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電鍍錫板表面錫氧化膜的在線去除方法

文檔序號:5283231閱讀:3614來源:國知局
電鍍錫板表面錫氧化膜的在線去除方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種電鍍錫板表面錫氧化膜的在線去除方法,其步驟如下:1)在鍍錫板生產(chǎn)線上增設(shè)去除錫氧化膜的電解清洗槽,將電鍍、軟熔后表面附有大量錫氧化膜的鍍錫板放入電解槽中進行電化學(xué)陰極清洗;2)電解清洗采用的電解液為15~30g/L的Na2CO3溶液或12~24g/L的NaHCO3溶液,電解溫度為35~70℃,電解清洗用電量為1~2.5庫侖/分米2;3)將電解完畢的鍍錫板進行水洗,除去附著在鍍錫板表面的殘余電解液;4)將水洗完的鍍錫板進行鉻酸鹽電化學(xué)陰極鈍化處理。通過將鍍錫板表面生成的錫氧化膜及時去除,從而增加鍍錫板表面的鏡面光澤和商品價值,提高鍍錫板的焊接性能、耐腐蝕性能及涂層的附著性能。
【專利說明】電鍍錫板表面錫氧化膜的在線去除方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及電鍍錫【技術(shù)領(lǐng)域】,具體涉及一種電鍍錫板表面錫氧化膜的在線去除方 法。

【背景技術(shù)】
[0002] 現(xiàn)代化的電鍍錫板生產(chǎn)線采用的是連續(xù)電鍍錫作業(yè)生產(chǎn),電鍍錫原板在鍍錫生產(chǎn) 機組上經(jīng)酸洗、除油、水洗、活化后進入電鍍錫槽進行電鍍。在電鍍過程中,剛鍍上到鋼板上 的錫層比較疏松,光澤不好,而且這種剛鍍上去的錫層在顯微鏡下觀察呈微粒狀的錫粒,沒 有光澤,所以必須對鍍錫板進行軟熔處理。所謂軟熔就是將剛鍍完錫的帶鋼放入軟熔爐中 加熱到錫的熔點以上的溫度使表面的錫層熔融,然后立即放入水中冷卻(淬水),使之變成 表面具有鏡面光澤的電鍍錫板,同時通過軟熔在鍍錫層和鋼板之間形成一層致密的鐵錫合 金層,這種鐵錫合金層對提高鍍錫板的耐腐蝕性能有著很重要的作用。鍍錫板軟熔一般采 用電阻加熱軟熔或高頻感應(yīng)加熱軟熔,也有同時采用電阻加熱和高頻感應(yīng)加熱聯(lián)合加熱的 軟熔方式。由于軟熔加熱溫度是在錫熔點(232°C)以上,所以經(jīng)軟熔后的鍍錫板表面會形 成一層錫的氧化膜,這層附著在鍍錫板表面的錫氧化膜對鍍錫板的外觀質(zhì)量、焊接性能和 耐腐蝕性能都是不利的,首先它會使鍍錫板表面的顏色發(fā)黃,使鍍錫板表面失去鏡面光澤, 從而影響鍍錫板的商品價值;其次在制罐過程中對鍍錫板進行表面涂裝時它還會影響涂層 和基體的結(jié)合力,用這樣的鍍錫板制罐時,還會影響鍍錫板的焊接性能,同時鍍錫板的耐腐 蝕性能也會變差,所以在鍍錫板生產(chǎn)過程中錫層通過軟熔后應(yīng)將這層錫氧化膜除去,再對 鍍錫板進行鈍化處理,以防止錫層進一步氧化。
[0003] 目前,現(xiàn)有電鍍錫板生產(chǎn)線上大多數(shù)均沒有這種在線的專門用于去除在電鍍錫軟 熔時已經(jīng)產(chǎn)生的錫氧化膜的方法,而是采用鈍化的方法在鍍錫板表面形成一層鈍化膜提高 鍍錫板的耐腐蝕性能,以防止鍍錫層在以后的運輸和貯存過程中進一步氧化。這層鈍化膜 大多是鉻酸鹽鈍化膜,如戴杭杰在廣東有色金屬學(xué)報2003(01)-0055-05上《電鍍錫薄鋼板 的鍍后處理》一文中介紹的就是這種鉻酸鹽鈍化處理方法,最近也有的從環(huán)保的觀點出發(fā) 采用無鉻鈍化工藝,但無論是鉻酸鹽鈍化還是無鉻鈍化,都只能防止鍍錫板在生產(chǎn)線上生 產(chǎn)完成以后的運輸、貯存過程中鍍錫板產(chǎn)生的氧化膜,而不能去除鍍錫板在生產(chǎn)時的高溫 軟熔過程中已經(jīng)產(chǎn)生的錫氧化膜,因軟熔時殘存在鍍錫板表面的錫氧化膜還是會對鍍錫板 的外觀和耐腐性能產(chǎn)生不利的影響。所以應(yīng)該在鈍化前將這層錫氧化膜除去。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有生產(chǎn)工藝無法去除電鍍錫板表面錫氧化膜,而導(dǎo)致電 鍍錫板的外觀及耐腐性能不理想的缺陷,提供一種電鍍錫板表面錫氧化膜的在線去除方 法。
[0005] 為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用如下的技術(shù)方案:
[0006] -種電鍍錫板表面錫氧化膜的在線去除方法,該方法是通過在線電化學(xué)處理的方 法,去除軟熔時附著在鍍錫板表面錫氧化膜,然后再將去除了錫氧化膜的鍍錫板進行鈍化 處理,這樣處理的電鍍錫板不僅具有良好的鏡面光澤、同時具有良好的涂裝性能、焊接性能 和耐腐蝕性能。
[0007] 為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明所設(shè)計的電鍍錫板表面錫氧化膜的在線去除方法,其步 驟如下:
[0008] 1)在鍍錫板生產(chǎn)線上增設(shè)去除錫氧化膜的電解清洗槽,將電鍍、軟熔后表面附有 大量錫氧化膜的鍍錫板放入電解槽中進行電化學(xué)陰極清洗;
[0009] 2)電解清洗時采用的電解液為15?30g/L的Na2C03溶液或12?24g/L的NaHC0 3 溶液,電解溫度為35?70°C,電解清洗用電量為1?2. 5庫侖/分米2 ;
[0010] 3)將電解完畢的鍍錫板進行水洗,除去附著在鍍錫板表面的殘余電解液;
[0011] 4)將水洗完的鍍錫板進行鈍化處理。
[0012] 進一步地,所述步驟2)中的電解過程,陽極為不銹鋼板。不銹鋼板耐腐蝕性能好, 經(jīng)久耐用。
[0013] 進一步地,所述鈍化處理為鉻酸鹽陰極電化學(xué)鈍化處理。
[0014] 本發(fā)明的有益效果:通過本發(fā)明方法能將鍍錫板表面在軟熔時生成的錫氧化膜及 時去除,再對去除了錫氧化膜的鍍錫板進行鈍化處理,從而增加鍍錫板表面的鏡面光澤和 商品價值,提高鍍錫板的焊接性能、耐腐蝕性能及涂層的附著性能??梢酝ㄟ^對現(xiàn)有生產(chǎn)線 進行簡單改造增加電解槽和水洗槽來實現(xiàn)本發(fā)明,成本低、效果好、具有較好的實用性。

【具體實施方式】
[0015] 以下結(jié)合具體實施例對本發(fā)明作進一步的詳細(xì)描述。
[0016] 實施例1
[0017] 在電鍍生產(chǎn)作業(yè)線的軟熔、淬水段的下道工藝段增加電鍍錫板陰極電解清洗處理 槽和水洗槽,為了保證電解處理效果,陰極電解處理槽中電解液的容積應(yīng)不小于2. 5m3,電 解槽中電解液配方為濃度15g/L的Na2C03或相同C0廣濃度的NaHC0 3,電解溶液溫度70°C, 同時在槽中加裝耐腐蝕性能好的不銹鋼板陽極,鍍錫板帶鋼進入電解處理槽后,以鍍錫板 帶鋼為陰極,不銹鋼板為陽極將附有錫氧化膜的鍍錫板帶鋼表面進行陰極電解清洗處理, 電解電量2. 5庫侖/分米2,鍍錫板經(jīng)過陰極電解處理出槽后再在水洗槽中進行水洗,以除 去附著在鍍錫板表面的Na 2C03或NaHC03殘余電解液,水洗液溫度為室溫,鍍錫板經(jīng)過這樣 的電化學(xué)清洗工藝處理后,表面的錫氧化膜可以去除干凈。
[0018] 去除錫氧化膜后的鍍錫板再進入下道工藝鉻酸鹽電化學(xué)陰極鈍化槽進行鉻酸鹽 鈍化處理。
[0019] 實施例2
[0020] 在電鍍生產(chǎn)作業(yè)線的軟熔、淬水段的下道工藝段增加電鍍錫板陰極電解處理槽和 水洗槽,為了保證電解處理效果,陰極電解處理槽中電解液的的容積應(yīng)不小于2. 5m3,電解 槽中電解液為濃度30g/l的Na2C03或相同C0廣濃度的NaHC03,電解溶液溫度35°C,同時在 槽中加裝耐腐蝕性能好的不銹鋼板陽極,鍍錫板帶鋼進入電解處理槽后,以鍍錫板帶鋼為 陰極,不銹鋼板為陽極將附有錫氧化膜的鍍錫板帶鋼表面進行陰極電解清洗處理,電解電 量1庫侖/分米 2,鍍錫板經(jīng)過陰極電解處理出槽后再在水洗槽中進行水洗,以除去附著在 鍍錫板表面的Na2C03或NaHC03殘余電解液,水洗液溫度為室溫,鍍錫板經(jīng)過這樣的電化學(xué) 工藝處理后,表面的錫氧化膜可以徹底去除干凈。
[0021] 去除錫氧化膜后的鍍錫板再進入下道工藝鉻酸鹽鈍化槽進行鉻酸鹽電化學(xué)陰極 鈍化處理。
[0022] 實施例3
[0023] 在電鍍生產(chǎn)作業(yè)線的軟熔、淬水段的下道工藝段增加電鍍錫板陰極電解處理槽和 水洗槽,為了保證電解處理效果,陰極電解處理槽中電解液的的容積應(yīng)不小于2. 5m3,電解 槽中電解液為濃度25g/l的Na2C03或相同C0廣濃度的NaHC0 3,電解溶液溫度50°C,同時在 槽中加裝耐腐蝕性能好的不銹鋼板陽極,鍍錫板帶鋼進入電解處理槽后,以鍍錫板帶鋼為 陰極,不銹鋼板為陽極將附有錫氧化膜的鍍錫板帶鋼表面進行陰極電解清洗處理,電解電 量1. 5庫侖/分米2,鍍錫板經(jīng)過陰極電解處理出槽后再在水洗槽中進行水洗,以除去附著 在鍍錫板表面的Na 2C03或NaHC03殘余電解液,水洗液溫度為室溫,鍍錫板經(jīng)過這樣的電化 學(xué)工藝處理后,表面的錫氧化膜可以徹底去除干凈。
[0024] 去除錫氧化膜后的鍍錫板再進入下道工藝鉻酸鹽鈍化槽進行鉻酸鹽電化學(xué)陰極 鈍化處理。
[0025] 實施例4
[0026] 在電鍍生產(chǎn)作業(yè)線的軟熔、淬水段的下道工藝段增加電鍍錫板陰極電解處理槽和 水洗槽,為了保證電解處理效果,陰極電解處理槽中電解液的的容積應(yīng)不小于2. 5m3,電解 槽中電解液為濃度20g/l的Na2C03或相同C0廣濃度的NaHC0 3,電解溶液溫度45°C,同時在 槽中加裝耐腐蝕性能好的不銹鋼板陽極,鍍錫板帶鋼進入電解處理槽后,以鍍錫板帶鋼為 陰極,不銹鋼板為陽極將附有錫氧化膜的鍍錫板帶鋼表面進行陰極電解清洗處理,電解電 量2庫侖/分米 2,鍍錫板經(jīng)過陰極電解處理出槽后再在水洗槽中進行水洗,以除去附著在 鍍錫板表面的Na2C0 3或NaHC03殘余電解液,水洗液溫度為室溫,鍍錫板經(jīng)過這樣的電化學(xué) 工藝處理后,表面的錫氧化膜可以徹底去除干凈。
[0027] 去除錫氧化膜后的鍍錫板再進入下道工藝鉻酸鹽鈍化槽進行鉻酸鹽電化學(xué)陰極 鈍化處理。
[0028] 為了檢查電化學(xué)陰極電解處理對去除鍍錫板表面錫氧化膜的效果,采用電化學(xué)還 原法對經(jīng)實施例1?4的工藝處理的鍍錫板和未經(jīng)電解處理的鍍錫表面錫氧化膜的量進行 測定,結(jié)果見表1。(電化學(xué)法測定鍍錫板表面氧化膜的原理:在無氧電解液內(nèi),以30?50 微安/厘米 2的電流密度對鍍錫板進行恒電流陰極還原,測定試樣在還原過程中的電位變 化,從電位一一時間曲線得出錫氧化膜還原所消耗的電量,以氧化膜還原的電量(毫庫侖/ 厘米 2)作為鍍錫板氧化膜量的度量,通過鍍錫板表面氧化膜的還原電量來評定清洗效果。)
[0029] 表1經(jīng)實施例處理的鍍錫板和未經(jīng)處理的鍍錫板氧化膜還原電量比較
[0030]
【權(quán)利要求】
1. 一種電鍍錫板表面錫氧化膜的在線去除方法,其步驟如下: 1) 在鍍錫板生產(chǎn)線上增設(shè)去除錫氧化膜的電解清洗槽,將電鍍、軟熔后表面附有大量 錫氧化膜的鍍錫板放入電解槽中進行電化學(xué)陰極清洗; 2) 電解清洗采用的電解液為15?30g/L的Na2C03溶液或12?24g/L的NaHC0 3溶液, 電解溫度為35?70°C,電解清洗用電量為1?2. 5庫侖/分米2 ; 3) 將電解完畢的鍍錫板進行水洗,除去附著在鍍錫板表面的殘余電解液; 4) 將水洗完的鍍錫板進行鈍化處理。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述電鍍錫板表面錫氧化膜的在線去除方法,其特征在于:所述步 驟2)中的電解過程,陽極為不銹鋼板。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述電鍍錫板表面錫氧化膜的在線去除方法,其特征在于:所 述鈍化處理為鉻酸鹽電化學(xué)陰極鈍化處理。
【文檔編號】C25D21/08GK104099659SQ201410284742
【公開日】2014年10月15日 申請日期:2014年6月23日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月23日
【發(fā)明者】柳長福, 涂元強, 蔡捷, 杜蓉, 雷澤紅 申請人:武漢鋼鐵(集團)公司
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