專利名稱：用于浸鍍的電鍍裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種電鍍裝置，尤其涉及一種用于浸鍍的電鍍 裝置。
背景技術(shù)：
常見的用于浸鍍的電鍍裝置包括一用于盛放電鍍液的電鍍槽。 該電鍍槽具有一底壁及連接在底壁周緣的兩相對的第一側(cè)壁和兩 相對的第二側(cè)壁，從而底壁、第一側(cè)壁和第二側(cè)壁圍成一電鍍空間， 且所述第一側(cè)壁上皆設(shè)置有一幵槽。所述電鍍裝置在進(jìn)行電鍍作業(yè) 時，待鍍金屬件在傳動裝置的帶動下從一第一側(cè)壁的開槽迸入電鍍 空間而使得待鍍金屬件完全浸沒在電鍍液中，在待鍍金屬件電鍍完 成后，傳動裝置帶動電鍍后的金屬件從另一第一側(cè)壁的開槽離開電 鍍空間。
然而，由于現(xiàn)有的電鍍裝置在對待鍍金屬件進(jìn)行浸鍍時，待鍍 金屬件表面的電鍍液可自由流動，從而待鍍金屬件不需電鍍的區(qū)域 和需要電鍍的區(qū)域的電鍍層的厚度相同，因而浪費(fèi)了電鍍材料。

實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是針對上述現(xiàn)有技術(shù)的不足而提供一種能 夠節(jié)省電鍍材料的電鍍裝置。
為達(dá)成上述目的，本實(shí)用新型電鍍裝置，包括一電鍍槽及一遮 蔽體。電鍍槽具有一底壁和垂直連接底壁的側(cè)壁，底壁和側(cè)壁圍成 一電鍍空間。遮蔽體置于電鍍空間內(nèi)并裝設(shè)于側(cè)壁上，且所述遮蔽 體上至少開設(shè)有一開口。
如上所述，本實(shí)用新型電鍍裝置由于在電鍍槽內(nèi)固定有遮蔽 體，在電鍍作業(yè)時，遮蔽體遮蔽待鍍金屬件，從而電鍍液在待鍍金
屬件表面的對應(yīng)遮蔽體的開口的區(qū)域處可自由流動，而在遮蔽體遮 蔽待鍍金屬件的區(qū)域處則不能自由流動，從而可使被遮蔽體遮蔽的 待鍍金屬件的區(qū)域處的金屬鍍膜的厚度小，進(jìn)而節(jié)省電鍍材料。


圖1為本實(shí)用新型電鍍裝置的立體組合圖。
圖2為圖1所示電鍍裝置于電鍍作業(yè)的示意圖。 圖3為遮蔽體遮蔽待鍍金屬件的示意圖。 圖中各組件的附圖標(biāo)記說明如下
電鍍槽1底壁10
第一側(cè)壁11開槽111
第二側(cè)壁12金屬體13
遮蔽體2開口21
縫隙22待鍍金屬件3
待鍍部3具體實(shí)施方式
為詳細(xì)說明本實(shí)用新型的技術(shù)內(nèi)容、構(gòu)造特征、所實(shí)現(xiàn)目的及 效果，以下結(jié)合實(shí)施方式并配合附圖詳予說明。
請參閱圖1，本實(shí)用新型電鍍裝置包括一電鍍槽1及兩遮蔽體2。
電鍍槽1大致呈一面開口的長方殼體狀，其具有一大致呈方板 狀的底壁10、垂直連接在底壁IO左右兩側(cè)緣的第一側(cè)壁11及垂直 連接在底壁10前后兩端緣的第二側(cè)壁12，底壁10、第一側(cè)壁11 及第二側(cè)壁12圍成一電鍍空間，用于盛放電鍍液。所述第一側(cè)壁 11上均開設(shè)有一開槽111。所述第二側(cè)壁12的內(nèi)側(cè)上分別固定有 一長條狀的金屬體13，所述金屬體13在電鍍作業(yè)過程中作為電鍍 的陽極。
兩遮蔽體2呈長條板狀，它由不透水的絕緣材料制成。所述遮 蔽體2的中部至少開設(shè)有一個開口 21。兩遮蔽體2相互平行設(shè)置， 且所述兩遮蔽體2的兩端分別置于相應(yīng)第一側(cè)壁11的開槽111內(nèi)
并裝設(shè)在第一側(cè)壁11上，從而兩遮蔽體2之間形成一縫隙22。通 過調(diào)節(jié)所述平行設(shè)置的兩遮蔽體2以調(diào)節(jié)縫隙22的大小，而使縫 隙22與待鍍金屬件3的厚度相適應(yīng)。
請參閱圖2與圖3，當(dāng)進(jìn)行電鍍作業(yè)時，待鍍金屬件3在傳動 裝置(圖中未示)的帶動下從電鍍槽1的一第一側(cè)壁11的開槽111進(jìn) 入兩遮蔽體2之間的縫隙22，然后從另一第一側(cè)壁11的開槽111 穿出。由遮蔽體2的開口 21露出待鍍金屬件3的待鍍部31，電鍍 液在待鍍部31的表面可自由流動，因此能在待鍍部31上鍍上所要 求厚度的金屬鍍膜。
并且由于遮蔽體2與待鍍金屬件3的待鍍部31以外區(qū)域之間 的距離很小，電鍍液在待鍍部31以外區(qū)域的表面不能自由流動， 從而鍍在待鍍部31以外區(qū)域的金屬鍍膜的厚度很小，從而可減小 待鍍部31以外區(qū)域的金屬鍍膜的厚度，進(jìn)而節(jié)省電鍍材料。
權(quán)利要求1.一種用于浸鍍的電鍍裝置，包括一電鍍槽，所述電鍍槽具有一底壁和垂直連接底壁的側(cè)壁，底壁和側(cè)壁圍成一電鍍空間，其特征是所述電鍍裝置還包括一遮蔽體，所述遮蔽體置于電鍍空間內(nèi)并裝設(shè)于側(cè)壁上，且遮蔽體上至少開設(shè)有一開口。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍裝置，其特征是所述遮蔽體有 兩個，兩遮蔽體相互平行設(shè)置。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的電鍍裝置，其特征是所述側(cè)壁包括 兩相對的第一側(cè)壁，所述兩第一側(cè)壁上皆開設(shè)有開槽，所述兩遮蔽 體的兩端分別置于相應(yīng)第一側(cè)壁的開槽內(nèi)并裝設(shè)在第一側(cè)壁上。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種電鍍裝置，其包括一電鍍槽和一遮蔽體。電鍍槽具有一底壁及垂直連接底壁的側(cè)壁，底壁和側(cè)壁圍成一電鍍空間。遮蔽體置于電鍍空間內(nèi)并裝設(shè)在側(cè)壁上，且所述遮蔽體上至少開設(shè)有一開口。本實(shí)用新型電鍍裝置因由遮蔽體遮蔽待鍍金屬件，從而電鍍液在待鍍金屬件的對應(yīng)遮蔽體的開口的區(qū)域處可自由流動，而在遮蔽體遮蔽待鍍金屬件的區(qū)域處則不能自由流動，從而可使被遮蔽體遮蔽的待鍍金屬件的區(qū)域處的金屬鍍膜的厚度小，從而節(jié)省電鍍材料。
文檔編號C25D5/00GK201193251SQ20082004631
公開日2009年2月11日 申請日期2008年4月10日 優(yōu)先權(quán)日2008年4月10日
發(fā)明者徐國華, 李洪建, 鄭寧朗 申請人:富港電子(東莞)有限公司;正崴精密工業(yè)股份有限公司