專利名稱：：鋁或者鋁合金的表面處理方法
技術領域：
：本發(fā)明涉及一種鋁或者鋁合金的表面處理方法，特別是涉及一種通過鍍敷在晶片上形成UBM(凸塊下金屬層(7》夕'一"'^y>夕A))或者凸塊時的預處理中有效的鋁或者鋁合金的表面處理方法。
背景技術：
：以往，作為在硅晶片上形成UBM或者凸塊的方法，通常使用的方法是在形成圖案于晶片上的鋁薄膜電極上實施鋅置換處理形成置換鋅膜，其后，通過無電解鍍鎳形成凸塊；替代上述鋅置換處理而實施鈀處理，之后，通過無電解鍍鎳形成凸塊；或者，用鎳直接置換鋁薄膜電極的表面，之后，通過自催化型無電解鍍鎳形成凸塊。在使用上述任一方法形成UBM或者凸塊時，作為其預處理階段，通常進行對上述鋁薄膜電極的脫脂處理、除去上述鋁薄膜電極上的鋁氧化膜及金屬雜質等的處理。此時，即使是相同的鋁氧化膜，對于因硝酸浸漬等而產生的極薄厚度的氧化膜，即使在其后續(xù)工序中就這樣實施鍍敷處理也有可能毫無問題地進行鍍敷處理，但在切削工序及退火工序之類的制造工序中產生的牢固的鋁氧化膜殘存于表面的情況下，則有可能在后續(xù)工序中形成的鍍層的密合性不充分，或是在鍍層中產生孔，大多數(shù)情況將發(fā)生鍍層不附著。因此，最好是事前徹底除去這種牢固的鋁氧化膜。為應對這樣的問題，提出了一種方法，其不進行鋁氧化膜的溶解，而是通過干式工藝形成鍍敷基底(參照特開平11-87392號公報)。但是該方法在下述三個方面還有改善的余地，即工序復雜；在快捷性及生產成本方面不利；再者由于殘存的氧化膜不通電而使熱阻抗增加的結果有時造成電特性變差。另外，作為現(xiàn)有技術文獻，除上述公報外還可列舉特開2004-346405號公報、特開2007-254866號公報。
發(fā)明內容本發(fā)明是鑒于上述情況而完成的，其目的在于提供一種鋁或者鋁合金的表面處理方法，其不會對鋁或者鋁合金表面過度蝕刻而且可以容易、迅速且可靠地除去牢固的氧化膜。本發(fā)明人為了實現(xiàn)上述目的進行了銳意研究，其結果發(fā)現(xiàn)下述方法是行之有效的將形成有鋁氧化膜的鋁或者鋁合金表面浸漬于含有可與鋁置換的金屬的鹽或者氧化物的酸性或者堿性的鋁氧化膜去除液中，在鋁或者鋁合金表面除去該鋁氧化膜的同時，形成包含于去除液中的可與鋁置換的金屬的置換金屬層，對此，不直接除去所形成的置換金屬層，在不除去置換金屬層情況下進行鋅置換處理(鋅酸鹽處理)，并形成置換鋅膜，之后，利用具有氧化作用的液體將置換金屬層與置換鋅膜一起除去，再次形成置換鋅膜。即，根據(jù)該方法，既最大限度地抑制了鋁或者鋁合金表面的侵蝕，又可以在低溫下迅速除去氧化膜，另外還發(fā)現(xiàn)，在形成有通過該方法進行了處理的置換鋅膜的鋁或者鋁合金上形成鍍層時，可在鋁或者鋁合金表面與鍍層之間得到高的密合性，從而完成了本發(fā)明。因此，本發(fā)明提供一種鋁或者鋁合金的表面處理方法，其特征在于，包含下述工序(A)將至少表面具有鋁或者鋁合金的被處理體浸漬于含有可與鋁置換的金屬的鹽或者氧化物的酸性或者堿性的鋁氧化膜去除液中，在鋁或者鋁合金表面除去該鋁氧化膜的同時，形成包含于上述去除液中的可與鋁置換的金屬的置換金屬層的工序；(B)在不除去上述置換金屬層的情況下進行鋅置換處理，形成置換鋅膜的工序；(C)利用具有氧化作用的液體將上述置換金屬層與上述置換鋅膜一起除去的工序；及(D)再次進行鋅置換處理，形成置換鋅膜的工序。這時，在上述(D)工序之后，可在上述置換鋅膜上形成鍍層。另外，在上述(D)工序之后，還具備下述工序(E)利用具有氧化作用的液體除去上述置換鋅膜的工序；及(F)進一步進行鋅置換處理，形成置換鋅膜的工序，(E)工序及(F)工序的處理按順序各實施一次或者交替重復實施各兩次以上。這時也可在上述(F)工序之后，在上述置換鋅膜上形成鍍層。根據(jù)本發(fā)明的表面處理方法，由于可最大限度地抑制鋁或者鋁合金表面的侵蝕，同時可形成來自包含于去除液中的金屬的鹽或者氧化物的金屬膜，而且該金屬膜幾乎不腐蝕鋁或者鋁合金的表面，并可在低溫下迅速地溶解除去，因而即使在鋁或者鋁合金的厚度非常薄的情況下，也可既使鋁或者鋁合金可靠地保留又使其表面活性化。另外，在形成有通過該方法進行了處理的置換鋅膜的鋁或者鋁合金上形成鍍層時，可在鋁或者鋁合金表面和鍍層之間得到高的密合性。此外，本發(fā)明的表面處理方法特別適合用于在硅晶片上形成的鋁薄膜電極表面的活化處理的情況等。具體實施例方式本發(fā)明的鋁或者鋁合金的表面處理方法具備(A)將至少表面具有鋁或者鋁合金的被處理體浸漬于含有可與鋁置換的金屬的鹽或者氧化物的酸性或者堿性的鋁氧化膜去除液中，在鋁或者鋁合金表面除去該鋁氧化膜的同時，形成包含于上述去除液中的可與鋁置換的金屬的置換金屬層的工序；(B)在不除去上述置換金屬層的情況下進行鋅置換處理，形成置換鋅膜的工序；(C)利用具有氧化作用的液體將上述置換金屬層與上述置換鋅膜一起除去的工序；及(D)再次進行鋅置換處理，形成置換鋅膜的工序。(A)工序中，將至少表面具有鋁或者鋁合金的被處理物浸漬于含有可與鋁置換的金屬的鹽或者氧化物的酸性或者堿性的鋁氧化膜去除液中，在鋁或者鋁合金表面除去該鋁氧化膜的同時，在該被處理物的鋁或者鋁合金表面形成來自包含于去除液中的金屬鹽或者金屬氧化物的金屬膜(置換金屬層)。作為鋁氧化膜去除液，例如可使用特開2004-263267號公報所記載的去除液，具體而言，可使用含有可與鋁置換的金屬的鹽和酸的鋁氧化膜去除液(第一氧化膜去除液)。作為構成包含于第一氧化膜去除液(酸性去除液)中的金屬鹽的金屬，只要是可與鋁進行置換的金屬就無特別限制，但優(yōu)選為離子化傾向比鋁小的金屬，例如可列舉鋅、鐵、鈷、鎳、錫、鉛、銅、水銀、銀、賴、金、鈀等，作為上述金屬鹽，可列舉這樣的金屬的硝酸鹽及硫酸鹽等水溶性鹽。特別是從去除液的穩(wěn)定性及對鋁或者鋁合金原材料的攻擊性小等理由而優(yōu)選硫酸鹽。它們既可以單獨使用，也可以并用兩種以上。其中，銀、鎳、銅因在其他部位析出的可能性小故而予以優(yōu)選，特別是銅、銀由于離子化傾向大大低于鋁，故而更容易進行置換反應，可縮短蝕刻處理時間，故而予以優(yōu)選。作為在第一氧化膜去除液中使用的金屬鹽的濃度無特別限制，但作為金屬量通常為lppffl(mg/L)以上，優(yōu)選為10ppm(mg/L)以上，作為上限通常為10，000ppm(mg/L)以下，優(yōu)選為5，OOOppm(mg/L)以下。若金屬鹽的濃度過低，則有時不能與基體的鋁進行充分置換、及有時需要進行金屬鹽的補給。另一方面，若濃度過高，則在鋁或者鋁合金為在晶片上形成圖案的電極這樣的情況下，有時會侵蝕鋁或者鋁合金基體以外的材料，或者在鋁或者鋁合金基體以外的材料上過量而析出。作為第一氧化膜去除液所包含的酸無特別限定，但必須是使氧化膜溶解的酸，例如可列舉硫酸、磷酸、鹽酸、氫氟酸等，它們可單獨使用一種，也可以并用兩種以上。其中，從去除液的穩(wěn)定性及對鋁或者鋁合金基體的攻擊性小等觀點來看，優(yōu)選疏酸。作為酸在去除液中的濃度也無特別限定，其通常為10g/L以上，優(yōu)選為15g/L以上，作為上限通常為500g/L以下，優(yōu)選為300g/L以下。pH值為l以下。若酸的濃度過低，則有時沒有使氧化膜溶解的效杲，另一方面，若濃度過高，則有時將侵蝕鋁或者鋁合金基體以外的材料。另外，作為鋁氧化膜去除液，可使用含有可與鋁置換的金屬的鹽或者氧化物、該金屬的離子的可溶化劑和堿，且其pH值為10~13.5的鋁氧化膜去除液(第二氧化膜去除液)。作為構成包含于第二氧化膜去除液(堿性去除液)中的金屬鹽或者金屬氧化物的金屬，只要是可與鋁進行置換的金屬就無特別限制，但優(yōu)選離子化傾向比鋁小的金屬，例如可列舉錳、鋅、鐵、鈷、鎳、錫、鉛、銅、水銀、銀、鉑、金、鈀等，作為上述金屬鹽，可列舉這樣的金屬的硝酸鹽及硫酸鹽等水溶性鹽。其中，錳、鋅與基體即鋁的還原電位差小，故而予以優(yōu)選。作為在第二氧化膜去除液所使用的金屬鹽或者金屬氧化物的濃度無特別限制，但作為金屬量通常為lppm(mg/L)以上，優(yōu)選為10ppm(mg/L)以上，作為上限通常為lO,OOOppm(mg/L)以下，優(yōu)選為5，000ppm(mg/L)以下。若金屬鹽或者金屬氧化物的濃度過低，則有時不能與基體即鋁進行充分置換、及有時需要進行金屬鹽或金屬氧化物的補給。另一方面，若濃度過高，則在鋁或者鋁合金為在晶片上形成圖案的電極這樣的情況下，有時侵蝕鋁或者鋁合金基體以外的材料，或者在鋁或者鋁合金基體以外的材料上過量而析出。作為包含于第二氧化膜去除液中的金屬離子的可溶化劑無特別限制，可使用通常的配位劑、螯合劑。具體而言，可使用乙醇酸、乳酸、蘋果酸、酒石酸、檸檬酸、葡糖酸、葡庚糖酸等羥基羧酸及其鹽；甘氨酸、氨基二羧酸、氨三乙酸、EDTA、羥乙基乙二胺三乙酸、二亞乙基三胺五乙酸、多氨基多羧酸等氨基羧酸及其鹽；HEDP、氨基三曱基膦酸、乙二胺四甲基膦酸等亞磷酸系螯合劑及其鹽；乙二胺、二亞乙基三胺、三亞乙基四胺等胺系螯合劑等。作為笫二氧化膜去除液所使用的可溶化劑的濃度無特別限制，但相對于所使用的金屬鹽，可溶化劑的總濃度為0.5~10(摩爾比)，優(yōu)選為0.8~5(摩爾比)。作為包含于第二氧化膜去除液中的堿無特別限定，但必須是使氧化膜溶解的堿，例如可使用LiOH、NaOH、K0H等堿金屬的氫氧化物；氫氧化四曱銨(TMAH)、膽堿等季銨化合物等。另外，堿的添加量是將去除液的pH值設成規(guī)定范圍的量，即，是將pH值設為10~13.5、優(yōu)選設為1113的量。若pH值小于IO則溶解速度明顯降低，若pH值超過13.5則溶解速度過快而難以控制。從賦予水潤濕性的觀點來看，優(yōu)選笫一及第二氧化膜去除液中含有聚乙二醇及/或表面活性劑。作為所使用的表面活性劑無特別限定，例如可列舉出聚乙二醇型表面活性劑、聚氧乙烯/氧丙烯嵌段共聚合型表面活性劑之類的非離子型表面活性劑，此外還有陰離子型、陽離子型表面活性劑，從均勻處理性的觀點來看，其中優(yōu)選非離子型、陰離子型。它們可單獨使用一種也可以并用兩種以上。例如，在使用聚乙二醇的情況下，作為其分子量無特別限定，通常為100以上，優(yōu)選為200以上，作為上限通常為20，000以下，優(yōu)選為6，000以下。若分子量過大則有時溶解性差，相反，若分子量過小則有時不能賦予親水性。另外，作為聚乙二醇可使用市場銷售產品。另外，作為聚乙二醇及/或表面活性劑在去除液中的濃度無特別限制，其通常為lppm(mg/L)以上，優(yōu)選為10ppm(mg/L)以上，作為上限通常為5，000ppm(mg/L)以下，優(yōu)選為2，000ppm(mg/L)以下。若濃度過低則有時親水性效果低，相反，若濃度過高則有時將造成置換金屬析出在鋁或者鋁合金以外的材料上。另外，從操作的安全性的觀點來看，優(yōu)選將第一及第二氧化膜去除液作為水溶液進行調制，但還可以使用其它的溶劑，例如甲醇、乙醇、IPA等，也可以制成與水的混合溶劑。此外，這些溶劑可單獨使用一種，也可并用兩種以上。作為將具有鋁或者鋁合金的被處理體浸漬于鋁氧化膜去除液時的浸漬條件無特別限制，可根據(jù)要除去的鋁氧化膜的厚度等來酌情設定，其通常為10秒以上，優(yōu)選為20秒以上，更優(yōu)選為l分鐘以上，最優(yōu)選為2分鐘以上，作為上限通常為20分鐘以下，優(yōu)選為15分鐘以下。若浸漬時間過短，則置換不進展因而氧化膜的除去有時變得不充分，另一方面，若浸漬時間過長，則去除液從置換金屬的小孔侵入，可能造成鋁或者鋁合金溶出。另外，作為浸漬時的溫度也無特別限制，其通常為30。C以上，優(yōu)選為35"C以上，更優(yōu)選為60'C以上，作為上限通常為IO(TC以下，優(yōu)選為95C以下，更優(yōu)選為70。C以下。特別是在第一氧化膜去除液(酸性去除液)的情況下，特別優(yōu)選為60~95°C,另外，在第二氧化膜去除液(堿性去除液)的情況下，特別優(yōu)選為35~70'C。若浸漬溫度過低，則有時不能溶解氧化膜，另一方面，若浸漬溫度過高，則有可能腐蝕鋁或者鋁合金以外的材料。另外，從均勻地進行處理的觀點來看，優(yōu)選在浸漬時進行液體攪拌及被處理體的晃動。作為成為本發(fā)明對象的至少表面具有鋁或者鋁合金的被處理物，可以由鋁或者鋁合金形成被處理物的整體，也可以由鋁或者鋁合金覆蓋非鋁質材料(例如硅、FR4(印制電路板的基材))的表面的全部或者局部。另外，作為鋁或者鋁合金的形態(tài)并無特別限定，例如可良好地適用于半成品材料、軋制材料、鑄造材料、膜等。另外，在非鋁質材料表面形成鋁或者鋁合金膜的情況下，作為該膜的形成方法也無特別限定，而作為其形成方法優(yōu)選例如真空蒸鍍法、濺射法、離子鍍法等氣相鍍敷法。從使用本發(fā)明的表面處理方法時使鋁或者鋁合金基體可靠地保留的觀點來看，作為該膜的厚度通常為0.5Mm以上，優(yōu)選為liam以上。另外，該厚度的上限無特別限制，通常為100jam以下。特別是由于第二氧化膜去除液幾乎不侵蝕基體即鋁或者鋁合金，因而可以特別有效地用于1.Oum以下厚度的鋁或鋁合金基體，現(xiàn)有的處理液因造成處理后的基體變薄的問題而難以適用于這樣的厚度。再者，作為上述膜的成分，只要是鋁或者鋁合金就無特別限制，本發(fā)明的表面處理方法例如可適合應用于Al-Si(Si含有率為0.5~1.0質量％)、Al-Cu(Cu含有率為0.5~1.0質量％)等膜。(B)工序為在不除去在(A)工序形成的置換金屬層的情況下進行鋅置換處理，并形成置換鋅膜的工序。在將上述的被處理物浸漬在氧化膜去除液中之后，在鋁或者鋁合金表面形成鍍層的情況下，一般在形成鍍層之前將形成于被處理物表面上的金屬膜(來自于本發(fā)明的去除液中所包含的含有可與鋁進行置換的金屬的金屬的鹽或者氧化物的置換金屬層)除去。在本發(fā)明中，從提高鍍層的密合性的觀點來看，在不直接除去所形成的置換金屬層的情況下進行鋅置換處理，并在置換金屬層或者未形成置換金屬層的鋁或者鋁合金表面，優(yōu)選在兩者上都形成置換鋅膜。而且，在下述的(C)工序中將置換金屬層與置換鋅膜一起除去。作為鋅置換處理(鋅酸鹽處理)，可以是酸性鋅置換處理，也可以是堿性鋅置換處理，但更優(yōu)選堿性鋅置換處理。鋅置換處理具體而言是指使用含有鋅鹽的溶液來進行使鋅置換析出的處理。由于在堿性鋅置換處理的情況下，使用堿性的鋅酸溶液，另外，作為酸性鋅置換處理使用含有酸性的鋅鹽的溶液進行使鋅置換析出的處理，因此，這些都可使用公知的方法進行，例如可以使用上村工業(yè)林式會社制造的MCT-17等市場銷售的堿性鋅置換處理液、上村工業(yè)林式會社制造的MCS-30等市場銷售的酸性鋅置換處理液。另外，處理條件無特別限定，例如只要在1040。C下進行5~300秒時間的處理即可。另外，在鋅置換處理中，被鍍敷處理物既可靜止也可晃動，也可以進行攪拌。(C)工序是使用具有氧化作用的液體將在(A)工序形成的置換金屬層與在(B)工序形成的置換鋅膜一起除去的工序。如上所述，在(A)工序形成的置換金屬層可在形成置換鋅膜之后被除去。從使與基體即鋁或者鋁合金的反應性緩和的觀點來看，在使上述置換金屬層及置換鋅膜溶解時，可使用具有氧化作用的液體。具有該氧化作用的液體既可以是酸性液也可以是堿性液。作為具有氧化作用的酸性液，優(yōu)選使用在硝酸等具有氧化作用的酸或者其水溶液、硫酸、鹽酸等不具有氧化作用的酸或者其水溶液中，添加有氧化劑例如添加有過氧化氫、過疏酸鈉、過疏酸銨、過硫酸鉀等的一種或者兩種以上的酸性液。該情況下，酸具有使置換金屬層及置換鋅膜溶解的作用，氧化劑具有使對鋁或者鋁合金基體的反應性緩和的作用。另外，在氧化劑中由氫和氧構成，因在還原時變?yōu)樗倪@一優(yōu)點而優(yōu)選過氧化氫，另外，由于具有穩(wěn)定性且操作容易的優(yōu)點而優(yōu)選過疏酸鈉、過硫酸鉀。在作為酸(及氧化劑)而使用硝酸的情況下，作為溶解液(水溶液)中的硝酸量通常為200ml/L以上，優(yōu)選為300ml/L以上，作為上限通常為1,000ml/L以下，優(yōu)選為700ml/L以下。若硝酸量過少，則氧化能力低有時不能使反應終止。再有，所謂的硝酸為1，000m1/L是指全部都是硝酸。另外，作為使用氧化劑時的溶解液中的氧化劑量通常為50g/L以上，優(yōu)選為75g/L以上，作為上限通常為500g/L以下，優(yōu)選為300g/L以下。若氧化劑量過少則有時氧化能力低而不能使反應終止，另一方面，若過多，則有時經濟性差。另外，這樣與氧化劑一起使用的鹽酸、硫酸等酸的濃度通常為10g/L以上，優(yōu)選為l5g/L以上，作為上限通常為500g/L以下，優(yōu)選為300g/L以下。若酸的濃度過低，則發(fā)生置換金屬層難以溶解的情況，另一方面，若濃度過高，則有可能侵蝕鋁或者鋁合金之外的材料。另外，在此所使用的酸優(yōu)選為非氧化性的酸，但也可以是硝酸等具有氧化性的酸。再有，也可將氧化性的酸和非氧化性的酸混合使用。另一方面，作為具有氧化作用的堿性洗滌液可使用公知的堿性蝕刻劑。在這樣的溶解處理中，作為處理時間并無特別限制，例如可用5~300秒鐘進行溶解處理，作為溶解處理溫度，例如可采用10~40匸的條件。另外，在溶解處理中，既可以使被鍍敷處理物靜止也可以使被鍍敷處理物晃動，也可以進行液體攪拌。(D)工序是對在(C)工序中除去了置換鋅膜和置換金屬層后的鋁或者鋁合金表面再次進行鋅置換處理，并形成置換鋅膜的工序。在本發(fā)明中，從提高鍍層的密合性的觀點來看，必須在鋁或者鋁合金表面再次進行鋅置換處理并形成置換鋅膜。該(D)工序中的鋅置換處理可使用與(B)工序的鋅置換處理一樣的處理液，也可以將處理條件設成一樣。在該(D)工序中，使置換鋅膜形成在除去了在(A)工序中形成的置換金屬層和在(B)工序中形成的置換鋅膜之后的鋁或者鋁合金表面。這樣，通過形成置換鋅膜并將其與形成后的置換金屬層一起除去，再形成置換鋅膜，由此，在形成有處理過的置換鋅膜的鋁或者鋁合金上形成鍍層時，與現(xiàn)有技術相比，可在鋁或者鋁合金表面與鍍層之間得到更高的密合性。該理由尚不明確，另外，本發(fā)明并不限于以下的機理，但可以認為，在鋁或者鋁合金表面存在置換析出的金屬的狀態(tài)下，在直接使用(C)工序所使用的具有氧化作用的液體除去置換金屬層的情況下，由于使未被置換金屬覆蓋的露出面(鋁或者鋁合金)受到與置換金屬的電位差的影響而被強烈氧化，而在鋁或者鋁合金表面使氧化膜的厚度變成不均勻的分布。雖然氧化膜只要是薄的部分就可通過后面的鋅酸鹽處理除去，但由于厚的部分以在鋅酸鹽處理中未被除去的狀態(tài)而殘留有氧化膜(氧化物區(qū)域)，因而在該氧化膜上形成鍍層的情況下，將會使密合性變差。與此相對，在本發(fā)明的方法中，在將未被置換膜覆蓋的部分浸漬于具有氧化作用的液體之前將其直接浸漬于鋅酸鹽處理液中使其被置換鋅膜覆蓋，以使進行蝕刻變成活性的鋁金屬不致露出。此時，根據(jù)置換金屬的金屬種類，按照離子化傾向的關系使鋅也析出于置換金屬上，但此時若從表面觀察則成為表面整體被鋅置換即被鋅金屬覆蓋的狀態(tài)。之后，在(C)工序中，通過使用具有氧化作用的液體將置換金屬層與置換鋅膜一起除去，可以在鋁或者鋁合金的露出面不直接受到與置換金屬層的電位差的影響的情況下溶解除去置換金屬，因此，可形成均勻的薄氧化膜。由于該薄的氧化膜在(D)工序的鋅酸鹽處理中被除去，因而在其上形成鍍層的情況下，可使密合性變得更為優(yōu)良。本發(fā)明中，在(D)工序后也可以重復下述處理，除去所形成的置換12鋅膜、再次形成置換鋅膜的處理。即，本發(fā)明的鋁或者鋁合金的表面處理方法根據(jù)需要在(D)工序之后還可以具備(E)利用具有氧化作用的液體除去上述置換鋅膜的工序；及(F)再次進行鋅置換處理從而形成置換鋅膜的工序。(E)工序及(F)工序的處理可按順序各實施一次或者交替重復實施各兩次以上。該情況下，(E)工序中的處理可使用與(C)工序的具有氧化作用的液體同樣的液體，處理條件也可設為同樣。在該(E)工序中，可除去在(D)工序或者前面循環(huán)的(F)工序中形成的置換鋅膜。另外，在(F)工序中的鋅置換處理可使用與(B)工序的鋅置換處理同樣的處理液，也可將處理條件設為同樣。在該(F)工序中，將置換鋅膜形成在通過(E)工序除去在(D)工序或者前面循環(huán)的(F)工序(F)中形成的置換鋅膜之后的鋁或者鋁合金表面。在本發(fā)明中，在上述(D)工序或者(F)工序之后，通過在置換鋅膜上形成鍍層，與現(xiàn)有技術相比，可在鋁或者鋁合金表面和鍍層之間得到更高的密合性。作為形成鍍層的鍍敷處理的方法并無特別限定，可以是電鍍法，也可以是無電解鍍敷法。由于無電解鍍敷法相對于電鍍法能量低，為了沒有缺陷地形成鍍層，預處理特別重要，但根據(jù)本發(fā)明，由于鋁氧化膜等雜質被徹底除去，因而即使使用無電解鍍敷法也可密合良好地形成鍍層。另外，在采用電鍍法時必須有配線，因而有時裝置的組裝耗費時間，或是不能提高鍍敷密度或是產生噪音且難以形成均勻的鍍層，但這些問題可通過使用無電解鍍敷法得以解決。另外，鍍敷金屬的種類可根據(jù)其用途酌情選擇，通常可列舉Cu、Ni、Au等，也可以將它們做成兩層以上的層。鍍敷浴及鍍敷條件可采用公知的條件。實施例下面表示實施例及比較例，對本發(fā)明進行更具體的說明，但本發(fā)13明不限于下述的實施例。實施例1~3、比較例1~3作為被鍍敷處理物，將利用濺射法覆蓋了5jum厚度的鋁層的硅片在70n下浸漬于按照表1所示的配比調制的去除液中IO分鐘。另外，去除液的pH值都為1以下。其后，根據(jù)表2所示的鋅酸鹽處理(二次)進行鋅酸鹽處理以及置換金屬層及置換鋅膜的除去處理。進一步，利用無電解鍍敷法實施1.OjLim厚度的鍍鎳。對得到的鍍敷物進行了密合性的評價。作為樣品分別切出25片并利用m-ELT法(參照Modified-EdgeLiftoffTest:"3《》-夕義"Vol.13，p.6-8林式會社34^3科研，OCT,2004,及"密合性評價m-ELT法"，東芝大/7六卩、》乂林式會社技術資料)進行了測定。并將結果一并記入表l。都在Ni/Al間發(fā)生了剝離。密合度的數(shù)值表示平均值。<table>tableseeoriginaldocumentpage14</column></row><table>*1:500ml/L硝酸水溶液*2:上村工業(yè)林式會社制造MCT-17*3:上村工業(yè)林式會社制造NPR-18實施例4~6、比較例4~6作為被鍍敷處理物，將利用濺射法覆蓋了5jam厚度的Al-Si(Si含量為0.5質量％)層的硅片在70t:下浸漬于按照表3所示的配比調制的去除液中10分鐘。另外，去除液的pH值都為1以下。其后，根據(jù)表4所示的鋅酸鹽處理(三次)進行了鋅酸鹽處理以及置換金屬層及置換鋅膜的除去處理。進一步，利用無電解鍍敷法實施了l.Ojum厚度的對得到的鍍敷物進行了密合性的評價。作為樣品分別切出25片并利用m-ELT法進行了測定。將結果一并記入表3。都在Ni/Al間發(fā)生了剝離。密合度的數(shù)值表示平均值。表3<table>tableseeoriginaldocumentpage15</column></row><table>PEG:聚乙二醇表4<table>tableseeoriginaldocumentpage15</column></row><table>*1:50Qnd/L硝酸水溶液*2:上村工業(yè)林式會社制造MCT-17*3:上村工業(yè)林式會社制造NPR-18實施例7~9、比較例7~9作為被鍍敷處理物，將利用濺射法覆蓋了5ym厚度的鋁層的硅片在50*€下浸漬于按照表5所示的配比調制的去除液中60秒鐘。另外，將去除液的pH值都設為12.4。其后，根據(jù)表2所示的鋅酸鹽處理(二次)進行了鋅酸鹽處理以及置換金屬層及置換鋅膜的除去處理。進一步，利用無電解鍍敷法實施了l.Ojam厚度的鍍鎳。對得到的鍍敷物進行密合性的評價。作為樣品分別切出25片并利用m-ELT法進行了測定。將結果一并記入表5。都在Ni/Al間發(fā)生了剝離。密合度的數(shù)值表示平均值。表5<table>tableseeoriginaldocumentpage16</column></row><table>實施例10~12、比較例10~12作為被鍍敷處理物，將利用濺射法覆蓋了5jam厚度的Al-Si(Si含量為0.5質量。/。)層的硅片在5(TC下浸漬于按照表6所示的配比調制的去除液中60秒鐘。另外，將去除液的pH值都設為12.4。其后，根據(jù)表4所示的鋅酸鹽處理(三次)進行了鋅酸鹽處理以及置換金屬層及置換鋅膜的除去處理。進一步，利用無電解鍍敷法實施了l.O)am厚度的鍍鎳。對得到的鍍敷物進行密合性的評價。作為樣品分別切出25片并利用m-ELT法進行了測定。將結果一并記入表6。都在Ni/Al間發(fā)生了剝離。密合度的數(shù)值表示平均值。表6<table>tableseeoriginaldocumentpage17</column></row><table>權利要求1、鋁或者鋁合金的表面處理方法，其特征在于，包含(A)將至少表面具有鋁或者鋁合金的被處理物浸漬于含有可與鋁置換的金屬的鹽或者氧化物的酸性或者堿性的鋁氧化膜去除液中，在鋁或者鋁合金表面除去鋁氧化膜的同時，形成可與包含于所述去除液中的鋁置換的金屬的置換金屬層的工序；(B)在不除去所述置換金屬層的情況下進行鋅置換處理，形成置換鋅膜的工序；(C)利用具有氧化作用的液體將所述置換金屬層與所述置換鋅膜一起除去的工序；及(D)再次進行鋅置換處理，形成置換鋅膜的工序。2、權利要求1所述的表面處理方法，其特征在于，在所述(D)工序后，在所述置換鋅膜上形成鍍層。3、權利要求1所述的表面處理方法，其特征在于，在所述(D)工序后還具備(E)利用具有氧化作用的液體除去所述置換鋅膜的工序；及(F)進一步進行鋅置換處理，形成置換鋅膜的工序，(E)工序及(F)工序的處理按順序各實施一次或者交替重復實施各兩次以上。4、如權利要求3所述的表面處理方法，其特征在于，在所述(F)工序之后，在所述置換鋅膜之上形成鍍層。全文摘要本發(fā)明提供一種鋁或者鋁合金的表面處理方法，其利用具備下述工序的方法進行表面處理將至少表面具有鋁或者鋁合金的被處理物浸漬在含有可與鋁置換的金屬的鹽或者氧化物的酸性或者堿性的鋁氧化膜去除液中，在鋁或者鋁合金表面除去鋁氧化膜的同時，形成可與包含于去除液中的鋁置換的金屬的置換金屬層的工序；在不除去置換金屬層的情況下進行鋅置換處理，形成置換鋅膜的工序；利用具有氧化作用的液體將置換金屬層與置換鋅膜一起除去的工序；及再次進行鋅置換處理，形成置換鋅膜的工序，通過在形成有置換鋅膜的鋁或者鋁合金上形成鍍層，在鋁或者鋁合金表面與鍍層之間得到高的密合性。文檔編號C25D5/44GK101654798SQ20091016349公開日2010年2月24日申請日期2009年8月21日優(yōu)先權日2008年8月21日發(fā)明者內田廣記,吉川一紀,柴田利明申請人:上村工業(yè)株式會社