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一種用于低溫超聲陽(yáng)極鍵合裝置中的硅片夾持器的制作方法

文檔序號(hào):5271748閱讀:570來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:一種用于低溫超聲陽(yáng)極鍵合裝置中的硅片夾持器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種MEMS封裝中的夾持器,尤其涉及一種用于低溫超聲陽(yáng)極鍵合裝置中的硅片夾持器。
背景技術(shù)
陽(yáng)極鍵合和引線鍵合是MEMS封裝中的主要鍵合焊接方法。引線鍵合是一種利用超聲、熱、壓力將芯片和引線框架上的焊盤用金或銅導(dǎo)線互相連接起來(lái)的工藝過程,通過超聲摩擦能夠去除鍵合界面的氧化物,軟化鍵合界面,在熱和壓力的作用下將金或銅與焊盤(一般為鋁焊盤)焊接在一起,例如專利文獻(xiàn):CN1773688A,其主要用于金屬之間的焊接。陽(yáng)極鍵合又稱靜電鍵合或者場(chǎng)助鍵合,在MEMS技術(shù)領(lǐng)域中,主要是玻璃與硅的表面鍵合工藝,其基本原理是將直流電源正極接硅片,負(fù)極接玻璃片,由于玻璃在一定高溫下的性能類似于電解質(zhì),而硅片在溫度升高到300°C 400°C時(shí),電阻率將因本征激發(fā)而降至
0.1Ω.m,此時(shí)玻璃種的導(dǎo)電粒子(如Na+)在外電場(chǎng)作用下漂移到負(fù)電極的玻璃表面,而在緊鄰硅片的玻璃表面留下負(fù)電荷,由于Na+的漂移使電路中產(chǎn)生電流流動(dòng),緊鄰硅片的玻璃表面會(huì)形成一層極薄寬度約為幾μ m的空間電荷區(qū)(或稱耗盡層)。由于耗盡層帶負(fù)電荷,硅片帶正電荷,所以硅片與玻璃之間存在較大的靜電吸引力,使兩者緊密接觸,并在鍵合面發(fā)生物理化學(xué)反應(yīng),形成牢固結(jié)合的S1-O共價(jià)鍵,將硅與玻璃界面牢固地連接在一起。與其它鍵合技術(shù)相比,陽(yáng)極鍵合具有成本低、工藝簡(jiǎn)單、鍵合強(qiáng)度高和密封性好等優(yōu)點(diǎn),此外相對(duì)于硅熔融鍵合技術(shù)還有對(duì)超凈環(huán)境要求不高且能容忍更大表面粗糙度的顯著優(yōu)勢(shì)。因此在對(duì)密封、鍵合強(qiáng)度要求較高的MEMS器件,如真空傳感器、微機(jī)械紅外探測(cè)器、三維微加速度計(jì)、機(jī)械微陀螺、微型原子鐘銣腔等,進(jìn)行后道封裝時(shí)陽(yáng)極鍵合是不可或缺的工藝手段。同時(shí)也在硅基混合微傳感器、微發(fā)生器以及微流控裝置等MEMS器件的制作、封裝中廣泛地應(yīng)用。因此陽(yáng)極鍵合技術(shù)發(fā)展水平對(duì)MEMS技術(shù)的不斷進(jìn)步具有重要的影響。在目前的高溫陽(yáng)極鍵合技術(shù)中,過低的溫度會(huì)使玻璃的導(dǎo)電性變差,同時(shí)玻璃無(wú)法軟化,則無(wú)法實(shí)現(xiàn)玻璃表面微觀峰的蠕動(dòng),造成玻璃與硅片的界面無(wú)法達(dá)到靜電力作用的距離,因此高溫是實(shí)現(xiàn)這種陽(yáng)極鍵合的必要條件。但高溫又使陽(yáng)極鍵合容易產(chǎn)生如下問題:其一,高溫引起MEMS器件損壞。對(duì)于某些溫敏器件而言,過高的溫度會(huì)使其精度降低,甚至?xí)蛊淦茐亩?,而這些微結(jié)構(gòu)和電路所能承受的溫度是有嚴(yán)格限制的,否則就會(huì)造成器件的損壞或者影響其使用壽命,如CMOS電路在400°C下超過15分鐘就會(huì)發(fā)生S1-Al反應(yīng),使電路結(jié)構(gòu)破壞。其二,高溫容易引起殘余應(yīng)力。高溫長(zhǎng)時(shí)間作用于硅-玻璃鍵合基體上容易產(chǎn)生熱應(yīng)力,在完成鍵合冷卻后熱應(yīng)力無(wú)法釋放,會(huì)造成MEMS器件工作不穩(wěn)定和可靠性降低。其三,高溫誘發(fā)離子擴(kuò)散。在某些MEMS器件中,為了實(shí)現(xiàn)特定功能,往往在硅基底中摻入某些特定的離子,而在對(duì)這些摻雜過的MEMS器件進(jìn)行鍵合時(shí),高溫的鍵合過程會(huì)使摻雜物質(zhì)重新擴(kuò)散,這將改變雜質(zhì)分布和電學(xué)特性,而且如果界面存在一些污染和缺陷,在高溫的作用下也會(huì)擴(kuò)散開,使產(chǎn)品失效區(qū)域變得不可控,同時(shí)使鍵合界面電學(xué)特性劣化,嚴(yán)重地影響了 MEMS器件的性能。高溫鍵合過程中存在的這些問題越來(lái)越不能適應(yīng)MEMS器件高性能發(fā)展的需求。針對(duì)高溫陽(yáng)極鍵合對(duì)MEMS器件所產(chǎn)生的不利影響,目前有介質(zhì)阻擋等離子體放電表面處理的方法實(shí)現(xiàn)低溫陽(yáng)極鍵合,例如專利文獻(xiàn):CN102659071A,但此方法需要的放電電壓為500-2000V,這對(duì)某些對(duì)高電壓敏感的MEMS器件來(lái)說(shuō)是不可行的,高壓容易擊穿MEMS器件中的電路,從而損壞需要鍵合的MEMS器件,另外,其工作臺(tái)加熱溫度范圍為250-350°C,溫度對(duì)于有的MEMS器件而言,仍然過高,會(huì)影響了 MEMS器件的性能。因此,針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題,有必要提供一種能夠在低溫條件下,實(shí)現(xiàn)陽(yáng)極鍵合的裝置,以克服上述缺陷。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種用于低溫超聲陽(yáng)極鍵合裝置中的硅片夾持器,該夾持器保證了在施加較低溫度下硅片和玻璃片能實(shí)現(xiàn)性能良好的陽(yáng)極鍵合。為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:
硅片夾持器由變幅桿連接塊,絕緣墊片,高壓氣體接頭,真空吸附接頭,高壓電接片,硅片夾持腔體,第三預(yù)緊螺釘,第三預(yù)緊片,第三預(yù)緊彈簧,第三夾持片,真空吸附口,第四預(yù)緊螺釘,第四預(yù)緊片,第四預(yù)緊彈簧,第四夾持片,高壓氣體通道,真空吸附通道組成,第三夾持片通過第三預(yù)緊彈簧與第三預(yù)緊片相連,第三預(yù)緊螺釘頂住第三預(yù)緊片,第四夾持片通過第四預(yù)緊彈簧與第四預(yù)緊片相連,第四預(yù)緊螺釘頂住第四預(yù)緊片,高壓氣體接頭接通高壓氣體,高壓氣體通過高壓氣體通道推動(dòng)硅片夾持器上的第三夾持片和第四夾持片張開一定距離,真空吸附接頭接通真空泵,通過真空吸附通道將硅片吸附在硅片夾持器上。絕緣墊片設(shè)置在變幅桿連接塊和高壓電接片之間,變幅桿連接塊與超聲變幅桿相連,高壓電接片接直流電源。其中,所述高壓氣體通道和所述真空吸附通道設(shè)置在硅片夾持腔體內(nèi)。其中,在所述超聲變幅桿連接超聲波發(fā)生器。其中,超聲變幅桿固定在Z軸自動(dòng)升降臺(tái)上。其中,所述Z軸自動(dòng)升降臺(tái)固定設(shè)置在Z軸支架上。其中,所述Z軸支架通過Y軸平臺(tái)與X軸平臺(tái)相連,X軸平臺(tái)固定在底板上。其中,所述第三夾持片與第四夾持片在同一平面上呈90度設(shè)置。其中,絕緣墊片為合金材料薄膜。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有以下有益效果:
(I)本發(fā)明的夾持裝置將高壓氣通道與真空吸附通道集成在同一腔體內(nèi),簡(jiǎn)化了夾持器的結(jié)構(gòu)。(2)采用預(yù)緊彈簧、預(yù)緊片及預(yù)緊螺釘?shù)慕Y(jié)構(gòu),在保證了硅片的夾持強(qiáng)度的同時(shí),可以多方位地調(diào)整夾持力。


圖1是本發(fā)明的低溫超聲陽(yáng)極鍵合裝置整體裝配示意圖。圖2是本發(fā)明的低溫超聲陽(yáng)極鍵合裝置的玻璃片夾持器示意圖。
圖3是本發(fā)明的低溫超聲陽(yáng)極鍵合裝置的硅片夾持器示意圖。圖4是本發(fā)明的低溫超聲陽(yáng)極鍵合裝置的硅片夾持器的夾持部示意圖。圖5是本發(fā)明的低溫超聲陽(yáng)極鍵合裝置的硅片夾持器剖面圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明。如圖1所示的一種低溫超聲陽(yáng)極鍵合裝置,包括底板1,手動(dòng)升降臺(tái)2,溫控鍵合爐3,玻璃片夾持器4,硅片夾持器5,超聲變幅桿6,Z軸自動(dòng)升降臺(tái)7,顯微鏡8,X軸平臺(tái)9,Z軸支架10,Y軸平臺(tái)11,超聲波發(fā)生器12,直流電源13,電器支架14,控制系統(tǒng)15。其中如圖2所示,玻璃片夾持器4由高壓氣體接頭4-1,第一夾持片4-2,第一預(yù)緊彈簧4-3,第一預(yù)緊片4-4,第一預(yù)緊螺釘4-5,第二夾持片4-6,第二預(yù)緊彈簧4_7,第二預(yù)緊片4-8,第二預(yù)緊螺釘4-9組成,第一夾持片4-2通過第一預(yù)緊彈簧4-3與第一預(yù)緊片4_4相連,第一預(yù)緊螺釘4-5頂住第一預(yù)緊片4-4,第二夾持片4-6通過第二預(yù)緊彈簧4-7與第二預(yù)緊片4-8相連,第二預(yù)緊螺釘4-9頂住第二預(yù)緊片4-8。其中如圖3-圖5所示,硅片夾持器5由變幅桿連接塊5-1,絕緣墊片5_2,高壓氣體接頭5-3,真空吸附接頭5-4,高壓電接片5-5,硅片夾持腔體5-6,第三預(yù)緊螺釘5_7,第三預(yù)緊片5-8,第三預(yù)緊彈簧5-9,第三夾持片5-10,真空吸附口 5-11,第四預(yù)緊螺釘5-12,第四預(yù)緊片5-13,第四預(yù)緊彈簧5-14,第四夾持片5-15,高壓氣體通道5-16,真空吸附通道5-17組成,第三夾持片5-10通過第三預(yù)緊彈簧5-9與第三預(yù)緊片5-8相連,第三預(yù)緊螺釘5-7頂住第三預(yù)緊片5-8,第四夾持片5-15通過第四預(yù)緊彈簧5-14與第四預(yù)緊片5_13相連,第四預(yù)緊螺釘5-12頂住第四預(yù)緊片5-13,高壓氣體接頭5-3接通高壓氣體,高壓氣體通過高壓氣體通道5-16推動(dòng)娃片夾持器5上的第三夾持片5-10和第四夾持片5-15張開一定距離,真空吸附接頭5-4接通真空泵,通過真空吸附通道5-17將硅片吸附在硅片夾持器5上。絕緣墊片5-2設(shè)置在變幅桿連接塊5-1和高壓電接片5-5之間,變幅桿連接塊5-1與超聲變幅桿6相連,高壓電接片5-5接直流電源13。運(yùn)用本發(fā)明的低溫超聲陽(yáng)極鍵合裝置進(jìn)行鍵合的方法如下:
首先,控制系統(tǒng)15控制溫控鍵合爐3設(shè)定至溫度為18(T200°C,當(dāng)溫控鍵合爐溫度穩(wěn)定后,控制系統(tǒng)15將連接玻璃片夾持器4上高壓氣體接頭4-1的電磁閥打開,高壓氣體接頭
4-1接通高壓氣體,高壓氣體推動(dòng)玻璃片夾持器4上的第一夾持片4-2和第二夾持片4-6張開一定距尚,將玻璃片放直在玻璃片夾持器4上,然后控制系統(tǒng)15控制電磁閥關(guān)閉,撤掉聞壓氣體,第一夾持片4-2和第二夾持片4-6分別在第一預(yù)緊彈簧4-3和第二預(yù)緊彈簧4-7的壓力作用下,推動(dòng)第一夾持片4-2和第二夾持片4-6壓緊玻璃片,將玻璃片固定在玻璃片夾持器4上。夾緊力的大小可由第一預(yù)緊片4-4、第一預(yù)緊彈簧4-3以及第二預(yù)緊片4-8、第二預(yù)緊彈簧4-7來(lái)決定,當(dāng)?shù)谝活A(yù)緊螺釘4-5和第二預(yù)緊螺釘4-9往玻璃片夾持器4內(nèi)部擰緊時(shí),會(huì)相應(yīng)推動(dòng)預(yù)緊片第一預(yù)緊片4-4和及第二預(yù)緊片4-8壓緊第一預(yù)緊彈簧4-3和第二預(yù)緊彈簧4-7,從而使得夾緊力增大。反之,夾緊力減小。將硅片放置在玻璃片夾持器4的右前端,調(diào)整硅片位置使硅片的兩邊與玻璃片夾持器4的兩外邊緣對(duì)齊。控制系統(tǒng)15控制X軸平臺(tái)9和Y軸平臺(tái)11運(yùn)動(dòng),將顯微鏡8對(duì)準(zhǔn)硅片,控制系統(tǒng)15控制X軸平臺(tái)9和Y軸平臺(tái)11,將硅片夾持器5運(yùn)動(dòng)至硅片上方,將連接硅片夾持器5上高壓氣體接頭5-3的電磁閥打開,高壓氣體接頭5-3接通高壓氣體,高壓氣體推動(dòng)娃片夾持器5上的第三夾持片5-10和第四夾持片5-15張開一定距離,控制系統(tǒng)15控制Z軸自動(dòng)升降臺(tái)7往下運(yùn)動(dòng),直至集成在超聲變幅桿6上的傳感器檢測(cè)到硅片夾持器5接觸到硅片時(shí),Z軸自動(dòng)升降臺(tái)7停止運(yùn)動(dòng)。然后將連接硅片夾持器5上真空吸附接頭5-4的電磁閥打開,真空吸附接頭5-4接通真空泵,將硅片吸附在硅片夾持器5上,控制系統(tǒng)15控制連接高壓氣體接頭5-3的電磁閥關(guān)閉,撤掉高壓氣體,第三夾持片5-10和第四夾持片5-15分別在第三預(yù)緊彈簧5-9和第四預(yù)緊螺釘5-12的壓力作用下,推動(dòng)第三夾持片5-10和第四夾持片5-15壓緊娃片,將娃片固定在娃片夾持器5上,夾緊力的大小可由第三預(yù)緊片5-8、第三預(yù)緊彈簧5-9以及第四預(yù)緊片5-13、第四預(yù)緊彈簧5-14來(lái)決定,當(dāng)?shù)谌A(yù)緊螺釘5-7和第四預(yù)緊螺釘5-12往硅片夾持器5內(nèi)部擰緊時(shí),會(huì)相應(yīng)推動(dòng)第三預(yù)緊片5-8和第四預(yù)緊片5-13壓緊第三預(yù)緊彈簧5-9和第四預(yù)緊彈簧5-14,從而使得夾緊力增大;反之,夾緊力減小。Z軸自動(dòng)升降臺(tái)7向上運(yùn)動(dòng)一定距尚??刂葡到y(tǒng)15控制X軸平臺(tái)9和Y軸平臺(tái)11運(yùn)動(dòng),將硅片移動(dòng)至玻璃片上方,并完成娃片與玻璃片的自動(dòng)對(duì)齊,Z軸自動(dòng)升降臺(tái)7帶動(dòng)娃片向下運(yùn)動(dòng),直至集成在超聲變幅桿6上的傳感器檢測(cè)到硅片接觸到玻璃片時(shí),Z軸自動(dòng)升降臺(tái)7停止運(yùn)動(dòng)。超聲變幅桿6末端的力控制器,施加20gf的鍵合壓力,控制系統(tǒng)15控制超聲波發(fā)生器輸出持續(xù)時(shí)間5秒的超聲,其中超聲頻率為65kHz,超聲功率為4W,超聲施加完畢后,控制系統(tǒng)15控制直流電源13輸出持續(xù)時(shí)間25秒的400V的電壓,電壓施加完畢后,此時(shí)硅片與玻璃片鍵合到一起??刂葡到y(tǒng)15控制連接硅片夾持器5上高壓氣體接頭5-3的電磁閥打開,高壓氣體接頭5-3接通高壓氣體,高壓氣體推動(dòng)硅片夾持器5上的第三夾持片5-10和第四夾持片
5-15張開一定距離,使硅片夾持器5不再夾持硅片,控制系統(tǒng)15控制Z軸自動(dòng)升降臺(tái)7向上運(yùn)動(dòng)一段距離,關(guān)閉連接高壓氣體接頭5-3的電磁閥,撤掉高壓氣體,使第三夾持片5-10和第四夾持片5-15回復(fù)至初始位置。

控制系統(tǒng)15控制連接玻璃片夾持器4上高壓氣體接頭4-1的電磁閥打開,高壓氣體接頭4-1接通高壓氣體,高壓氣體推動(dòng)玻璃片夾持器4上的第一夾持片4-2和第二夾持片4-6張開一定距離,使玻璃片夾持器4不再夾持玻璃片,將鍵合好的硅片與玻璃片從玻璃片夾持器中4取出,關(guān)閉連接高壓氣體接頭4-1的電磁閥,撤掉高壓氣體,使第一夾持片4-2和第二夾持片4-6回復(fù)至初始位置,完成硅片與玻璃片的低溫超聲陽(yáng)極鍵合。采用此該低溫超聲陽(yáng)極鍵合方法后的硅片與玻璃片鍵合強(qiáng)度測(cè)得為9.8MPa,鍵合時(shí)間為25秒。下表為采用傳統(tǒng)高溫陽(yáng)極鍵合方法在不同的鍵合參數(shù)下測(cè)得的鍵合強(qiáng)度。
Il號(hào)I壓力(gf)I溫度rc)I電壓(V)I時(shí)間(min)I鍵合強(qiáng)度(MPa)
130400~80057.8—
230400~70056.5—
3丨30丨350卜00|5\&.2從以上對(duì)比可以看出,在陽(yáng)極鍵合工藝中加入超聲能夠大大改善陽(yáng)極鍵合工藝,在達(dá)到同樣鍵合強(qiáng)度下,鍵合溫度,鍵合電壓及鍵合時(shí)間均能大大縮減,對(duì)MEMS陽(yáng)極鍵合工藝的發(fā)展具有重要意義。
權(quán)利要求
1.一種用于硅片與玻璃片的低溫超聲陽(yáng)極鍵合的硅片夾持器,所述硅片夾持器(5)由變幅桿連接塊(5-1),絕緣墊片(5-2),高壓氣體接頭(5-3),真空吸附接頭(5-4),高壓電接片(5-5),硅片夾持腔體(5-6),第三預(yù)緊螺釘(5-7),第三預(yù)緊片(5-8),第三預(yù)緊彈簧(5-9),第三夾持片(5-10),真空吸附口(5-11),第四預(yù)緊螺釘(5-12),第四預(yù)緊片(5-13),第四預(yù)緊彈簧(5-14),第四夾持片(5-15),高壓氣體通道(5-16),真空吸附通道(5_17)組成,第三夾持片(5-10)通過第三預(yù)緊彈簧(5-9)與第三預(yù)緊片(5-8)相連,第三預(yù)緊螺釘(5-7)頂住第三預(yù)緊片(5-8),第四夾持片(5-15)通過第四預(yù)緊彈簧(5-14)與第四預(yù)緊片(5-13)相連,第四預(yù)緊螺釘(5-12)頂住第四預(yù)緊片(5-13),高壓氣體接頭(5_3)接通高壓氣體,高壓氣體通過高壓氣體通道(5-16)推動(dòng)硅片夾持器(5)上的第三夾持片(5-10)和第四夾持片(5-15)張開一定距離,真空吸附接頭(5-4)接通真空泵,通過真空吸附通道(5-17)將硅片吸附在硅片夾持器(5)上,絕緣墊片(5-2)設(shè)置在變幅桿連接塊(5-1)和高壓電接片(5-5)之間,變幅桿連接塊(5-1)與超聲變幅桿(6)相連,高壓電接片(5-5)接直流電源(13)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片夾持器,其特征在于:所述高壓氣體通道(5-16)和所述真空吸附通道(5-17)設(shè)置在硅片夾持腔體(5-6)內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片夾持器,其特征在于:在所述超聲變幅桿(6)連接所述超聲波發(fā)生器(12)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片夾持器,其特征在于:超聲變幅桿¢)固定在Z軸自動(dòng)升降臺(tái)(7)上,所述Z軸自動(dòng)升降臺(tái)(7)固定設(shè)置在Z軸支架(10)上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片夾持器,其特征在于:所述Z軸支架(10)通過Y軸平臺(tái) (11)與X軸平臺(tái)(9)相連,X軸平臺(tái)(9)固定在底板⑴上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片夾持器,其特征在于:所述第三夾持片(5-10)與第四夾持片(5-15)在同一平面上呈90度設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片夾持器,其特征在于:絕緣墊片(5-2)為合金材料薄膜。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片夾持器,其特征在于:所述低溫為200°C。
9.一種用于硅片與玻璃片的低溫超聲陽(yáng)極鍵合設(shè)備,其特征在于,使用上述任一權(quán)利要求所述的硅片夾持器對(duì)硅片進(jìn)行夾持。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的低溫超聲陽(yáng)極鍵合設(shè)備,其特征在于,還包括玻璃片夾持器。
全文摘要
一種用于硅片與玻璃片的低溫超聲陽(yáng)極鍵合的硅片夾持器,所述硅片夾持器由變幅桿連接塊,絕緣墊片,高壓氣體接頭,真空吸附接頭,高壓電接片,硅片夾持腔體,第三預(yù)緊螺釘,第三預(yù)緊片,第三預(yù)緊彈簧,第三夾持片,真空吸附口,第四預(yù)緊螺釘,第四預(yù)緊片,第四預(yù)緊彈簧,第四夾持片,高壓氣體通道,真空吸附通道組成,本發(fā)明的硅片夾持器結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,在保證了硅片的夾持強(qiáng)度的同時(shí),可以多方位地調(diào)整夾持力。
文檔編號(hào)B81C3/00GK103193199SQ201310100530
公開日2013年7月10日 申請(qǐng)日期2013年3月27日 優(yōu)先權(quán)日2013年3月27日
發(fā)明者劉曰濤, 肖春雷, 王偉, 楊明坤, 魏修亭 申請(qǐng)人:山東理工大學(xué)
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