時(shí)壓抵所述第一浮板21的所述水平部217及所述第二浮板22的所述第二支撐板223來(lái)移動(dòng)所述電流遮板20。

請(qǐng)參考圖3及圖10所示，在圖3的實(shí)施例中，關(guān)于所述電流遮板20能夠改變所述遮擋長(zhǎng)度25的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)已于前面的段落說(shuō)明，但本實(shí)用新型并沒(méi)有限制所述第一間隔距離213一定要大于所述第二間隔距離222，也沒(méi)有限制所述電流遮板20在改變所述遮擋長(zhǎng)度25時(shí)一定是由所述第二浮板22置入所述第一浮板21的所述容置空間214中，使得本領(lǐng)域技術(shù)人員在看過(guò)圖3實(shí)施例后，應(yīng)能簡(jiǎn)單想到如圖10的實(shí)施例所示改變所述第一間隔距離213與所述第二間隔距離222之間的大小關(guān)系，使得在圖10實(shí)施例中，所述第二間隔距離222大于所述第一間隔距離213，并在兩所述第二壁板221形成一在所述遮擋長(zhǎng)度25改變時(shí)，供所述第一浮板21置入的容置空間226，其中，為了防止所述第二支撐板223與所述第一浮板21間的干涉問(wèn)題，于所述第一浮板21上開(kāi)有一供所述第二支撐板223通過(guò)的凹槽218。

此外，在所述第一浮板21、所述第二浮板22、所述固定座31三者之間用以限位的結(jié)構(gòu)部分，請(qǐng)參考圖3及圖10所示，雖然在圖3的實(shí)施例中，僅在所述第一浮板21與所述第二浮板22之間設(shè)置所述限位裝置23，并在所述第一浮板21與所述固定座31之間是利用所述凸塊211與所述限位部313進(jìn)行固定，但本實(shí)用新型并沒(méi)有限制所述第一浮板21、所述第二浮板22與所述固定座31之間的連結(jié)機(jī)構(gòu)，使得本領(lǐng)域技術(shù)人員在看過(guò)本說(shuō)明后應(yīng)可知曉在本實(shí)用新型的其他實(shí)施例中，所述限位裝置23在位置上，可以設(shè)置在所述第一浮板21與所述固定座31之間，所述凸塊211與所述限位部313的凸板可以設(shè)置在所述第一浮板21與所述第二浮板22之間，或者是在所述第一浮板21、所述第二浮板22、所述固定座31之間設(shè)置其他可供兩組件間于一垂直方向上相對(duì)移動(dòng)，且防止兩組件間互相分離的其他限位裝置23；而所述限位裝置23在種類上，也不一定要是如所述實(shí)施例中的所述凸柱233與所述套筒234，而可以是其他如滑軌、滑槽、滑輪配合凸塊或是如圖10中僅只有兩互相配合的凸塊219、凸塊227等等的設(shè)計(jì)。

最后，雖然在所述幾個(gè)實(shí)施例中，所述電流遮板20僅由所述第一浮板21、所述第二浮板22所構(gòu)成，但本領(lǐng)域技術(shù)人員在看過(guò)以上說(shuō)明后應(yīng)可知曉，在本實(shí)用新型的其他實(shí)施例中，可追加所述電流遮板20所具有的浮板的數(shù)量，即除了所述第一浮板21、所述第二浮板22外，另外可在進(jìn)一步包含具有相同類似構(gòu)造的一第三浮板、一第四浮板的設(shè)計(jì)來(lái)構(gòu)成所述電流遮板20，進(jìn)一步增加所述遮擋長(zhǎng)度25的變化范圍。

以上的說(shuō)明和實(shí)施例僅是范例性的，并不對(duì)本實(shí)用新型的范圍構(gòu)成任何限制。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解的是，在不偏離本實(shí)用新型的精神和范圍下能夠?qū)Ρ緦?shí)用新型技術(shù)方案的細(xì)節(jié)和形式進(jìn)行修改或替換，但這些修改和替換均落入本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。