專利名稱：：電解處理裝置及方法、平版印刷版支撐件、平版印刷版的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及電解處理裝置、平版印刷版支撐件、平版印刷版、和電解處理方法。
背景技術(shù)：
：本發(fā)明涉及電解處理裝置和電解處理方法，尤其是涉及能顯著抑制金屬條表面上產(chǎn)生振痕的電解處理裝置和電解處理方法，即使當(dāng)電解處理在高電流密度和高輸送速度下在金屬板上連續(xù)進(jìn)行時(shí)。平版印刷原版(即，平版印刷版的原版)通常通過這樣的方法制造，其中包括粗糙化純鋁或鋁合金(以下稱為"鋁等")的版表面；然后進(jìn)行陽極化處理，以便在粗糙表面上形成陽極化薄膜，從而可提供用于平版印刷版的支撐件；并且在上面已經(jīng)形成陽極化薄膜的平版印刷版支撐件的表面上形成光敏或熱敏的制版層。因此，文本的印刷圖像、和圖片等印入平版印刷版的制版層并且進(jìn)行顯影，這樣生產(chǎn)出平版印刷版。鋁板可通過以下方式進(jìn)行表面粗糙化用以尼龍等為特征的纖維毛刷輥、和含砂布形成表面的研磨輥等進(jìn)行的機(jī)械表面粗糙處理；鋁板表面在堿浴中進(jìn)行化學(xué)粗糙化的蝕刻處理；以鋁板為電極進(jìn)行電解表面粗糙化的電解表面粗糙處理；等等(參見日本的專利申請(qǐng)公開(JP-A)號(hào)60-067700和1-230800)?，F(xiàn)在，通常通過在酸性電解質(zhì)溶液中對(duì)鋁板施加諸如正弦電流、方波電流、梯形波電流等交流電，進(jìn)行電解表面粗糙化。這樣，正電壓和負(fù)電壓在電解槽的入口交變施加在鋁板上。施加正電壓時(shí)鋁板上產(chǎn)生陰極反應(yīng)，施加負(fù)電壓時(shí)產(chǎn)生陽極反應(yīng)。在陰極反應(yīng)期間形成主要成份為氫氧化鋁的氧化物膜，在陽極反應(yīng)期間氧化物膜被電解，形成稱為凹點(diǎn)的蜂窩狀小孔。因此，在電解槽入口施加正電壓時(shí)，首先在通過電解槽的鋁板上產(chǎn)生陰極反應(yīng)，施加負(fù)電壓時(shí)，首先產(chǎn)生陽極反應(yīng)。結(jié)果是，鋁板的表面狀況根據(jù)施加在電解槽入口的電壓極性而變化，會(huì)產(chǎn)生沿鋁板寬度方向延伸的條紋形式的表面質(zhì)量缺陷，也即振痕。特別是，在高電流密度、高輸送速度下實(shí)施電解粗糙處理時(shí)產(chǎn)生振痕尤其明顯。作為抑制產(chǎn)生振痕的方法，舉例來說，已提出以下方法電解處理方法，其中在電解槽的入口孔隙區(qū)域提供實(shí)行低電流密度處理的弱區(qū)域(參見日本的專利申請(qǐng)公開號(hào)(JP-A)No.60-067700);電解處理方法，其中在電解槽各電極的前端和后端提供低電流密度區(qū)域，而電極的其余區(qū)域?yàn)楹汶娏髅芏葏^(qū)域(參見日本專利申請(qǐng)公開號(hào)(JP-A)No.l-230800);以及電解處理裝置，其中電解處理裝置在電解槽的入口孔隙區(qū)域裝備有弱啟動(dòng)區(qū)域，并且弱啟動(dòng)區(qū)域的長度確定為能滿足與該弱啟動(dòng)區(qū)域電流密度、區(qū)段長度和金屬條輸送速度的特定關(guān)系(參見JP-ANo.2003-003299)。此外，還提出了具有多個(gè)串聯(lián)排列電解槽的電解處理裝置，其中電流密度設(shè)置為使最低的電流密度作用在最遠(yuǎn)的下游電解槽上(參見JP-ANo.2003-171800)。然而，即使使用上述電解處理裝置，在高輸送速度和高電流密度下實(shí)行電解表面粗糙處理時(shí)也難以完全抑制振痕的產(chǎn)生。發(fā)明概述完成本發(fā)明是為了解決上述問題，解決此問題的第一方面涉及能對(duì)沿預(yù)定方向行進(jìn)的金屬條進(jìn)行電解處理的電解處理裝置，此電解處理裝置包括在酸性電解質(zhì)溶液中用交流電連續(xù)進(jìn)行電解處理的多個(gè)電解槽，所述電解槽沿所述金屬條的行進(jìn)方向布置成列，并且在所述多個(gè)電解槽中交流電的電流密度被設(shè)置成使布置在相對(duì)于所述金屬條行進(jìn)方向下游最遠(yuǎn)處的電解槽中的電流密度為最低；在每個(gè)電解槽中，一個(gè)或多個(gè)電極被布置成面向所述金屬條的行進(jìn)路徑，交流電施加到電極上，并在送入金屬條的每個(gè)電極入口區(qū)域配備弱起動(dòng)部分；并且在除了布置在下游最遠(yuǎn)處的電解槽以外的電解槽中，在送出金屬條的出口區(qū)域配備低電流密度區(qū)。圖1為顯示了涉及第一實(shí)施方案電解處理裝置的結(jié)構(gòu)的示意圖。圖2為顯示了涉及第二實(shí)施方案電解處理裝置的結(jié)構(gòu)的示意圖。圖3為顯示了涉及第三實(shí)施方案電解處理裝置的結(jié)構(gòu)的示意圖。圖4為顯示了用于實(shí)施例1~5、對(duì)比例l和比較例1~4的電解處理裝置結(jié)構(gòu)的示意圖。具體實(shí)施方式l.第一實(shí)施方案以下描述電解表面粗糙處理裝置的一個(gè)實(shí)例，所述處理裝置對(duì)鋁條執(zhí)行電解表面粗糙處理以形成用于平版印刷版的支撐件，這也是本發(fā)明電解處理裝置的一個(gè)實(shí)例。如圖l所示，涉及第一實(shí)施方案的電解表面粗糙處理裝置ioo配備有布置在相對(duì)鋁條W輸送方向t上游側(cè)的電解槽2A和布置在相對(duì)輸送方向t的電解槽2A下游側(cè)的電解槽2B。電解槽2A和2B每個(gè)配備有電解槽主體4和進(jìn)料輥6。進(jìn)料輥6在電解槽主體4中以水平方向排列，以圖1的順時(shí)針方向繞其軸轉(zhuǎn)動(dòng)，沿輸送方向t輸送鋁條W。電解槽主體4的內(nèi)壁面形成為基本上圓筒的形狀，在內(nèi)壁表面上配備半圓筒形電極8A和8B，從而圍住進(jìn)料輥6.電極8A和8B為分體式電極，沿圓周方向分別分割成多個(gè)小電極82A和82B。絕緣層84A和84B分別插入在小電極82A和82B之間。小電極82A和82B，舉例來說，可以使用石墨、金屬等形成，絕緣層84A和84B，舉例來說，可以由氯乙烯樹脂等形成。絕緣層84A和84B的厚度優(yōu)選為110mm。在電極8A和8B兩者中，小電極82A和82B分別連接到交流電源AC。小電極82A和82B及絕緣層84A和84B都通過絕緣電極保持架86保持從而形成電極8A和8B。交流電源AC將交流電施加到電極8A和8B。交流電源AC可以是正弦波產(chǎn)生電路，該電路可使用電感電壓調(diào)整器和變壓器調(diào)節(jié)商業(yè)交流電的電壓和電流產(chǎn)生正弦波；也可以是晶閘管電路，該電路可從通過諸如商業(yè)交流電整流方法得到的直流電產(chǎn)生梯形波電流或方波電流；或者是其它電路等。在每個(gè)電解槽2A和2B的上部形成了用于輸入和輸出鋁條W的孔隙部分20。在電極8B的下游側(cè)一端附近的孔隙部分20處配備了酸性電解質(zhì)溶液補(bǔ)充通道10，該通道補(bǔ)充電解槽主體4中的酸性電解質(zhì)溶液。硝酸、硫酸、鹽酸、磷酸和磺酸為可以混合到酸性電解質(zhì)溶液中的酸性電解質(zhì)實(shí)例。只有一種酸性電解質(zhì)或兩種或更多種酸性電解質(zhì)可以混合。除了酸性電解質(zhì)，酸性電解質(zhì)溶液中也可以混合鋁離子等。一組上游側(cè)導(dǎo)向輥12和下游側(cè)導(dǎo)向輥14布置在電解槽2A或2B的上方、孔隙部分20的附近。上游側(cè)導(dǎo)向輥12將鋁條W導(dǎo)入到電解槽2A或2B中。下游側(cè)導(dǎo)向輥14將已經(jīng)在電解槽2A或2B中經(jīng)過電解表面粗糙處理的鋁條W導(dǎo)出到其外面。在電解槽2A和2B的每一個(gè)處，在電解槽主體4的上游側(cè)附近配備有輔助電解槽16。輔助電解槽16比電解槽主體4淺，并形成表面水平的底面16A。板狀輔助電極18布置在底面16A的上面。輔助電極18優(yōu)選由諸如鉑等高度耐蝕的金屬、或鐵氧體等形成，可以為棒狀。輔助電極18在電極8B連接的一側(cè)連接到交流電源AC，與電極8B并聯(lián)。在輔助電極18和交流電源AC之間連接二極管22使得電流從交流電源AC朝輔助電極18方向流動(dòng)。在電解槽2A和2B的每一個(gè)處，在電極8A和8B的上游側(cè)端部分別配備了弱起動(dòng)部分88A和88B。弱起動(dòng)部分88A和88B，分別地，包括漸近部分88A2和88B2，以及位于漸近部分下游側(cè)的含電感部分(inductanceinclusionportions)88A4和88B4。漸近部分88A2和88B2為沿輸送方向t漸近于進(jìn)料輥6表面的部分。含電感部分88A4和88B4為小電極82A或82B與交流電源AC之間含電感線圈24的部分。在上游側(cè)電解槽2A中形成位于輸送方向t下游側(cè)(即，位于鋁條W的輸出側(cè))的低電流密度區(qū)87A。在低電流密度區(qū)87A，電極8A的小電極82A與交流電源AC之間含有電感線圈25。低電流密度區(qū)87A優(yōu)選形成為能使鋁條W在此的處理持續(xù)時(shí)間為鋁條W在電解槽2A中的總處理持續(xù)時(shí)間的至少6%。作用在電解槽2A中電極8A和8B上的交流電電流密度高于作用在電解槽2B中電極8A和8B上的交流電電流密度，前者優(yōu)選是后者的L22倍。電解槽2A和2B中的電流密度定義為平均電流密度，包括弱起動(dòng)部分88A和88B及低電流密度區(qū)87A。作用于電解槽2B中電極8A和8B的交流電電流密度優(yōu)選為15~30A/dm2。電感線圈25的感應(yīng)系數(shù)規(guī)定為能使低電流密度區(qū)87A的電流密度d(A/dm"與其它區(qū)域的電流密度D(A/dm"的比例d/D為0.75或更小，優(yōu)選0.3-0.75。應(yīng)當(dāng)注意，電阻可代替電感線圈24和25用于弱起動(dòng)部分88A和88B及低電流密度區(qū)87A處，否則，弱起動(dòng)部分88A和88B及低電流密度區(qū)87A要連接到與電極8A和8B其余部分所連接的電源不同的電源。以下描述圖1所示的電解表面粗糙處理裝置100的作用。鋁條W從圖1的右側(cè)導(dǎo)入電解槽2A，首先導(dǎo)入到輔助電解槽16并經(jīng)過陽極反應(yīng)。然后，鋁條W通過上游側(cè)導(dǎo)向輥12導(dǎo)入到電解槽主體4。鋁條W在電解槽主體4中通過進(jìn)料輥6沿輸送方向t輸送，首先通過弱起動(dòng)部分88B。在上游側(cè)端部，也即弱起動(dòng)部分88B的起點(diǎn)，電流密度比作用于電解槽2A的交流電電流密度MCA小得多。隨著鋁條W移動(dòng)到下游側(cè)，電流密度增加，并等于下游側(cè)端部的，也即弱起動(dòng)部分88B末端的電流密度MCA。鋁條W通過弱起動(dòng)部分88B后，鋁條W沿電解槽主體4的電極8B輸送，鋁條W與電極8B相對(duì)的一側(cè)表面利用從交流電源AC作用于電極8B的交流電，經(jīng)受陽極和陰極反應(yīng)。已通過電極8B的鋁條W然后通過電解槽主體4中形成的弱起動(dòng)部分88A。在弱起動(dòng)部分88A，類似地，起點(diǎn)電流密度比電流密度MCa小得多，隨著鋁條W移動(dòng)到下游側(cè)，電流密度增加，并等于末端的電流密度mca。鋁條W通過弱起動(dòng)部分88A后，類似地，鋁條W沿電極8A輸送，與電極8A相對(duì)的一側(cè)表面利用從交流電源AC作用于電極8A的交流電，經(jīng)受陽極和陰極反應(yīng)，并在整個(gè)表面形成蜂窩狀凹點(diǎn)。最后，鋁條通過低電流密度區(qū)87A。已在電解槽主體4經(jīng)過電解表面粗糙處理的鋁條W，通過低電流密度區(qū)87A后，通過下游側(cè)導(dǎo)向輥14送出電解槽2A。已經(jīng)從電解槽2A送出的鋁條W然后導(dǎo)入到電解槽2B。已經(jīng)導(dǎo)入到電解槽2B的鋁條W首先導(dǎo)入到輔助電解槽16，并經(jīng)過陽極反應(yīng)。鋁條W然后通過上游側(cè)導(dǎo)向輥12導(dǎo)入到電解槽主體4。在電解槽2B處配備的電解槽主體4中，電流密度在弱起動(dòng)部分88A和88B的起點(diǎn)處也小于電解槽2B的電流密度mcb，并在弱起動(dòng)部分88A和88B的末端處等于電流密度MCB。因此，在弱起動(dòng)部分88A和88B的下游側(cè)以電流密度MCB進(jìn)行電解表面粗糙處理。在此，電解槽2B的電流密度mcb小于電解槽2A的電流密度MCa，具體地為MCA/1.2~MCA/2。已通過電解槽2B的電解槽主體4的鋁條W，通過下游側(cè)導(dǎo)向輥14送出電解槽主體4。那么，作用于電解槽2A和2B的交流電可以為梯形波電流，或者，為正弦波電流或方波電流。此外，還包括直流電中疊加了梯形電流、正弦波電流或方波電流的電流。在涉及第一實(shí)施方案的電解表面粗糙處理裝置100中，以布置在下游側(cè)最遠(yuǎn)處的電解槽2B中的電流密度為上游側(cè)電解槽2A中電流密度的1/1.2-1/2，實(shí)施電解表面粗糙處理。因此，詞語"本發(fā)明要解決的問題"所述的表面質(zhì)量缺陷尤其不容易產(chǎn)生。此外，在電解槽2A的電解槽主體4中配備了弱起動(dòng)部分88A和88B及低電流密度區(qū)域87A。因此，在電解槽2A和2B兩者中，初始時(shí)低電流密度的電流作用于鋁條W。此外，因?yàn)榈碗娏髅芏葏^(qū)域87A形成于電解槽2A的出口，振痕不會(huì)產(chǎn)生，即使在以大電流密度進(jìn)行表面粗糙化的實(shí)例中鋁條W的輸送速度高的時(shí)候，在鋁條W的整個(gè)粗糙表面上會(huì)形成均勻的蜂窩狀凹點(diǎn)。2.第二實(shí)施方案以下描述電解表面粗糙處理裝置的另一實(shí)例，該實(shí)例包括在本發(fā)明的電解處理裝置中。如圖2所示，低電流密度區(qū)87A形成在涉及第二實(shí)施方案的電解表面粗糙處理裝置102上游側(cè)的電解槽2A中。低電流密度區(qū)87A布置在沿輸送方向t的下游側(cè)，也即鋁條W的輸出側(cè)，感應(yīng)線圈25包含在電極8A出料側(cè)的小電極82A和交流電源AC之間。類似地，電極8B布置在相對(duì)輸送方向t的上游側(cè)，也即鋁條W的輸入側(cè)，在該電極的出料側(cè)，感應(yīng)線圈25包含在小電極82B和交流電源AC之間，形成低電流密度區(qū)87B。此外，與低電流密度區(qū)87A—樣，低電流密度區(qū)87B優(yōu)選形成為能使鋁條W在此的處理持續(xù)時(shí)間為鋁條W在電解槽2A中的總處理持續(xù)時(shí)間的6%或更多。除了這幾點(diǎn)，電解表面粗糙處理裝置102具有與涉及第一實(shí)施方案的電解表面粗糙處理裝置相同的結(jié)構(gòu)。在電解表面粗糙處理裝置102中，電解槽2A和2B的電流密度定義為電解槽中的平均電流密度，包括弱起動(dòng)部分88A和88B及低電流密度區(qū)87A和87B。3.第三實(shí)施方案以下描述電解表面粗糙處理裝置的又一個(gè)實(shí)例，該實(shí)例包括在本發(fā)明的電解處理裝置中。如圖3所示，在位于涉及第三實(shí)施方案的表面粗糙處理裝置104上游側(cè)的電解槽2A中，感應(yīng)線圈25插入在電極8A出料側(cè)的每個(gè)小電極82A與交流電源AC之間，以形成低電流密度區(qū)87A,其中電極8A位于相對(duì)輸送方向t的下游側(cè)，即送出鋁板W的輸出側(cè)。類似地，感應(yīng)線圈25插入在位于電極8B輸出側(cè)的每個(gè)小電極82B和交流電源AC之間，形成低電流密度區(qū)87B，其中電極8B位于上游側(cè)或輸入鋁板W的一側(cè)。與低電流密度區(qū)87A—樣，低電流密度區(qū)87B優(yōu)選形成為能使鋁板W在低電流密度區(qū)87B的處理持續(xù)時(shí)間為鋁板W在電解槽2A中的總處理持續(xù)時(shí)間的6%或更長。此外，在位于電極8B出料側(cè)的小電極82B和交流電源AC之間插入感應(yīng)線圈25，在電解槽2B以及電解槽2A的下游側(cè)形成低電流密度區(qū)87B，其中電極8B布置在相對(duì)輸送方向t的上游側(cè)，也即引入鋁板W的入口側(cè)。在電解槽2B中，低電流密度區(qū)87B也優(yōu)選形成為能使鋁條W在此的處理持續(xù)時(shí)間為鋁條W在電解槽2B中的總處理持續(xù)時(shí)間的至少6%。除了這幾點(diǎn)，電解表面粗糙處理裝置104具有與涉及第一實(shí)施方案的電解表面粗糙處理裝置相同的結(jié)構(gòu)。實(shí)施例-實(shí)施例1~5、對(duì)比例1和比較例1~4-用圖4所示的電解表面粗糙處理裝置106對(duì)寬1000mm、厚0.24mm的鋁條進(jìn)行電解表面粗糙處理。電解槽2A和2B之間的電流密度比MCA/MCB設(shè)置為1.3。電解槽2A中電極8B的進(jìn)口側(cè)端部和出口側(cè)端部分別定義為區(qū)域A和a，電極8A的進(jìn)口側(cè)端部和出口側(cè)端部分別定義為區(qū)域B和b。此外，電解槽2B中電極8B的進(jìn)口側(cè)端部和出口側(cè)端部分別定義為區(qū)域C和c,電極8A的進(jìn)口側(cè)端部和出口側(cè)端部分別定義為區(qū)域D和d。如圖4和表I所示，在實(shí)施例15、對(duì)比例1和比較例14的每一個(gè)中，在區(qū)域A、B、C和D中形成弱起動(dòng)部分88A和88B。另一方面，區(qū)域a、b、c和d中是否形成低電流密度區(qū)如表I所示。對(duì)于用電解表面粗糙處理裝置106進(jìn)行過電解質(zhì)表面粗糙化的鋁條質(zhì)量，目視觀察是否存在白色陰影變化、振痕和條紋，評(píng)價(jià)成四個(gè)等級(jí)優(yōu)等、良好、不可接受和差。結(jié)果在表I中表示出。表I<table>tableseeoriginaldocumentpage13</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage14</column></row><table>如表I所示，在實(shí)施例15和對(duì)比例1中，至少在區(qū)域b配備低電流密度區(qū)，該區(qū)位于布置在上游側(cè)的電解槽2A的電極8A的出口側(cè)在經(jīng)過電解表面粗糙處理的鋁條W的電解質(zhì)粗糙面上很少觀察到白色陰影變化、振痕和條紋，其表面質(zhì)量為優(yōu)等。另一方面，在比較例1和比較例2~4中，其中比較例1只在下游側(cè)電解槽2B處配備低電流密度區(qū)，而比較例2~4沒有配備低電流密度區(qū)，在得到的平版印刷版支撐件的表面上可明顯觀察到白色陰影變化、振痕和條紋。此外，在實(shí)施例1~5中，鋁條在布置在上游側(cè)的電解槽2A的低電流密度區(qū)中的處理持續(xù)時(shí)間，相對(duì)于鋁條W在電解槽2A的總處理持續(xù)時(shí)間，為6%的比例,所得到的平版印刷版支撐件比對(duì)比例1具有更優(yōu)等的表面質(zhì)量，在對(duì)比例1中該比例為4%。然后，以和實(shí)施例1~5、對(duì)比例1和比較例1~4同樣的方法對(duì)鋁條進(jìn)行電解表面粗糙化處理，除了電解槽2A和2B之間的電流密度比MCA/MCe為在1.22之間變化。得到與表I中相同的結(jié)果。如上所述，本發(fā)明提供了電解處理裝置和電解處理方法，通過此可有效抑制產(chǎn)生表面質(zhì)量缺陷，即使當(dāng)電解處理(如電解表面粗糙處理等)在高電流密度和輸送速度下進(jìn)行。本發(fā)明還提供了用以上所述電解處理裝置制造的平版印刷版支撐件。還提供了用以上所述電解處理裝置制造的、沒有產(chǎn)生諸如振痕的表面質(zhì)量缺陷的平版印刷版支撐件，以及包括以上所述平版印刷版支撐件的平版印刷版。也即，在本發(fā)明的電解處理裝置中，在除了布置在下游最遠(yuǎn)處的電解槽以外的電解槽中，在送出金屬條的出口區(qū)域配備了低電流密度區(qū)。此外，在電極的金屬條進(jìn)口區(qū)域配備了弱起動(dòng)部分。在弱起動(dòng)部分，電流密度設(shè)置為低于沿金屬條行進(jìn)方向更下游的電極區(qū)域。類似地，在低電流密度區(qū)，以比相對(duì)金屬條行進(jìn)方向更上游的電極區(qū)域更低的電流密度進(jìn)行電解處理。因此，在弱起動(dòng)部分陰極反應(yīng)和陽極反應(yīng)受到抑制。此外，因?yàn)榈碗娏髅芏葏^(qū)形成于除了布置在下游最遠(yuǎn)處的電解槽以外的電解槽的出口區(qū)域，因此在下游最遠(yuǎn)處的電解槽中抑制了振痕的產(chǎn)生。這樣，通過上述電解處理裝置，可以抑制金屬條上產(chǎn)生諸如振痕的表面質(zhì)量缺陷。本發(fā)明的第二方面是涉及第一方面的電解處理裝置，其中在除了布置在下游最遠(yuǎn)處的電解槽以外的電解槽中，在布置在沿金屬條行進(jìn)方向下游最遠(yuǎn)處的電極的出口側(cè)端部配備了低電流密度區(qū)，該出口側(cè)端部為位于送出金屬條一側(cè)的端部。在該電解處理裝置中，用電極和金屬條之間的交流電對(duì)金屬條進(jìn)行表面粗糙化。因此，在除了布置在下游最遠(yuǎn)處的電解槽以外的電解槽中，當(dāng)布置在電解槽下游最遠(yuǎn)處的電極的出口側(cè)端部配備了低電流密度區(qū)時(shí)，因?yàn)榈碗娏髅芏葏^(qū)形成在電解槽的出口區(qū)域，所以在與其下游側(cè)相鄰的電解槽中抑制了振痕的產(chǎn)生。本發(fā)明的第三方面為涉及第一方面的電解處理裝置，其中在除了布置在下游最遠(yuǎn)處的電解槽以外的電解槽中配備了多個(gè)電極，并在多個(gè)電極的每個(gè)的出口側(cè)端部配備了低電流密度區(qū)。在該電解處理裝置中，因?yàn)樵诔瞬贾迷谙掠巫钸h(yuǎn)處的電解槽以外的電解槽中配備了多個(gè)電極，在單個(gè)電解槽內(nèi)，有可能在一個(gè)電極與布置在其下游側(cè)的其它電極之間產(chǎn)生振痕。然而，在該電解處理裝置中，因?yàn)樵诙鄠€(gè)電極的每個(gè)的出口區(qū)域一側(cè)端部配備了低電流密度區(qū)，即使單個(gè)電解槽中，也有效地抑制了產(chǎn)生諸如振痕的表面質(zhì)量缺陷。本發(fā)明的第四方面為涉及第三方面的電解處理裝置，其中在布置在下游最遠(yuǎn)處的電解槽中也配備了多個(gè)電極，并在除了布置在下游最遠(yuǎn)處的電極以外的多個(gè)電極的出口側(cè)端部配備了低電流密度區(qū)。當(dāng)在下游最遠(yuǎn)處的電解槽中配備多個(gè)電極時(shí)，有可能在電極與布置在其下游側(cè)的其它電極之間產(chǎn)生振痕，即使在下游最遠(yuǎn)處的電解槽中。然而，在第四方面的電解處理裝置中，因?yàn)樵诓贾迷谙掠巫钸h(yuǎn)處的電解槽的上游側(cè)的電極的出口區(qū)域一側(cè)的端部配備了低電流密度區(qū)，在下游最遠(yuǎn)處的電解槽中可有效抑制產(chǎn)生諸如振痕等表面質(zhì)量缺陷。本發(fā)明的第五方面為涉及第一第四方面任何之一的電解處理裝置，其中金屬條在低電流密度區(qū)的處理持續(xù)時(shí)間t規(guī)定為金屬條在電解槽中總處理持續(xù)時(shí)間的至少6%，并且設(shè)電解槽低電流密度區(qū)的電流密度為d(A/dm2)，除低電流密度區(qū)以外區(qū)域的電流密度為D(A/dm2)，則d應(yīng)規(guī)定為能使d/D^).75且d^30A/dm2。在涉及第五方面的電解處理裝置中，因?yàn)榻饘贄lT的處理持續(xù)時(shí)間及低電流密度區(qū)的電流密度d如上所述設(shè)置，所以可以更有效地抑制產(chǎn)生諸如振痕等的表面質(zhì)量缺陷。本發(fā)明的第六方面為涉及第一第五方面任何之一的電解處理裝置，其中沿金屬條行進(jìn)方向逐漸遠(yuǎn)離金屬條的行進(jìn)路徑形成電極的出口側(cè)端部，從而形成電極的低電流密度區(qū)。在電解處理裝置中，當(dāng)電極與金屬條輸送表面之間的間隙大時(shí)，存在于電極與該輸送表面之間的酸性電解質(zhì)溶液層也更厚，因此，電極與金屬條之間的電阻更大。相反地，當(dāng)間隙小時(shí)，酸性電解質(zhì)溶液層的厚度也較小，因此電極與金屬條之間的電阻更小。在涉及第六方面的電解處理裝置中，形成電極出口側(cè)端部，以便沿金屬條行進(jìn)方向從金屬條的行進(jìn)路徑連續(xù)后退。因此，因?yàn)殡姌O與金屬條之間電阻增加，隨著向相對(duì)金屬條輸送方向的下游側(cè)前進(jìn)，電極與金屬條之間的電流流動(dòng)隨著向下游側(cè)前進(jìn)而降低。這樣，在涉及第六方面的電解處理裝置中，可以形成低電流密度區(qū)，而不用在普通電解槽上添加任何裝置或部件。因此，可以簡化電解處理裝置的結(jié)構(gòu)。本發(fā)明的第七方面為涉及第一第五方面任何之一的電解處理裝置，其中電極，至少在低電流密度區(qū)，分割成多個(gè)彼此絕緣的小電極，小電極與為小電極提供交流電的電源之間配備有用于限制電流的限流器。在涉及第七方面的電解處理裝置中，在電解槽中形成低電流密度區(qū)，電極被分成彼此絕緣的小電極。此外，在小電極與電源之間配備限流器。因此，電極的交流電密度在電極的出口側(cè)端部比中央部分(也即電極的出口側(cè)端部與入口側(cè)端部之間的區(qū)域)更低。結(jié)果是，可有效抑制由于已通過一個(gè)電極的金屬條通過另一個(gè)電極所產(chǎn)生的諸如振痕等表面質(zhì)量缺陷。本發(fā)明的第八方面涉及涉及第七方面的電解處理裝置，其中限流器為感應(yīng)線圈。在涉及第八方面的電解處理裝置中，使用阻抗線圈作為限流器。在電解處理裝置中，從電源向小電極提供交流電時(shí)，因?yàn)榻涣麟娊?jīng)過感應(yīng)線圈，產(chǎn)生感應(yīng)，從而電流得到限制。因此，電流可以被限制，而沒有電阻損耗。此外，因?yàn)楦袘?yīng)線圈完全不需要控制器來限制電流，電解處理裝置具有結(jié)構(gòu)簡單的優(yōu)點(diǎn)。作為感應(yīng)線圈，可以使用通常所說的電感器，無須具有帶鐵芯線圈的特征。本發(fā)明的第九方面為涉及第七方面的電解處理裝置，其中使用電阻器為限流器。在涉及第九方面的電解處理裝置中，因?yàn)槭褂秒娮杵髯鳛橄蘖髌?，只在電源與小電極之間有電阻損耗。因此，功率因數(shù)為l。本發(fā)明的第十方面為涉及第一第五方面任何之一的電解處理裝置，其中電極被區(qū)分成出口側(cè)電極和中央部電極，出口側(cè)電極布置在出口側(cè)端部并形成低電流密度區(qū)，中央部電極位于相對(duì)于金屬條行進(jìn)方向的出口側(cè)電極的上游側(cè)，出口側(cè)電極和中央部電極連接到獨(dú)立的電源。在涉及第十方面的電解處理裝置中，電極如上所述被區(qū)分成出口側(cè)電極和中央部電極。此外，出口側(cè)電極和中央部電極連接到獨(dú)立的電源。因此，出口側(cè)電極的電流密度(也即低電流密度區(qū)的電流密度)可以獨(dú)立于中央部電極進(jìn)行控制。本發(fā)明的第十一方面為涉及第一第十方面任何之一的電解處理裝置，其中布置在下游最遠(yuǎn)處的電解槽與除了下游最遠(yuǎn)處的電解槽以外的電解槽之間的電流密度比例設(shè)置為1:1.21:2。在涉及第十一方面的電解處理裝置中，布置在下游最遠(yuǎn)處的電解槽與其它電解槽之間的電流密度比例設(shè)置為一種特定的比例。因此，甚至可以更有效地抑制產(chǎn)生圖象質(zhì)量變化。本發(fā)明的第十二方面為用于平版印刷版的支撐件，其通過使用涉及第一第十一方面任何之一的電解處理裝置對(duì)鋁板進(jìn)行表面粗糙處理制得。根據(jù)該電解處理裝置，當(dāng)鋁條通過對(duì)其使用交流電進(jìn)行電解表面粗糙化時(shí)，可以將產(chǎn)生表面質(zhì)量缺陷抑制到最低。因此，這樣提供的平版印刷版支撐件具有很少的表面質(zhì)量缺陷。本發(fā)明的第十三方面為平版印刷版，包括涉及第十二方面的用于平版印刷版的支撐件；以及在表面粗糙化了的用于平版印刷版的支撐件的表面上所形成的制版層。用于該平版印刷版的平版印刷版支撐件具有很少的諸如振痕的表面質(zhì)量缺陷。因此，通過使用本方面的平版印刷版，由于表面質(zhì)量缺陷所產(chǎn)生的印刷版面上的印刷不規(guī)整性可以被有效抑制。本發(fā)明的第十四方面為用于對(duì)沿一定方向行進(jìn)的金屬條進(jìn)行電解處理的電解處理方法，該電解處理方法包括使金屬條依次通過在酸性電解質(zhì)溶液中施加交流電的多個(gè)電解槽，從而對(duì)金屬條實(shí)行電解處理。在每個(gè)電解槽中，一個(gè)電極或兩個(gè)或更多個(gè)電極布置成面向金屬條的行進(jìn)路徑，交流電施加到一個(gè)電極或兩個(gè)或更多個(gè)電極上；在每個(gè)電解槽中，每個(gè)電極在金屬條入口區(qū)域的電流密度設(shè)置為低于沿金屬條行進(jìn)方向的入口區(qū)域下游側(cè)的電極區(qū)域的電流密度。在多個(gè)電解槽中，布置在沿金屬條行進(jìn)方向下游最遠(yuǎn)處的電解槽中的電流密度被設(shè)置為最低；并且，在除布置在下游最遠(yuǎn)處的電解槽以外的電解槽中，送出金屬條的出口區(qū)域的電流密度設(shè)置為低于相對(duì)金屬條行進(jìn)方向的出口區(qū)域上游側(cè)區(qū)域的電流密度。根據(jù)本方面的電解處理方法，由于與針對(duì)第一方面所述的相同的原因，可以抑制在金屬條上產(chǎn)生諸如振痕的表面質(zhì)量缺陷。本發(fā)明實(shí)施方案的上述說明僅供示例和說明之目的。無意用于詳盡說明或?qū)⒈景l(fā)明限定于公開的精確形式。顯然，對(duì)于本專業(yè)從業(yè)人員很多修改和變化是顯而易見的。選用并描述實(shí)施方案是為了最佳解釋本發(fā)明的原理及其實(shí)際應(yīng)用，從而使其他技術(shù)人員理解本發(fā)明，以便進(jìn)行各種實(shí)施并作各種修改以適應(yīng)所要進(jìn)行的具體應(yīng)用。其目的是通過以下權(quán)利要求及其等同權(quán)利要求對(duì)本發(fā)明的范圍進(jìn)行定義。權(quán)利要求1.對(duì)沿一定方向行進(jìn)的金屬條進(jìn)行電解處理的電解處理裝置，該電解處理裝置包括在酸性電解質(zhì)溶液中用交流電連續(xù)進(jìn)行電解處理的多個(gè)電解槽，所述電解槽沿所述金屬條的行進(jìn)方向布置成列，并且，在所述多個(gè)電解槽中交流電的電流密度被設(shè)置成使布置在相對(duì)于所述金屬條行進(jìn)方向下游最遠(yuǎn)處的電解槽中的電流密度為最低；在每個(gè)電解槽中，一個(gè)或多個(gè)電極被布置成面向所述金屬條的行進(jìn)路徑，交流電施加到電極上，并在送入金屬條的每個(gè)電極入口區(qū)域配備弱起動(dòng)部分；并且在除了布置在下游最遠(yuǎn)處的電解槽以外的電解槽中，在送出金屬條的出口區(qū)域配備低電流密度區(qū)。2.權(quán)利要求1的電解處理裝置，其中在除了布置在下游最遠(yuǎn)處的電解槽以外的電解槽中，在沿金屬條行進(jìn)方向下游最遠(yuǎn)處布置的電極的出口側(cè)端部配備低電流密度區(qū)，所述出口側(cè)端部為送出金屬條一側(cè)的端部。3.權(quán)利要求2的電解處理裝置，其中在除了布置在下游最遠(yuǎn)處的電解槽以外的電解槽中配備多個(gè)電極，并在所述多個(gè)電極中每一個(gè)的出口側(cè)端部配備低電流密度區(qū)。4.權(quán)利要求3的電解處理裝置，其中在布置在下游最遠(yuǎn)處的電解槽中也配備多個(gè)電極，并在除了布置在下游最遠(yuǎn)處的電極以外的多個(gè)電極的出口側(cè)端部配備低電流密度區(qū)。5.權(quán)利要求3的電解處理裝置，其中形成所述電極的出口側(cè)端部以便沿所述金屬條行進(jìn)方向從金屬條的行進(jìn)路徑連續(xù)后退，由此在所述出口側(cè)端部形成電極的低電流密度區(qū)。6.權(quán)利要求4的電解處理裝置，其中通過沿所述金屬條行進(jìn)方向逐漸遠(yuǎn)離金屬條的行進(jìn)路徑形成所述電極的出口側(cè)端部，由此在所述出口側(cè)端部形成電極的低電流密度區(qū)。7.權(quán)利要求3的電解處理裝置，其中至少在所述低電流密度區(qū)將所述電極分割成多個(gè)彼此絕緣的小電極，在所述小電極與為該小電極提供交流電的電源之間配備用于限制電流的限流器。8.權(quán)利要求4的電解處理裝置，其中至少在所述低電流密度區(qū)將所述電極分割成多個(gè)彼此絕緣的小電極，在所述小電極與為小電極提供交流電的電源之間配備用于限制電流的限流器。9.權(quán)利要求7的電解處理裝置，其中所述限流器為感應(yīng)線圈。10.權(quán)利要求8的電解處理裝置，其中所述限流器為感應(yīng)線圈。11.權(quán)利要求7的電解處理裝置，其中所述限流器為電阻器。12.權(quán)利要求8的電解處理裝置，其中所述限流器為電阻器。13.權(quán)利要求3的電解處理裝置，其中所述電極被區(qū)分成出口側(cè)電極和中央部電極，出口側(cè)電極布置在出口側(cè)端部并形成低電流密度區(qū)，中央部電極位于相對(duì)金屬條行進(jìn)方向的出口側(cè)電極的上游位置，出口側(cè)電極和中央部電極連接到不同的電源。14.權(quán)利要求4的電解處理裝置，其中電極被區(qū)分成出口側(cè)電極和中央部電極，出口側(cè)電極布置在出口側(cè)端部并形成低電流密度區(qū)，中央部電極位于相對(duì)金屬條行進(jìn)方向的出口側(cè)電極的上游位置，出口側(cè)電極和中央部電極連接到不同的電源。15.權(quán)利要求3的電解處理裝置，其中金屬條在低電流密度區(qū)的處理持續(xù)時(shí)間T規(guī)定為金屬條在電解槽中總處理持續(xù)時(shí)間的至少6%，并且設(shè)電解槽低電流密度區(qū)的電流密度為d(A/dm2)，除低電流密度區(qū)以外區(qū)域的電流密度為D(A/dm2),貝Ud應(yīng)規(guī)定為能使d/D$0.75且松OA/dm2o16.權(quán)利要求4的電解處理裝置，其中金屬條在低電流密度區(qū)的處理持續(xù)時(shí)間T規(guī)定為金屬條在電解槽中總處理持續(xù)時(shí)間的至少6%,并且設(shè)電解槽低電流密度區(qū)的電流密度為d(A/dm2)，除低電流密度區(qū)以外區(qū)域的電流密度為D(A/dm2)，貝!Jd應(yīng)規(guī)定為能使d/DS0.75且d^30A/dm2。17.權(quán)利要求3的電解處理裝置，其中布置在下游最遠(yuǎn)處的電解槽與除了下游最遠(yuǎn)處的電解槽以外的電解槽之間的電流密度比例設(shè)置為1:1.21:2。18.權(quán)利要求4的電解處理裝置，其中布置在下游最遠(yuǎn)處的電解槽與其它電解槽之間的電流密度比例設(shè)置為1:1.21:2。19.用于平版印刷版的支撐件，包括已經(jīng)用權(quán)利要求1的電解處理裝置進(jìn)行過表面粗糙處理的鋁條。20.平版印刷版，包括權(quán)利要求19的用于平版印刷版的支撐件以及形成在平版印刷版的進(jìn)行過表面粗糙處理的一側(cè)上的制版層。21.用于對(duì)沿一定方向行進(jìn)的金屬條進(jìn)行電解處理的電解處理方法，該電解處理方法包括使金屬條依次通過在酸性電解質(zhì)溶液中施加交流電的多個(gè)電解槽，從而對(duì)金屬條進(jìn)行電解處理，其中施加了交流電的一個(gè)或多個(gè)電極布置在各個(gè)電解槽中，以面向金屬條的行進(jìn)路徑，并且，在每個(gè)電極的金屬條入口區(qū)域，電流密度設(shè)置為低于相對(duì)金屬條行進(jìn)方向的入口區(qū)域下游的電極區(qū)域的電流密度；在多個(gè)電解槽中，電流密度設(shè)置為使布置在相對(duì)金屬條行進(jìn)方向下游最遠(yuǎn)處的電解槽中的電流密度為最低；并且在除了布置在下游最遠(yuǎn)處的電解槽以外的電解槽中，電流密度設(shè)置為使送出金屬條的出口區(qū)域的電流密度低于相對(duì)金屬條行進(jìn)方向的出口區(qū)域上游區(qū)域的電流密度。全文摘要提供了一種用于對(duì)沿一定方向行進(jìn)的金屬條進(jìn)行電解處理的電解處理裝置。多個(gè)電解槽用交流電在酸性電解質(zhì)溶液中連續(xù)進(jìn)行電解處理。電解槽沿金屬條行進(jìn)方向串聯(lián)排列。在每個(gè)電解槽中，提供了一個(gè)電極或兩個(gè)或更多個(gè)電極。每個(gè)電極都布置成面向金屬條行進(jìn)路徑，并且施加交流電。在送入金屬條的電極入口區(qū)域提供弱起動(dòng)部分。多個(gè)電解槽中交流電的電流密度設(shè)置為能使布置在相對(duì)金屬條行進(jìn)方向下游最遠(yuǎn)處的電解槽中最低。在除了布置在下游最遠(yuǎn)處的電解槽以外的至少一個(gè)電解槽中，在送出金屬條的出口區(qū)域配備低電流密度區(qū)。文檔編號(hào)C25D7/06GK101275259SQ20081008631公開日2008年10月1日申請(qǐng)日期2008年3月25日優(yōu)先權(quán)日2007年3月30日發(fā)明者柏原豐,糟谷雄一申請(qǐng)人:富士膠片株式會(huì)社