專利名稱：凹版滾筒用銅鍍敷方法及裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在使用于凹版印刷的中空?qǐng)A筒狀的凹版滾筒(graviire cylinder)(還稱為制版輥)的外周表面實(shí)施銅鍍敷作為版面形成用版材的 凹版滾筒用銅鍍敷方法及裝置，尤其涉及使用不溶性陽極實(shí)施銅鍍敷的凹 版滾筒用銅鍍敷方法及裝置。
背景技術(shù)：
在凹版印刷中，對(duì)凹版滾筒形成對(duì)應(yīng)制版信息的微小凹部(單元)， 從而制造版面，在該單元中填充墨液，從而轉(zhuǎn)印被印刷物。通常的凹版滾 筒中，作為圓筒狀的鐵芯或鋁芯作為基材，在該基材的外周表面上形成基 底層或剝離層等多個(gè)層，在其上形成版面形成用銅鍍敷層(版材)。然后， 在該銅鍍敷層上利用激光曝光裝置形成對(duì)應(yīng)于制版信息的單元，然后實(shí)施 用于增加凹版滾筒的耐刷能力的鉻鍍敷等，完成制版(版面的制作)。
以往，作為用于向凹版滾筒的外周表面實(shí)施銅鍍敷的方法及裝置，廣 為知道的是使用含磷銅球作為可溶性陽極的方法及裝置，其用一對(duì)輥夾盤 夾持凹版滾筒的長(zhǎng)度方向兩端，且使所述凹版滾筒能夠旋轉(zhuǎn)且能夠通電， 并收容在儲(chǔ)存有鍍敷液的鍍敷槽，使凹版滾筒旋轉(zhuǎn)，向鍍敷液中的含磷銅 球(可溶性陽極)和凹版滾筒(陰極)之間流過電流密度10 15A/dm2 左右的電流，由此使銅析出在作為陰極的凹版滾筒的外周表面，從而進(jìn)行 銅鍍敷(例如，參照專利文獻(xiàn)1及2)。
但是，通常在凹版滾筒用銅鍍敷方法及裝置中使用的含磷銅球含有 磷350 700ppm、氧2 5ppm，剩余由銅及雜質(zhì)構(gòu)成，由于不可避免 地含有的雜質(zhì)，在鍍敷處理中產(chǎn)生陽極泥，這些泥成為在凹版滾筒的外周 表面產(chǎn)生麻點(diǎn)(微小突起)或凹坑(針孔)等缺陷氧化銅粉末D原因。在 半導(dǎo)體制造用途等中使用高純度的含磷銅球，但由于其高價(jià)，從成本考慮，
凹版滾筒用途中不采用。另外，為了防止銅鍍敷液中的含磷銅球的溶解量 變得過多，銅離子的濃度變高，導(dǎo)致不能進(jìn)行適當(dāng)?shù)腻兎筇幚?，需要定?抽出鍍敷液將其稀釋，調(diào)節(jié)為適當(dāng)?shù)你~離子濃度，或者還需要處理廢液。 進(jìn)而，由于在凹版滾筒的兩端部附近集中電流，因此，與直筒部相比，兩 端部附近的周面的鍍敷厚度厚，從而另行需要在事后通過研磨等使鍍敷的 厚度均勻化。
另一方面，除了使用含磷銅球作為可溶性陽極的方法之外，還有使用 不溶性陽極的銅鍍敷方法，作為基于其的凹版滾筒用銅鍍敷方法及裝置， 有如下方法，S卩例如，使用在鈦板的表面涂敷有氧化銥的板作為不溶性 陽極，準(zhǔn)備鍍敷槽和銅的溶解槽，在溶解槽中溶解銅鍍敷材料(例如，氧 化銅或碳酸銅)，將其向鍍敷槽中的鍍敷液中供給，向不溶性陽極和構(gòu)成 陰極的凹版滾筒之間通電，實(shí)施銅鍍敷(例如，參照專利文獻(xiàn)3)。
根據(jù)上述方法及裝置，雖然不產(chǎn)生陽極泥而不產(chǎn)生麻點(diǎn)或凹坑等缺 陷，但依然存在凹版滾筒的兩端部附近的周面的鍍敷厚度厚的缺陷。因此， 為了消除這些問題，本申請(qǐng)人提出了如下所述的凹版滾筒用銅鍍敷方法及 裝置，即在鍍敷槽內(nèi)，升降自如地構(gòu)成位于凹版滾筒的下方氧化銅粉末
D不溶性陽極，根據(jù)各種尺寸的凹版滾筒，保留5mm 30mm間隙地使不 溶性陽極接近凹版滾筒的下面，由此使得在凹版滾筒的兩端部附近不發(fā)生 電流集中，能夠在凹版滾筒的全長(zhǎng)上實(shí)施厚度大致均勻的鍍敷，能夠自動(dòng) 調(diào)節(jié)鍍敷液的銅濃度及硫酸濃度(專利文獻(xiàn)4)。
但是，在上述方案中，存在以下問題。由于將不溶性陽極直接設(shè)置在 鍍敷液中，因此，光澤劑或焦燒阻滯劑等添加劑的消耗量顯著變多(例如， 使用含磷銅球作為可溶性陽極的情況下為100cc/1000AH左右，與此相對(duì)， 在將不溶性陽極設(shè)置于鍍敷液中的情況下為600cc/1000AH左右)。由于為 了防止焦燒，電流密度為15 20A/dn^左右、電壓為10 15V左右，因此， 鍍敷需要很長(zhǎng)時(shí)間，花費(fèi)電力供給成本。鍍敷厚度的均勻化不充分。由于 不溶性陽極位于凹版滾筒的下方，因此，視覺辨認(rèn)性變差，操作性也變差。
專利文獻(xiàn)l:特公昭57—36995號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)2:特開平11一614S8號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)3:特開2005—29876號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)4:特開2005—133139號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述問題而做成的，其目的在于提供無論凹版滾筒的尺 寸大小，都能夠在不產(chǎn)生麻點(diǎn)或凹坑等缺陷的情況下，在凹版滾筒的全長(zhǎng) 上實(shí)施均勻的厚度的銅鍍敷，能夠自動(dòng)管理銅鍍敷液的濃度，并且能夠降 低添加劑的消耗量，能夠在短時(shí)間內(nèi)進(jìn)行鍍敷處理，能夠降低電力供給成 本，視覺辨認(rèn)性良好且容易操作的凹版滾筒用銅鍍敷方法及裝置。
本發(fā)明的凹版滾筒用銅鍍敷方法，其特征在于，在長(zhǎng)度方向的兩端夾 持中空?qǐng)A筒狀凹版滾筒，并將所述凹版滾筒收容在填滿銅鍍敷液的鍍敷槽 中，使所述凹版滾筒以規(guī)定速度旋轉(zhuǎn)，并按照成為陰極的方式向所述凹版 滾筒通電，并且使一對(duì)長(zhǎng)條箱狀(長(zhǎng)尺箱狀)陽極室保留規(guī)定間隔接近所 述凹版滾筒的兩側(cè)面，從而向凹版滾筒的外周表面實(shí)施銅鍍敷，其中所述 陽極室是在所述鍍敷槽內(nèi)滑動(dòng)自如地垂設(shè)于凹版滾筒的兩側(cè)，且內(nèi)設(shè)有被 通電為陽極的不溶性陽極。
艮P，在鍍敷液中不直接設(shè)置不溶性陽極，而設(shè)置在陽極室內(nèi)，將該陽 極室設(shè)置成具備在凹版滾筒的兩側(cè)滑動(dòng)自如的機(jī)構(gòu)的滑動(dòng)式陽極室，由此 以接近凹版滾筒的兩側(cè)面的狀態(tài)進(jìn)行銅鍍敷處理。由此，不存在發(fā)生麻點(diǎn) 或凹坑等缺陷的情況，能夠?qū)嵤┖穸雀鶆虻你~鍍敷，降低添加劑的消耗 量，應(yīng)對(duì)所有尺寸的凹版滾筒，能夠?qū)崿F(xiàn)鍍敷厚度的均勻化。能夠鍍敷處 理所需的時(shí)間的縮短或電力供給成本，由于陽極室位于凹版滾筒的兩側(cè)， 因此，成為視覺辨認(rèn)性或操作性更優(yōu)越的方式。
優(yōu)選在所述陽極室的凹版滾筒側(cè)的側(cè)面附設(shè)有陽離子交換膜，所述陽 極室具有凹版滾筒的長(zhǎng)度方向的全長(zhǎng)以上的長(zhǎng)度。之所以是為了在凹版滾 筒的全長(zhǎng)上實(shí)施均勻的厚度的銅鍍敷。另外，優(yōu)選在所述陽極室的內(nèi)部填 滿有酸性電解液，通過測(cè)量所述陽極室的液量得出液量不足的情況下，補(bǔ) 充水。
優(yōu)選所述銅鍍敷液含有硫酸銅、硫酸、氯及添加劑，通過測(cè)量所述銅 鍍敷液的比重及硫酸濃度得出比重過高的情況下，補(bǔ)充水，硫酸濃度過高 的情況下，補(bǔ)充氧化銅粉末。由此，不需要以往定期進(jìn)行的銅鍍敷液的維
護(hù)或廢液處理。另外，優(yōu)選所述銅鍍敷液是用過濾器除去了雜質(zhì)。
所述規(guī)定間隔(使陽極室接近凹版滾筒側(cè)面的間隔)是lmm 50mm 左右，優(yōu)選3mm 40mm左右，最優(yōu)選5mm 30mm左右。接近的間隔從 間隔越窄鍍敷厚度更均勻化的觀點(diǎn)來說是優(yōu)選的，但如果過度狹窄，則在 鍍敷處理中，導(dǎo)致陽極室和凹版滾筒接觸之患。
本發(fā)明的凹版滾筒用銅鍍敷裝置，其用于向凹版滾筒的外周表面實(shí)施 銅鍍敷，其特征在于，具備填滿有鍍敷液的鍍敷槽；夾盤機(jī)構(gòu)，其按照 使凹版滾筒能夠旋轉(zhuǎn)且能夠通電的方式夾持中空?qǐng)A筒狀凹版滾筒的長(zhǎng)度 方向兩端，并將所述凹版滾筒收容在所述鍍敷槽中；和一對(duì)長(zhǎng)條箱狀陽極 室，其在所述鍍敷槽內(nèi)滑動(dòng)自如地垂設(shè)于凹版滾筒的兩側(cè)，且內(nèi)設(shè)有被通 電為陽極的不溶性陽極。
優(yōu)選在所述陽極室的凹版滾筒側(cè)的側(cè)面附設(shè)有陽離子交換膜，所述陽 極室具有凹版滾筒的長(zhǎng)度方向的全長(zhǎng)以上的長(zhǎng)度。另外，優(yōu)選在所述陽極 室的內(nèi)部填滿有酸性電解液，所述凹版滾筒用銅鍍敷裝置還具備陽極室 液量補(bǔ)充機(jī)構(gòu)，其通過測(cè)量所述陽極室的液量得出液量不足的情況下，補(bǔ) 充水。
優(yōu)選所述銅鍍敷液含有硫酸銅、硫酸、氯及添加劑，所述凹版滾筒用
銅鍍敷裝置還具備銅鍍敷液自動(dòng)管理機(jī)構(gòu)，其通過測(cè)量所述銅鍍敷液的
比重及硫酸濃度得出比重過高的情況下，補(bǔ)充水，硫酸濃度過高的情況下，
補(bǔ)充氧化銅粉末。優(yōu)選還具備除去所述銅鍍敷液中的雜質(zhì)的過濾器。
根據(jù)本發(fā)明可知，起到如下顯著的效果，即提供無論凹版滾筒的尺 寸大小，都能夠在不產(chǎn)生麻點(diǎn)或凹坑等缺陷的情況下，在凹版滾簡(jiǎn)的全長(zhǎng) 上實(shí)施均勻的厚度的銅鍍敷，能夠自動(dòng)管理銅鍍敷液的濃度，并且能夠降 低添加劑的消耗量，能夠在短時(shí)間內(nèi)進(jìn)行鍍敷處理，能夠降低電力供給成 本，視覺辨認(rèn)性良好且容易操作的凹版滾筒用銅鍍敷方法及裝置。


圖1是表示本發(fā)明的凹版滾筒用銅鍍敷裝置的要部結(jié)構(gòu)的一例的主視 說明圖。
圖2是表示本發(fā)明的凹版滾筒用銅鍍敷裝置的要部結(jié)構(gòu)的一例的俯視
說明圖。
圖3是表示本發(fā)明的凹版滾筒用銅鍍敷裝置的要部結(jié)構(gòu)的一例的側(cè)面
說明圖。
圖4是表示本發(fā)明的陽極室的一例的示意說明圖。 圖5是表示本發(fā)明的凹版滾筒用銅鍍敷裝置的基本結(jié)構(gòu)的一例的概略 說明圖。
圖6是表示本發(fā)明的銅鍍敷液自動(dòng)管理機(jī)構(gòu)的一例的概念說明圖。 圖7是表示本發(fā)明的陽極室液量補(bǔ)充機(jī)構(gòu)的一例的概念說明圖。
圖中2—凹版滾筒用銅鍍敷裝置；4一架臺(tái)；6—軸承；8—蓋板；10 一鍍敷槽；ll一排氣管；12—回收槽；14一夾盤機(jī)構(gòu)；15—防液接合器； 16—心軸(spindle); 18—鏈輪；20—陽極室;22—導(dǎo)桿(leadbar); 23— 陽極箱；24—不溶性陽極；25—安裝夾具；26—陽離子交換膜；27—安裝 夾具；28—按壓凸緣；30—齒輪傳動(dòng)馬達(dá)；31—安裝角鐵；32， 33， 34， 35， 38—正齒輪；39, 40—安裝金屬件；43， 44， 45， 46， 47， 48—鏈輪； 50， 52—線性軌道；54， 55—引導(dǎo)部件；58， 59—安裝框架；60， 62—架
子；70—貯存槽；80—過濾器；86—加熱器；88—熱交換器；90—自動(dòng)添 加裝置；100—銅鍍敷液自動(dòng)管理機(jī)構(gòu)；102—溶解槽；104—粉末供給裝 置；105—螺旋輸送機(jī)；106—粉末存儲(chǔ)斗；108—純水加壓槽；110—控制 器；112—比重傳感器；114一硫酸傳感器；200—陽極室液量補(bǔ)充機(jī)構(gòu)； 210—純水槽；212—浮標(biāo)；220—純水加壓槽；C， Q， C2， Q—鏈；D— 氧化銅粉末；F—銅鍍敷液；M—滾筒旋轉(zhuǎn)馬達(dá)；PP P2， P3， P4—泵；R 一凹版滾筒；S—酸性電解液；VT—調(diào)節(jié)閥；VE—電磁閥；W—純水。
具體實(shí)施例方式
以下，根據(jù)附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說明，但圖示例僅代表例示， 因此，不言而喻，在不脫離本發(fā)明的技術(shù)思想的范圍內(nèi)可以進(jìn)行各種變形。 圖1是表示本發(fā)明的凹版滾筒用銅鍍敷裝置的要部結(jié)構(gòu)的一例的主視
說明圖。圖2是表示本發(fā)明的凹版滾筒用銅鍍敷裝置的要部結(jié)構(gòu)的一例的 俯視說明圖。圖3是表示本發(fā)明的凹版滾筒用銅鍍敷裝置的要部結(jié)構(gòu)的一 例的側(cè)面說明圖。圖4是表示本發(fā)明的陽極室的一例的示意說明圖。圖5
是表示本發(fā)明的凹版滾筒用銅鍍敷裝置的基本結(jié)構(gòu)的一例的概略說明圖。
圖6是表示本發(fā)明的銅鍍敷液自動(dòng)管理機(jī)構(gòu)的一例的概念說明圖。圖7是 表示本發(fā)明的陽極室液量補(bǔ)充機(jī)構(gòu)的一例的概念說明圖。
本發(fā)明的凹版滾筒用銅鍍敷裝置2是向中空?qǐng)A筒狀的凹版滾筒R的外 周表面實(shí)施銅鍍敷的裝置，并具備鍍敷槽10、夾盤機(jī)構(gòu)14、 一對(duì)陽極室 20， 20 (參照?qǐng)D1 圖5)。關(guān)于鍍敷槽IO或夾盤機(jī)構(gòu)14，具有與以往的裝 置(參照專利文獻(xiàn)1 專利文獻(xiàn)3)大致相同的結(jié)構(gòu)，對(duì)其省略重復(fù)說明， 但鍍敷槽10是填滿有銅鍍敷液F的鍍敷處理用槽，可以將凹版滾筒R完 全浸沒在銅鍍敷液F中。在鍍敷槽10的周圍設(shè)有回收溢流的銅鍍敷液F 的回收槽9 (溢流斗)(參照?qǐng)D2、圖3、圖5)，在鍍敷槽10的下方，具 備與回收槽12相通而儲(chǔ)存銅鍍敷液F的貯存槽70 (參照?qǐng)D5、圖6)。在 貯存槽70內(nèi)設(shè)有用于將銅鍍敷液F保持在規(guī)定的液溫(例如，40。C左右) 的加熱器86及熱交換器88，并且設(shè)有用于除去銅鍍敷液F的雜質(zhì)的過濾 器80或從貯存槽70汲取銅鍍敷液F使其在鍍敷槽10中循環(huán)的泵P,等(參 照?qǐng)D5、圖6)。夾盤機(jī)構(gòu)14是夾持凹版滾筒R的長(zhǎng)度方向兩端，并將其 收容在鍍敷槽10內(nèi)的輥夾盤裝置(參照專利文獻(xiàn)1 專利文獻(xiàn)3)，并具 備用軸承6軸支承的心軸16和防止銅鍍敷液F進(jìn)入的防液接合器15，并 通過設(shè)在架臺(tái)4的滾筒旋轉(zhuǎn)馬達(dá)M借助鏈C及鏈輪18以規(guī)定速度(例如， 120rpm左右)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，另外，可通過向凹版滾筒R通電使其成為陰極
(參照?qǐng)D5)。另外，還適當(dāng)具備在鍍敷槽10的上方開閉自如的蓋板8或 排氣管ll等(參照?qǐng)Dl、圖5)。
還有，在本發(fā)明的凹版滾筒用銅鍍敷裝置2中， 一對(duì)陽極室20， 20 形成為在鍍敷槽10內(nèi)滑動(dòng)自如地垂設(shè)在凹版滾筒的兩側(cè)的滑動(dòng)式陽極室
(圖1 圖5)。陽極室20， 20是具有凹版滾筒R的長(zhǎng)度方向的全長(zhǎng)以上 的長(zhǎng)度的長(zhǎng)條箱狀部件(參照?qǐng)D2 圖5)，如圖4所示，硫酸水溶液等酸 性電解液S填充在陽極箱23中，不溶性陽極24利用安裝夾具25內(nèi)設(shè)在 其中。作為不溶性陽極24，使用鈦板的表面涂敷有氧化銥等的陽極，并經(jīng) 由導(dǎo)桿22向其通電使其成為陽極。在陽極室20的凹版滾筒側(cè)的側(cè)面利用 安裝夾具27及按壓凸緣28附設(shè)有陽離子交換膜26。
對(duì)使一對(duì)陽極室20在凹版滾筒R的兩側(cè)滑動(dòng)自如的機(jī)構(gòu)沒有特別限
定，但根據(jù)圖1 圖3對(duì)一例進(jìn)行說明。在鍍敷槽10的正面外方豎立設(shè)置 有架臺(tái)4，在架臺(tái)4的內(nèi)壁面設(shè)有線性軌道50， 52。架子60、 62設(shè)為利 用正齒輪35、 38的正反旋轉(zhuǎn)與線性軌道50、 52平行地做往返運(yùn)動(dòng)，并且 經(jīng)由安裝框架58、59連接于能夠與線性軌道50、 52滑動(dòng)接觸地卡合的54、 55.在安裝框架58、 59的上端部分別連結(jié)有陽極室20、 20的導(dǎo)桿22、 22 的端部(參照?qǐng)D1 圖3)。
使架子60、 62做往返運(yùn)動(dòng)的正齒輪35、 38分別按照使正齒輪35與 架臺(tái)4的外壁面?zhèn)鹊逆溳?5以同軸旋轉(zhuǎn)的方式用安裝金屬件40安裝在架 臺(tái)4上，另一方面，正齒輪38按照與架臺(tái)4外的外壁面?zhèn)鹊逆溳?8以同 軸旋轉(zhuǎn)的方式用安裝金屬件39固定在架臺(tái)4上。在鏈輪45的正下方，按 照與正齒輪34以同軸旋轉(zhuǎn)的方式加設(shè)有鏈輪44，在另一方的鏈輪48的正 下方，按照與鏈輪46以同軸旋轉(zhuǎn)的方式加設(shè)有鏈輪47。在架臺(tái)4的外壁 面借助安裝角鐵31設(shè)置有齒輪傳動(dòng)馬達(dá)30，并配備有正齒輪32。按照與 正齒輪32卡合的方式與鏈輪43以同軸旋轉(zhuǎn)的地加設(shè)有正齒輪33，在鏈輪 43、 46之間用鏈C,卡合巻繞，在鏈輪44、 45之間用鏈C2卡合巻繞，在 鏈輪47、 48之間用鏈Q(jìng)卡合巻繞。從而，通過齒輪傳動(dòng)馬達(dá)30的正反 旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，使正齒輪35、 38正反旋轉(zhuǎn)，使架子60、 62做往返運(yùn)動(dòng)，從而 陽極室20、 20能夠聯(lián)動(dòng)于此而沿線性軌道50、 52正確地滑動(dòng)(參照?qǐng)Dl 圖3)
作為使陽極室20接近凹版滾筒R的側(cè)面的間隔，是lmm 50mm左 右，優(yōu)選3mm 40mm左右，最優(yōu)選5mm 30mm左右。從鍍敷厚度的均 勻化的觀點(diǎn)出發(fā)，可以說越接近陽極室20越優(yōu)選，但如果過度接近，則 存在銅鍍敷處理中陽極室20和凹版滾筒R接觸之患。
本發(fā)明的凹版滾筒用銅鍍敷裝置2優(yōu)選還具備銅鍍敷液自動(dòng)管理機(jī)構(gòu) 100及陽極室液量補(bǔ)充機(jī)構(gòu)200 (參照?qǐng)D6及圖7)。在鍍敷槽10的下方， 具備儲(chǔ)存銅鍍敷液F的貯存槽70，銅鍍敷液F利用過濾器80除去其中雜 質(zhì)，并被泵P1汲取而供給到鍍敷槽10中。另外，適當(dāng)設(shè)置具備供給光澤 劑及焦燒阻滯劑等添加劑的泵P4的自動(dòng)添加裝置90 (參照?qǐng)D6)。
銅鍍敷液自動(dòng)管理機(jī)構(gòu)100是用于調(diào)節(jié)儲(chǔ)存于貯存槽70中的銅鍍敷 液F的銅濃度及硫酸濃度的管理機(jī)構(gòu)。在銅鍍敷液F例如由硫酸銅
(CuS04'5H20)濃度200 250g/L、硫酸(H2S04)濃度50 70g/L、 氯(C1)濃度50 200ppm及光澤劑或焦燒阻滯劑等添加濃度l 10mL/L 構(gòu)成的情況下，隨著對(duì)凹版滾筒R的銅鍍敷進(jìn)展，芳香族中的銅離子濃度 減少，游離硫酸增加。因此，減少的銅離子濃度通過添加氧化銅(CuO), 發(fā)生CuO+H2S04—x:uS04+H20反應(yīng)，調(diào)節(jié)銅離子濃度，從而，導(dǎo)入銅鍍 敷液自動(dòng)管理機(jī)構(gòu)100 (參照?qǐng)D6)。由此，不需要以往的定期的銅鍍敷液 F的維護(hù)或廢液處理，因此優(yōu)選。
銅鍍敷液自動(dòng)管理機(jī)構(gòu)100利用具備比重傳感器112及硫酸傳感器 114的控制器110對(duì)貯存槽70內(nèi)的銅鍍敷液F進(jìn)行取樣，在溶解槽102 中進(jìn)行必要的調(diào)節(jié)，利用泵P3從溶解槽102汲取調(diào)節(jié)后的銅鍍敷液F，將 其供給到貯存槽70中。即，用泵P2汲取貯存槽70內(nèi)的銅鍍敷液F，用配 備在控制器110的比重傳感器112及硫酸傳感器114測(cè)量銅鍍敷液F的比 重(銅濃度)和硫酸濃度，并在判斷為比重(銅濃度)過高(例如，超過濃 度范圍200 250g/L)的情況下，控制器IIO控制電磁閥VE，使得從純水 加壓槽108向溶解槽102中補(bǔ)充水，在判斷為硫酸濃度過高(例如，超過 濃度范圍50 70g/L)的情況下，控制器110控制具備螺旋輸送機(jī)105的 粉末供給裝置104，使得從粉末存儲(chǔ)斗106向溶解槽102補(bǔ)充氧化銅粉末 D(參照?qǐng)D5)。打開電磁閥VE時(shí)的供水量可以通過開閉調(diào)節(jié)閥VT來調(diào)節(jié)。 通過這樣構(gòu)成的銅鍍敷液自動(dòng)管理機(jī)構(gòu)100，可以自動(dòng)管理銅鍍敷液F的 濃度調(diào)節(jié)，例如，以200 250g/L為中心管理硫酸銅濃度，以50 70g/L 為中心管理硫酸濃度。還有，作為補(bǔ)充的粉末，將使用氧化銅粉末的情況 作為優(yōu)選例進(jìn)行了說明，但也可以為碳酸銅、硫酸銅等的粉末。
另外，陽極室液量補(bǔ)充機(jī)構(gòu)200測(cè)定陽極室20的內(nèi)部填充的酸性電 解液S的液量，在液量不足的情況下補(bǔ)充水。在陽極室20的陽極箱23中 填充由硫酸濃度40 150g/L左右的硫酸水溶液等構(gòu)成的酸性電解液S (參 照?qǐng)D4及圖7)，但由于不溶性陽極24而使水電解，產(chǎn)生氧，消耗水，因 此，向其自動(dòng)供給水。即，與陽極室20的陽極箱23相通而設(shè)有純水槽210， 在純水槽210內(nèi)儲(chǔ)存有純水W，通過浮標(biāo)212檢測(cè)純水W的液面水平。 若通過浮標(biāo)212檢測(cè)到液面水平降低，則控制電磁閥VE，使得從純水加 壓槽220補(bǔ)充純水W (參照?qǐng)D7)。打開電磁閥VE時(shí)的供水量可以通過開
閉調(diào)節(jié)閥VT來調(diào)節(jié)。通過這樣構(gòu)成的陽極室液量補(bǔ)充機(jī)構(gòu)200，能夠?qū)﹃?極室20內(nèi)的酸性電解液S自動(dòng)保持必要的液量。 實(shí)施例
以下，舉出實(shí)施例進(jìn)一步具體說明本發(fā)明，但不言而喻，這些實(shí)施例 用于例示，不具有限定性解釋作用。
在以下的實(shí)施例1 實(shí)施例4中，使用如下的共同構(gòu)成。作為銅鍍敷 液，使用含有硫酸銅濃度220g/L、硫酸濃度60g/L、氯濃度120g/L、作為 添加劑的"克斯莫(〕7千)RS—MU，，(大和特殊(株)制造銷售)5m/L、 "克斯莫(〕7千)RS — 1"(大和特殊(株)制造銷售)2m/L的硫酸銅鍍 敷液。作為利用銅鍍敷液自動(dòng)管理機(jī)構(gòu)補(bǔ)充的粉末，使用作為氧化銅粉末 的"易溶性氧化銅(ES—CuO)"(鶴見曹達(dá)(株)制造銷售)。作為陽極 室內(nèi)的不溶性陽極，使用在鈦板的表面涂敷有氧化銥的陽極，作為充滿在 陽極室內(nèi)的酸性電解液，使用硫酸濃度100g/L的硫酸水溶液，作為陽離 子交換膜，使用"賽利米翁(irl/S才y)"(旭玻璃(株)制造銷售)。 作為銅鍍敷液自動(dòng)管理機(jī)構(gòu)及陽極室液量補(bǔ)充機(jī)構(gòu)，構(gòu)成為所述的機(jī)構(gòu)的 裝置，作為銅鍍敷液自動(dòng)管理機(jī)構(gòu)中的比重傳感器，使用"SG—1"(日本 亞克亞(了夕7)(株)制造銷售)，作為硫酸濃度傳感器，使用"DM—1" (日本亞克亞(株)制造銷售)。 (實(shí)施例1)
作為凹版滾筒，使用圓周450mm，全長(zhǎng)1100mm的鋁芯的圓筒形基材， 夾持凹版滾筒的兩端，并將其安裝在鍍敷槽中，利用計(jì)算機(jī)控制的滑動(dòng)機(jī) 構(gòu)使陽極室接近至離凹版滾筒側(cè)面20mm處，使銅鍍敷液溢流，完全浸沒 凹版滾筒。凹版滾筒的轉(zhuǎn)速設(shè)為120rpm，以液溫40。C、電流密度18A/dm2、 電壓5.4V進(jìn)行銅鍍敷至80(im。鍍敷處理所需的時(shí)間為約20分鐘。鍍敷 表面不產(chǎn)生麻點(diǎn)或凹坑，能夠在凹版滾筒的全長(zhǎng)上形成厚度均勻的鍍敷。 另外，銅鍍敷液自動(dòng)管理機(jī)構(gòu)正常運(yùn)行，能夠?qū)~鍍敷液的組成保持在適 當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)。陽極室液量補(bǔ)充機(jī)構(gòu)正常運(yùn)行，能夠?qū)㈥枠O室內(nèi)的液量保持 在適當(dāng)?shù)牧俊Ｌ砑觿┑南牧匡@著減少，是60cc/1000AH。 (實(shí)施例2)
作為凹版滾筒，使用圓周600mm，全長(zhǎng)1100mm的鋁芯的圓筒形基材，
夾持凹版滾筒的兩端，并將其安裝在鍍敷槽中，利用計(jì)算機(jī)控制的滑動(dòng)機(jī)
構(gòu)使陽極室接近至離凹版滾筒側(cè)面20mm處，使銅鍍敷液溢流，完全浸沒 凹版滾筒。凹版滾筒的轉(zhuǎn)速設(shè)為120rpm，以液溫40'C、電流密度18A/dm2、 電壓6.0V進(jìn)行銅鍍敷至80Mm。鍍敷處理所需的時(shí)間為約20分鐘。鍍敷 表面不產(chǎn)生麻點(diǎn)或凹坑，能夠在凹版滾筒的全長(zhǎng)上形成厚度均勻的鍍敷。 另外，銅鍍敷液自動(dòng)管理機(jī)構(gòu)正常運(yùn)行，能夠?qū)~鍍敷液的組成保持在適 當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)。陽極室液量補(bǔ)充機(jī)構(gòu)正常運(yùn)行，能夠?qū)㈥枠O室內(nèi)的液量保持 在適當(dāng)?shù)牧?。添加劑的消耗量顯著減少，是60cc/1000AH。 (實(shí)施例3)
作為凹版滾筒，使用圓周940mm，全長(zhǎng)1100mm的鋁芯的圓筒形基材， 夾持凹版滾筒的兩端，并將其安裝在鍍敷槽中，利用計(jì)算機(jī)控制的滑動(dòng)機(jī) 構(gòu)使陽極室接近至離凹版滾筒側(cè)面20mm處，使銅鍍敷液溢流，完全浸沒 凹版滾筒。凹版滾筒的轉(zhuǎn)速設(shè)為120rpm，以液溫4(TC、電流密度18A/dm2、 電壓7.7V進(jìn)行銅鍍敷至80pm。鍍敷處理所需的時(shí)間為約20分鐘。鍍敷 表面不產(chǎn)生麻點(diǎn)或凹坑，能夠在凹版滾筒的全長(zhǎng)上形成厚度均勻的鍍敷。 另外，銅鍍敷液自動(dòng)管理機(jī)構(gòu)正常運(yùn)行，能夠?qū)~鍍敷液的組成保持在適 當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)。陽極室液量補(bǔ)充機(jī)構(gòu)正常運(yùn)行，能夠?qū)㈥枠O室內(nèi)的液量保持 在適當(dāng)?shù)牧?。添加劑的消耗量顯著減少，是60cc/1000AH。 (實(shí)施例4)
作為凹版滾筒，使用圓周450mm，全長(zhǎng)1100mm的鋁芯的圓筒形基材， 夾持凹版滾筒的兩端，并將其安裝在鍍敷槽中，利用計(jì)算機(jī)控制的滑動(dòng)機(jī) 構(gòu)使陽極室接近至離凹版滾筒側(cè)面5mm處，使銅鍍敷液溢流，完全浸沒 凹版滾筒。凹版滾筒的轉(zhuǎn)速設(shè)為120rpm，以液溫4(TC、電流密度30A/dm2、 電壓7.9V進(jìn)行銅鍍敷至80pm。鍍敷處理所需的時(shí)間為約12分鐘。鍍敷 表面不產(chǎn)生麻點(diǎn)或凹坑，能夠在凹版滾筒的全長(zhǎng)上形成厚度均勻的鍍敷。 另外，銅鍍敷液自動(dòng)管理機(jī)構(gòu)正常運(yùn)行，能夠?qū)~鍍敷液的組成保持在適 當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)。陽極室液量補(bǔ)充機(jī)構(gòu)正常運(yùn)行，能夠?qū)㈥枠O室內(nèi)的液量保持 在適當(dāng)?shù)牧?。添加劑的消耗量顯著減少，是60cc/1000AH。
權(quán)利要求
1.一種凹版滾筒用銅鍍敷方法，其特征在于，在長(zhǎng)度方向的兩端夾持中空?qǐng)A筒狀凹版滾筒，并將所述凹版滾筒收容在充滿銅鍍敷液的鍍敷槽中，使所述凹版滾筒以規(guī)定速度旋轉(zhuǎn)，并以構(gòu)成為陰極的方式向所述凹版滾筒通電，并且使一對(duì)長(zhǎng)條箱狀陽極室保留規(guī)定間隔地接近所述凹版滾筒的兩側(cè)面，從而向凹版滾筒的外周表面實(shí)施銅鍍敷，其中所述陽極室是在所述鍍敷槽內(nèi)滑動(dòng)自如地垂設(shè)于凹版滾筒的兩側(cè)，且內(nèi)設(shè)有被通電構(gòu)成為陽極的不溶性陽極。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的凹版滾筒用銅鍍敷方法，其特征在于， 在所述陽極室的凹版滾筒側(cè)的側(cè)面附設(shè)有陽離子交換膜。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的凹版滾筒用銅鍍敷方法，其特征在于， 所述陽極室具有凹版滾筒的長(zhǎng)度方向的全長(zhǎng)以上的長(zhǎng)度。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1 3中任一項(xiàng)所述的凹版滾筒用銅鍍敷方法，其特 征在于，在所述陽極室的內(nèi)部充滿有酸性電解液，通過測(cè)量所述陽極室的液 量，在液量不足的情況下，補(bǔ)充水。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1 4中任一項(xiàng)所述的凹版滾筒用銅鍍敷方法，其特 征在于，所述銅鍍敷液含有硫酸銅、硫酸、氯及添加劑，通過測(cè)量所述銅鍍敷 液的比重及硫酸濃度，在比重過高的情況下，補(bǔ)充水，在硫酸濃度過高的 情況下，補(bǔ)充氧化銅粉末。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1 5中任一項(xiàng)所述的凹版滾筒用銅鍍敷方法，其特 征在于，所述銅鍍敷液是用過濾器除去了雜質(zhì)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1 6中任一項(xiàng)所述的凹版滾筒用銅鍍敷方法，其特 征在于，所述規(guī)定間隔是lmm 50mm。
8. —種凹版滾筒用銅鍍敷裝置，其用于向凹版滾筒的外周表面實(shí)施 銅鍍敷，其特征在于，具備 填滿有鍍敷液的鍍敷槽；夾盤機(jī)構(gòu)，其按照使凹版滾筒能夠旋轉(zhuǎn)且能夠通電的方式夾持中空?qǐng)A筒狀凹版滾筒的長(zhǎng)度方向兩端，并將所述凹版滾筒收容在所述鍍敷槽中； 禾口一對(duì)長(zhǎng)條箱狀的陽極室，其在所述鍍敷槽內(nèi)滑動(dòng)自如地垂設(shè)于凹版滾 筒的兩側(cè)，且內(nèi)設(shè)有被通電構(gòu)成為陽極的不溶性陽極。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的凹版滾筒用銅鍍敷裝置，其特征在于， 在所述陽極室的凹版滾筒側(cè)的側(cè)面附設(shè)有陽離子交換膜。
10. 根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的凹版滾筒用銅鍍敷裝置，其特征在于， 所述陽極室具有凹版滾筒的長(zhǎng)度方向的全長(zhǎng)以上的長(zhǎng)度。
11. 根據(jù)權(quán)利要求8 10中任一項(xiàng)所述的凹版滾筒用銅鍍敷裝置，其 特征在于，在所述陽極室的內(nèi)部填滿有酸性電解液，所述凹版滾筒用銅鍍敷裝置 還具備陽極室液量補(bǔ)充機(jī)構(gòu)，其通過測(cè)量所述陽極室的液量，在液量不 足的情況下，補(bǔ)充水。
12. 根據(jù)權(quán)利要求8 11中任一項(xiàng)所述的凹版滾筒用銅鍍敷裝置，其 特征在于，所述銅鍍敷液含有硫酸銅、硫酸、氯及添加劑，所述凹版滾筒用銅鍍 敷裝置還具備銅鍍敷液自動(dòng)管理機(jī)構(gòu)，其通過測(cè)量所述銅鍍敷液的比重 及硫酸濃度，在比重過高的情況下，補(bǔ)充水，硫酸濃度過高的情況下，補(bǔ) 充氧化銅粉末。
13. 根據(jù)權(quán)利要求8 12中任一項(xiàng)所述的凹版滾筒用銅鍍敷裝置，其 特征在于，還具備除去所述銅鍍敷液中的雜質(zhì)的過濾器。
全文摘要
本發(fā)明提供無論凹版滾筒的尺寸大小，都能夠在不產(chǎn)生麻點(diǎn)或凹坑等缺陷的情況下，在凹版滾筒的全長(zhǎng)上實(shí)施均勻的厚度的銅鍍敷，能夠自動(dòng)管理銅鍍敷液的濃度，并且能夠降低添加劑的消耗量，能夠在短時(shí)間內(nèi)進(jìn)行鍍敷處理，能夠降低電力供給成本，視覺辨認(rèn)性良好且容易操作的凹版滾筒用銅鍍敷方法及裝置。在長(zhǎng)度方向的兩端夾持中空?qǐng)A筒狀凹版滾筒，并將所述凹版滾筒收容在填滿銅鍍敷液的鍍敷槽中，使所述凹版滾筒以規(guī)定速度旋轉(zhuǎn)，并按照成為陰極的方式向所述凹版滾筒通電，并且使一對(duì)長(zhǎng)條箱狀陽極室保留規(guī)定間隔接近所述凹版滾筒的兩側(cè)面，向凹版滾筒的外周表面實(shí)施銅鍍敷，所述陽極室是在所述鍍敷槽內(nèi)滑動(dòng)自如地垂設(shè)于凹版滾筒的兩側(cè)，且內(nèi)設(shè)有被通電為陽極的不溶性陽極。
文檔編號(hào)C25D17/00GK101184870SQ20068001834
公開日2008年5月21日 申請(qǐng)日期2006年5月23日 優(yōu)先權(quán)日2005年5月25日
發(fā)明者井上學(xué), 松本典子 申請(qǐng)人:株式會(huì)社新克