用于晶片生產(chǎn)的冷卻和/或潤滑流體發(fā)明描述本發(fā)明涉及改性的聚二醇在冷卻和/或潤滑流體的生產(chǎn)中的用途、新的冷卻和/或潤滑流體、冷卻和/或潤滑流體在物質(zhì)移除，尤其是在晶片的切割中的用途，以及借助切割流體生產(chǎn)的晶片。晶片是半導(dǎo)體的薄片，其例如用于光伏器件中。晶片可用于生產(chǎn)電子組件，尤其是集成電路。晶片通常由脆性物質(zhì)，例如硅構(gòu)成，但是也可以由砷化鎵或碲化鎘等構(gòu)成。晶片生產(chǎn)通常基于圓柱形或立方形的單晶或多晶，其被鋸成單獨(dú)的薄片，即晶片。鋸切(也稱為切割或切片)在實踐中是通過線鋸(wiresawing)使用基本兩種工藝進(jìn)行。所謂的松散磨料晶片切割是一種分離方法，使用細(xì)線作為切割器并使用在載液中的未結(jié)合的切割顆粒。線通常具有80-180μm的直徑。將其浸入包含載液和切割顆粒的淤漿中，并將粘附在線表面上的切割顆粒送入鋸狹縫中。切割顆粒將要鋸切/切片的制品/硅塊(稱為錠料)切成晶片，從要切割的固體除去顆粒。用于切割顆粒的載液與切割顆粒一起作為淤漿借助線通過其的浸漬浴施用且一般借助噴嘴施用。載液的一個任務(wù)為確保將切割顆粒粘附到線上并移動從要分隔的固體移除的顆粒。此外，載液具有確保冷卻并使碎屑(attritus)輸送通過鋸切口的任務(wù)。在第二種方法，即所謂的固定磨料晶片切割中，線裝有金剛石且使用冷卻流體。現(xiàn)有技術(shù)描述了相應(yīng)的冷卻流體，其出于成本和更好的除熱的原因包含水。水的存在本身在技術(shù)上是不利的，這是因為所得硅碎屑與水反應(yīng)而得到硅酸鹽、分離并形成團(tuán)塊。為了避免這些缺點，相應(yīng)的水性冷卻劑必須包含高比例的二醇和添加劑，例如分散劑、硅酸鹽抑制劑和潤濕劑。相應(yīng)的含水冷卻劑和合適的添加劑例如描述于文獻(xiàn)JP2006111728A、JP2004107620A和JP2007031502A。松散磨料晶片切割的現(xiàn)有技術(shù)如下：EP1757419A1公開了一種移除工件如晶片的方法，借助線鋸使用施用到線上的淤漿，并且對圍繞淤漿的至少部分氣態(tài)介質(zhì)的水含量進(jìn)行調(diào)節(jié)或控制。EP1757419A1還公開使用二醇作為載體物質(zhì)。DE19983092B4和US6,383,991B1公開了一種切割油，其包含a)聚醚化合物和b)二氧化硅顆粒，以及該切割油組合物在使用線鋸切割錠料，尤其是切割硅錠中的用途。EP0131657A1和US-A-4,828,735公開了基于聚醚的水基潤滑劑。中國專利申請CN101205498A同樣公開了水性切割流體，但是沒有報道吸水率的降低。詳述的具體化合物是被具有1-4個碳原子的醇醚化的聚氧化烯化合物。所述文獻(xiàn)沒有公開相應(yīng)配制劑具有特別有利的冷卻或潤滑作用。EP686684A1公開了一種由在水相中的磨料構(gòu)成的切割懸浮液，其包含一種或多種水溶性聚合物作為增稠劑。US2007/0010406A1公開了羥基聚醚作為用于水性切割流體的添加劑，它的一種可能用途為用于生產(chǎn)硅晶片。已知用于松散和固定磨料晶片切割的切割流體通常是基于水的。但是，水的存在是不利的，這是因為這可引起腐蝕，并且例如在切割硅晶片的情況下，可導(dǎo)致由于水與硅反應(yīng)而釋放出氫氣。在這里存在的另外一個問題是在晶片、線和機(jī)器上形成硅酸鹽和/或聚硅酸鹽。已知水溶性體系也可以包含水，并且由于它們的吸濕性能而吸水，使得可能存在與水性體系相同的缺點。本發(fā)明的一個目的是提供改進(jìn)的冷卻和/或潤滑流體，其尤其導(dǎo)致吸水率降低和鋸切所需的能量降低。此外，相應(yīng)冷卻和/或潤滑流體應(yīng)確保特別高的除熱和特別好的潤滑線鋸，尤其是金剛石線鋸。這些目的根據(jù)本發(fā)明通過式I化合物在生產(chǎn)用于移除物質(zhì)，尤其是使用線鋸鋸切晶片且具有降低的吸水率的冷卻和/或潤滑流體中的用途而實現(xiàn)：R1[O(EO)x(AO)yR2]z(I)其具有如下定義：R1為具有1-10個碳原子的z-價烷基，R2為氫和/或具有1-10個碳原子的一價烷基，EO為亞乙基氧基，AO為具有3-10個碳原子的亞烷基氧基，x為1-8，尤其是2-8的數(shù)，y為0.5-6，尤其是1-4的數(shù)，z為1-6，尤其是1-3的數(shù)。本發(fā)明還涉及包含至少一種通式I的化合物的冷卻和/或潤滑流體：R1[O(EO)x(AO)yR2]z(I)其具有如下定義：R1為具有1-10個碳原子的z-價烷基，R2為氫和/或具有1-10個碳原子的一價烷基，EO為亞乙基氧基，AO為具有3-10個碳原子的亞烷基氧基，x為1-6，尤其是1-4的數(shù)，y為0.5-6，尤其是1-4的數(shù)，z為1-6，尤其是1-3的數(shù)，其中冷卻和/或潤滑流體具有小于1重量％的水含量。本發(fā)明還涉及本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體在移除物質(zhì)，尤其是使用線鋸，尤其是金剛石線鋸鋸切晶片中的用途，一種使用線鋸由制品切割晶片的方法、制品和/或制品的切割處使用本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體冷卻和/或潤滑以及可通過本發(fā)明方法生產(chǎn)，尤其是通過本發(fā)明方法生產(chǎn)的晶片，尤其是硅晶片。“冷卻和/或潤滑流體”根據(jù)本發(fā)明意指相應(yīng)流體可作為冷卻流體或作為潤滑流體，或作為滿足兩種功能，即冷卻和潤滑的流體用于移除物質(zhì)的方法。本發(fā)明化合物通常對應(yīng)于通式I。R1通常為具有1-10個碳原子的z-價烷基，優(yōu)選具有1-8個碳原子的z-價烷基，例如具有1、2、3、4、5、6、7或8個碳原子的z-價烷基，尤其是戊基，例如3-甲基-1-丁醇、辛基，例如2-乙基己醇、甲基，或丁基，尤其是1-丁基。本發(fā)明因此優(yōu)選涉及本發(fā)明用途，其中在式I中，R1為具有1-6個碳原子的z-價烷基，尤其是丁基?！皕-價”就本發(fā)明而言意指基團(tuán)R1可在z個位點被z個式I的氧化烯基團(tuán)取代，即R1源于z元醇。在式I中，z通常為1-6，優(yōu)選1-3，更優(yōu)選1。根據(jù)本發(fā)明，因此，優(yōu)選使用1-3元醇R1-(OH)z作為本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體的基礎(chǔ)。R2通常為氫和/或具有1-10個碳原子的一價烷基，優(yōu)選氫。在R1為多價基團(tuán)的本發(fā)明情況下，氫和具有1-10個碳原子的一價烷基可一起作為基團(tuán)R2存在。在式I中，EO通常為亞乙基氧基，即通過氧化乙烯開環(huán)加成至醇，尤其是式R1-OH的醇或這些醇的相應(yīng)烷氧基化物上形成的基團(tuán)。在式I中，x通常為1-8，尤其是2-8，例如1、1.5、2、2.5、3、3.5、4、4.5、5、5.5、6、6.5、7、7.5或8的數(shù)。根據(jù)本發(fā)明，x可以為整數(shù)或分?jǐn)?shù)有理數(shù)。根據(jù)本發(fā)明，x描述氧化乙烯的摩爾量的平均值，在每種情況下基于1摩爾醇R1-OH。由于根據(jù)本發(fā)明可能存在具有不同氧化乙烯量的相應(yīng)分子的分布，也有可能得到x為分?jǐn)?shù)有理數(shù)。x通常通過本領(lǐng)域熟練技術(shù)人員已知的方法，例如凝膠滲透色譜、HPLC和/或NMR光譜測定。對本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體而言，x通常為1-6，優(yōu)選1-4的數(shù)，其中在這種情況下，x也可為整數(shù)或分?jǐn)?shù)有理數(shù)。根據(jù)本發(fā)明，可能的是根據(jù)本發(fā)明使用的聚二醇的制備使用醇R1-OH作為基礎(chǔ)。根據(jù)本發(fā)明，也可能的是使用醇R1-OH，其已經(jīng)具有1、2、3或4當(dāng)量的氧化乙烯，即相應(yīng)醇R1-OH的單乙二醇、二甘醇或三甘醇。因此優(yōu)選醇R1-OH的單乙二醇或二甘醇，例如丁基單乙二醇(BMG)或丁基二甘醇(BDG)可用作起始劑醇。在式I中，AO通常為具有3-10個碳原子的亞烷基氧基，優(yōu)選亞丙基氧基(PO)、亞丁基氧基(BuO)和/或亞戊基氧基(PeO)，即通過氧化丙烯、氧化丁烯和/或氧化戊烯開環(huán)加成至醇，尤其是式R1-OH的醇或這些醇的烷氧基化物而形成的基團(tuán)。根據(jù)本發(fā)明，還可能的是使用醇R1-OH，其已與1、2、3或4當(dāng)量氧化烯(AO)反應(yīng)，即相應(yīng)R1-OH的單、二或三-亞烷基二醇。因此優(yōu)選還可以使用烷基亞烷基二醇，例如甲基二丙二醇(MDP)作為起始劑醇。在式I中，y通常為0.5-6，尤其是1-4，例如0.5、1、1.5、2、2.5、3、3.5或4的數(shù)。根據(jù)本發(fā)明，y可以為整數(shù)或分?jǐn)?shù)有理數(shù)。根據(jù)本發(fā)明，y描述氧化烯的摩爾量的平均值，在每種情況下基于1摩爾醇R1-OH。由于根據(jù)本發(fā)明可能存在具有不同氧化烯量的相應(yīng)分子的分布，也有可能得到y(tǒng)為分?jǐn)?shù)有理數(shù)。y通常通過本領(lǐng)域熟練技術(shù)人員已知的方法，例如凝膠滲透色譜、HPLC和/或NMR光譜測定。在相應(yīng)式I化合物中，重復(fù)單元(EO)和(AO)可以以嵌段或無規(guī)分布存在。在一個優(yōu)選實施方案中，它呈無規(guī)分布。在嵌段或無規(guī)分布的情況下，首先一個或多個(EO)分子或一個或多個(AO)分子可鍵合于醇R1-OH。在一個優(yōu)選實施方案中，冷卻和/或潤滑流體由式I化合物構(gòu)成。式I化合物的分子量優(yōu)選為120-800g/mol。非常特別優(yōu)選的式I化合物選自(3-甲基-1-丁醇)-(PO)1.5-(EO)5.0(優(yōu)選以嵌段模式制備)，(2-乙基己醇)-(PO)1.0-(EO)5.0(優(yōu)選以嵌段模式制備)，(甲基二甘醇)-(PeO)2.0-(EO)6.0(優(yōu)選以嵌段模式制備)，(1-丁基單乙二醇)-(PO)3.0-(EO)2.5(優(yōu)選以無規(guī)模式制備)，(1-丁基三甘醇)-(PO)3.0及其混合物。對式I化合物所述的通用和優(yōu)選實施方案也與本發(fā)明用途和本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體本身依賴相關(guān)。本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體的特征更特別在于其在用于移除物質(zhì)的情況下，特別有效地潤滑。這可以例如通過在使用潤滑流體的情況下，不銹鋼圓柱體的磨耗程度而測定。為此，通過本領(lǐng)域熟練技術(shù)人員已知的摩擦方法，例如在Reichert天平上，磨耗特征經(jīng)由圓柱體重量的降低而測定。重量的降低以mg報道且與根據(jù)本發(fā)明使用的冷卻和潤滑流體的潤滑作用直接成比例。根據(jù)本發(fā)明，碎屑優(yōu)選小于60mg，優(yōu)選小于50mg，更優(yōu)選小于45mg，在每種情況下以在Reichert天平上測得的所用不銹鋼圓柱體的重量降低測量。本發(fā)明因此優(yōu)選涉及本發(fā)明用途，其中碎屑小于60mg，優(yōu)選小于50mg，更優(yōu)選小于45mg，在每種情況下以在Reichert天平上測得的所用不銹鋼圓柱體的重量降低測量。本發(fā)明因此優(yōu)選還涉及本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體，其中磨料小于60mg，優(yōu)選小于50mg，更優(yōu)選小于45mg，在每種情況下以在Reichert天平上測得的所用不銹鋼圓柱體的重量降低測量。根據(jù)本發(fā)明，冷卻和/或潤滑流體在V2A鋼上在25℃下在1秒后的接觸角優(yōu)選為10-40°，更優(yōu)選10-35°。本發(fā)明因此優(yōu)選涉及本發(fā)明用途，其中冷卻和/或潤滑流體在V2A鋼上在25℃下在1秒后的接觸角為10-40°，優(yōu)選10-35°。根據(jù)本發(fā)明，冷卻和/或潤滑流體在20℃下的粘度優(yōu)選為36-120mPas，更優(yōu)選38-110mPas。本發(fā)明因此優(yōu)選涉及本發(fā)明用途，其中冷卻和/或潤滑流體在20℃下的粘度優(yōu)選為15-120mPas，更優(yōu)選20-110mPas，最優(yōu)選38-110mPas。本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體不僅可包含一種式I化合物，而且可以包含式I化合物的混合物。對通式I化合物和本發(fā)明用途所述的通用和優(yōu)選性質(zhì)也與本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體本身依賴相關(guān)。式I化合物的制備是本身已知的；例如參見NonionicSurfactants，MartinJ.Schick編輯，第2卷，第4章(MarcelDekker,Inc.,NewYork1967)。本發(fā)明冷卻劑和/或潤滑劑通?？捎糜谒斜绢I(lǐng)域熟練技術(shù)人員已知用于移除物質(zhì)，尤其是使用線鋸鋸切晶片的方法。優(yōu)選在所謂的松散磨料晶片切割方法或固定磨料晶片切割方法中使用本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體。松散磨料晶片切割方法對本領(lǐng)域熟練技術(shù)人員本身是已知的。除了至少一種式I化合物以外，該配制劑還包含用于鋸切的磨料和任選下文詳細(xì)定義的其它添加劑?？梢允褂贸Ｒ?guī)的磨料，尤其是磨料和/或切割顆粒，例如金屬、金屬和半金屬，碳化物、氮化物、氧化物、硼化物或金剛石顆粒。特別優(yōu)選的切割顆粒為碳化物和硼化物顆粒，尤其是碳化硅(SiC)顆粒。作為要切割的物質(zhì)和晶片的函數(shù)，切割顆粒優(yōu)選具有調(diào)節(jié)的幾何形狀；優(yōu)選的粒度為0.5-50μm。切割顆?？梢砸苑蔷喾稚⒒蚓喾稚⒌男问酱嬖?。切割顆粒優(yōu)選以25-60重量％，尤其是40-50重量％的濃度存在于冷卻和/或潤滑流體。根據(jù)本發(fā)明特別優(yōu)選將冷卻和/或潤滑流體用于固定磨料晶片切割方法，尤其是使用金剛石線鋸的方法。本發(fā)明因此優(yōu)選涉及本發(fā)明用途，其中冷卻和/或潤滑流體用于固定磨料晶片切割方法，尤其是使用金剛石線鋸的方法。根據(jù)本發(fā)明，要生產(chǎn)的晶片包含半導(dǎo)體材料，尤其是硅、GaAs、CdTe或陶瓷材料；晶片更優(yōu)選由半導(dǎo)體材料，尤其是硅、GaAs、CdTe或陶瓷材料構(gòu)成；特別優(yōu)選單晶和多晶硅，非常特別優(yōu)選單晶硅。本發(fā)明因此優(yōu)選涉及本發(fā)明用途，其中晶片包含半導(dǎo)體材料，尤其是硅，尤其是由硅構(gòu)成。這些晶片由圓柱形或立方形的相應(yīng)半導(dǎo)體材料塊料通過使用線鋸鋸切而得到。根據(jù)本發(fā)明，可能的是這些塊料呈單晶或多晶形式。在其中本發(fā)明冷卻和潤滑流體用于固定磨料晶片切割方法的根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選的實施方案中，根據(jù)本發(fā)明可以加工單或多晶的半導(dǎo)體材料塊料。在這種情況下，在一個優(yōu)選實施方案中，除了一種或多種通式I的化合物，冷卻和/或潤滑流體不包含任何其它成分，這意指在該實施方案中，本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體由一種或多種通式I的化合物構(gòu)成。根據(jù)本發(fā)明使用的冷卻和/或潤滑流體通常可包含1-50重量％水。在一個優(yōu)選實施方案中，所用冷卻和/或潤滑流體具有小于1重量％，更優(yōu)選小于0.5重量％，最優(yōu)選小于0.1重量％的水含量。本發(fā)明因此優(yōu)選涉及本發(fā)明用途，其中冷卻和/或潤滑流體具有小于1重量％，更優(yōu)選小于0.5重量％，最優(yōu)選小于0.1重量％的水含量。更優(yōu)選根據(jù)本發(fā)明，所用冷卻和/或潤滑流體具有小于1重量％，更優(yōu)選小于0.5重量％，最優(yōu)選小于0.1重量％的水含量，且用于固定磨料晶片切割方法，尤其是使用金剛石線鋸的方法。本發(fā)明因此優(yōu)選涉及本發(fā)明用途，其中冷卻和/或潤滑流體具有小于1重量％，更優(yōu)選小于0.5重量％，最優(yōu)選小于0.1重量％的水含量，且用于固定磨料晶片切割方法，尤其是使用金剛石線鋸的方法。此外，本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體具有降低的吸水率。吸水率例如為0-16重量％，優(yōu)選0.1-12重量％，更優(yōu)選0.1-11重量％，在每種情況下通過在38℃和78％相對空氣濕度下儲存7小時之后的重量差而測定。本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體的水含量可根據(jù)熟練技術(shù)人員已知的方法獲悉。水含量的下限例如為大于1重量ppm，更優(yōu)選大于10重量ppm。使用所述具有特別低水含量的冷卻和/或潤滑流體的本發(fā)明優(yōu)點在于由于不存在水，硅顆粒碎屑不形成硅酸鹽。硅酸鹽使得所用冷卻和/或潤滑流體的后處理復(fù)雜化且因此使得這些流體的再循環(huán)復(fù)雜化。在不存在硅酸鹽下，尤其使得硅碎屑的再循環(huán)更容易。本發(fā)明因此優(yōu)選涉及本發(fā)明用途，其中將冷卻和/或潤滑流體在移除物質(zhì)，尤其是在使用線鋸鋸切晶片后后處理和/或再循環(huán)以移除所得碎屑。本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體的另一優(yōu)點在于無需加入任何意欲例如防止硅酸鹽形成或產(chǎn)生更好潤滑的添加劑。該事實非常利于流體的再循環(huán)。在本發(fā)明方法的一個優(yōu)選實施方案中，借助本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體，在固定磨料晶片切割方法中得到可具有不規(guī)則晶體結(jié)構(gòu)且包括例如SiC的多晶晶片。使其成為可能的一個因素為本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體具有改善得多的潤滑性。此外，本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體具有的優(yōu)點為其易溶于水，這意指在晶體鋸切之后，其可以通過用水或水溶液漂洗而容易地清洗。對于其中本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體用作水含量為例如1-50重量％的水性配制劑的根據(jù)本發(fā)明的可能的其它實施方案而言，優(yōu)選將添加劑加入配制劑中。這些添加劑對本領(lǐng)域熟練技術(shù)人員是已知的且描述于下文中。在本發(fā)明的一個實施方案中，除了式I化合物，存在基于氧化乙烯、氧化丙烯的亞烷基醇或由氧化乙烯和氧化丙烯形成的共聚物，優(yōu)選具有200-800g/mol的分子量。用于本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體的其它可能的添加劑為例如：單亞烷基二醇、低聚亞烷基二醇或聚亞烷基二醇，潤濕劑，分散劑，腐蝕抑制劑，絡(luò)合劑，和/或其它添加劑，例如污垢抑制劑。例如至少一種以下添加劑按照以下重量份/100重量份化合物I的量加入：亞烷基二醇：10-90，尤其是20-60重量份，潤濕劑：1-100，尤其是10-40重量份，分散劑：0.1-20，尤其是0.5-10重量份，腐蝕抑制劑：0.1-10，尤其是0.1-3重量份，絡(luò)合劑：0.1-10，尤其是1-5重量份，其它添加劑：0.05-10，尤其是0.1-5重量份。特別優(yōu)選的添加劑是如下所述:潤濕劑除了根據(jù)本發(fā)明使用的式I化合物之外，可以使用其它潤濕劑，尤其是：(1)以下物質(zhì)的聚(氧亞烷基)衍生物：a)脫水山梨糖醇酯，例如聚(氧乙烯)脫水山梨糖醇單月桂酸酯、聚(氧乙烯)脫水山梨糖醇單油酸酯、聚(氧乙烯)脫水山梨糖醇三油酸酯，b)脂肪胺，例如牛油氨基乙氧基化物、大豆氨基乙氧基化物，c)蓖麻油，例如蓖麻油乙氧基化物，d)鏈烷醇酰胺，例如椰油鏈烷醇酰胺乙氧基化物，e)脂肪酸，例如油酸乙氧基化物、月桂酸乙氧基化物、棕櫚酸乙氧基化物，f)脂肪醇，g)線性醇乙氧基化物、壬基酚乙氧基化物、辛基酚乙氧基化物，(2)親水性聚二甲基硅氧烷a)被至少一個羰基端基取代的聚(二甲基)硅氧烷，聚(二甲基)硅氧烷共聚物，c)聚(二甲基硅氧烷)-b-聚(氧化丙烯)-b-聚(氧化乙烯)共聚物，d)聚季(二甲基硅氧烷)共聚物(3)脂肪咪唑啉(4)以下物質(zhì)的脂肪酸酯：a)磷酸酯，b)脫水山梨糖醇c)甘油化合物，例如單油酸甘油酯、二油酸甘油酯、三油酸甘油酯，二月桂酸酯，e)磺基琥珀酸，(5)季銨化合物，例如甲基硫酸季銨鹽。其它合適的非離子性、陽離子性、陰離子性或兩性潤濕劑尤其是：-烷氧基化C4-C22醇，例如脂肪醇烷氧基化物或羰基合成醇烷氧基化物。它們可以被氧化乙烯、氧化丙烯和/或氧化丁烯烷氧基化。所有具有至少兩分子的一種上述加成的氧化烯的烷氧基化醇可以用作潤濕劑?？赡艿倪@種化合物是氧化乙烯、氧化丙烯和/或氧化丁烯的嵌段聚合物，或含有無規(guī)分布或嵌段的上述氧化烯的加成產(chǎn)物。非離子性潤濕劑通常每摩爾醇含有2-50摩爾，優(yōu)選3-20摩爾的至少一種氧化烯。醇優(yōu)選具有10-18個碳原子。取決于制備中使用的烷氧基化催化劑的類型、制備方法和后處理，烷氧基化物具有寬或窄的氧化烯同系物分布；-烷基酚烷氧基化物，例如具有C6-C14烷基鏈和5-30個氧化烯單元的烷基酚乙氧基化物；-烷基聚葡糖苷，其在烷基鏈中具有8-22個，優(yōu)選10-18個碳原子且通常具有1-20個，優(yōu)選1.1-5個葡糖苷單元，脫水山梨糖醇鏈烷酸酯，也是被烷氧基化的；-N-烷基葡糖酰胺，脂肪酸烷氧基化物，脂肪酸胺烷氧基化物，脂肪酸酰胺烷氧基化物，脂肪酸鏈烷醇酰胺烷氧基化物，氧化乙烯、氧化丙烯和/或氧化丁烯的烷氧基化嵌段共聚物，聚異丁烯乙氧基化物，聚異丁烯-馬來酸酐衍生物，任選烷氧基化的甘油單酯、甘油單硬脂酸酯、脫水山梨糖醇酯和甘油二酯。特別有用的非離子性潤濕劑是烷基烷氧基化物或烷基烷氧基化物的混合物，描述于例如DE-A10243363、DE-A10243361、DE-A10243360、DE-A10243365、DE-A10243366、DE-A10243362或DE-A4325237。它們是通過鏈烷醇與氧化烯在烷氧基化催化劑存在下反應(yīng)獲得的烷氧基化產(chǎn)物，或烷氧基化產(chǎn)物的混合物。特別合適的起始劑醇是格爾伯特醇，尤其是乙基己醇、丙基庚醇和丁基辛醇。特別優(yōu)選丙基庚醇。優(yōu)選的氧化烯是氧化丙烯和氧化乙烯，其中特別優(yōu)選的是在優(yōu)選短聚氧丙烯嵌段和起始劑醇之間具有直接鍵的烷基烷氧基化物，描述于例如DE-A10243365，這是因為其具有低的殘余醇含量和優(yōu)良的生物降解性。合適的非離子性潤濕劑的優(yōu)選類別是具有通式(NI)的醇烷氧基化物：R1-O-(CH2-CHR5-O-)r(CH2-CH2-O-)n(CH2-CHR6-O-)s(CH2-CHR2-O-)mH(NI)其中R1是至少單支化的C4-22烷基或烷基酚，R2是C3-4烷基，R5是C1-4烷基，R6是甲基或乙基，n是在1-50的平均值，m是在0-20，優(yōu)選0.5-20的平均值，r是在0-50的平均值，s是在0-50的平均值，其中當(dāng)R5是甲基或乙基或者r是0時，m是至少0.5。另外的可能混合物為20-95重量％，優(yōu)選30-95重量％的至少一種上述醇烷氧基化物和5-80重量％，優(yōu)選5-70重量％的其中R1是具有相同碳原子數(shù)目的未支化的烷基的相應(yīng)醇烷氧基化物的那些。還有用的是具有通式(NII)的醇烷氧基化物：R3-O-(CH2-CH2-O)p(CH2-CHR4-O-)qH(NII)其中R3是支化或未支化的C4-22烷基或烷基酚，R4是C3-4烷基，p是在1-50，優(yōu)選4-15的平均值，q是在0.5-20，優(yōu)選0.5-4，更優(yōu)選0.5-2的平均值。另外的可能混合物是5-95重量％的至少一種直接在上文中描述的支化醇烷氧基化物(NII)和5-95重量％的其中未支化的烷基代替支化的烷基存在的相應(yīng)醇烷氧基化物的那些。在通式(NI)的醇烷氧基化物中，R2優(yōu)選是丙基，尤其是正丙基。在通式(NII)的醇烷氧基化物中，n優(yōu)選具有在4-15，更優(yōu)選6-12，尤其是7-10的平均值。m優(yōu)選具有的平均值為0.5-4，更優(yōu)選0.5-2，尤其是1-2?；鶊F(tuán)R1優(yōu)選是C8-15烷基，更優(yōu)選C8-13烷基，尤其是C8-12烷基，其是至少單支化的。也可以存在多個支鏈。R5優(yōu)選是甲基或乙基，尤其是甲基。R6優(yōu)選是乙基。在混合物中，存在具有未支化和支化的醇基團(tuán)R1的化合物。例如對于具有一定比例線性醇鏈和一定比例的支化醇鏈的羰基合成醇，就是這種情況。例如，C13/15羰基合成醇通常具有約60重量％的完全線性醇鏈以及約40重量％的α-甲基支化和C≥2支化的醇鏈。在通式(NII)的醇烷氧基化物中，R3優(yōu)選是支化或未支化的C8-15烷基，更優(yōu)選支化或未支化的C8-13烷基，尤其是支化或未支化的C8-12烷基。R4優(yōu)選是丙基，尤其是正丙基。p優(yōu)選具有在4-15的平均值，更優(yōu)選平均值為6-12，尤其是平均值為7-10，q優(yōu)選具有在0.5-4，更優(yōu)選0.5-2，尤其是1-2的平均值。以與通式(NI)的醇烷氧基化物相似的方式，通式(NII)的醇烷氧基化物也可以作為具有未支化和支化的醇基團(tuán)的混合物存在?？赡艿淖鳛榇纪檠趸锘A(chǔ)的醇組分不僅包括純的鏈烷醇，而且包括具有一定范圍碳原子的同系混合物。實例是C8/10鏈烷醇，C10/12鏈烷醇，C13/15鏈烷醇，C12/15鏈烷醇。多種鏈烷醇的混合物也是可能的。上述本發(fā)明的鏈烷醇烷氧基化物或混合物優(yōu)選通過如下制備：通式R1-OH或R3-OH的醇或相應(yīng)支化和未支化醇的混合物任選地先與C3-6氧化烯反應(yīng)，然后與氧化乙烯反應(yīng)，和隨后任選地與C3-4氧化烯反應(yīng)，然后與合適的C5-6氧化烯反應(yīng)。烷氧基化是優(yōu)選在烷氧基化催化劑的存在下進(jìn)行。尤其是這里使用堿性催化劑，例如氫氧化鉀。被引入的氧化烯的量的無規(guī)分布可以受到具體的烷氧基化催化劑的極大限制，例如改性膨潤土或水滑石，描述于例如WO95/04024，從而獲得“窄范圍”烷氧基化物。在本發(fā)明的一個具體實施方案中，烷氧基化物是烷氧基化物混合物，其含有通式(NIII)的烷氧基化物：C5H11CH(C3H7)CH2O(B)p(A)n(B)m(A)qH(NIII)其中A是亞乙基氧基,基團(tuán)B各自獨(dú)立地是C3-10亞烷基氧基，優(yōu)選亞丙基氧基、亞丁基氧基、亞戊基氧基或它們的混合物，其中基團(tuán)A和B以嵌段的形式按照所示順序存在，p是0-10，n為>0至20，m為>0至20，q為>0至10，p+n+m+q是至少1，其中在所述混合物中存在：70-99重量％的烷氧基化物A1，其中C5H11是n-C5H11，和1-30重量％的烷氧基化物A2，其中C5H11是C2H5CH(CH3)CH2和/或CH3CH(CH3)CH2CH2。在通式(NIII)中，p是0-10，優(yōu)選0-5，尤其是0-3。如果存在嵌段(B)p，則p優(yōu)選是0.1-10，更優(yōu)選0.5-5，尤其是1-3。在通式(NIII)中，n優(yōu)選在0.25-10的范圍內(nèi)，尤其是0.5-7，m優(yōu)選在2-10，尤其是3-6的范圍內(nèi)。B優(yōu)選是亞丙基氧基和/或亞丁基氧基，特別是在兩個位置上都是亞丙基氧基。q優(yōu)選在1-5的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在2-3的范圍內(nèi)?？偤蚿+n+m+q是至少1，優(yōu)選3-25，更優(yōu)選5-15，尤其是7-13。優(yōu)選3或4個氧化烯嵌段存在于烷氧基化物中。在一個實施方案中，首先亞乙基氧基單元、然后亞丙基氧基單元、再然后亞乙基氧基單元與醇基團(tuán)相連。在另一個實施方案中，首先亞丙基氧基單元、然后亞乙基氧基單元、然后亞丙基氧基單元和最后亞乙基氧基單元與醇基團(tuán)相連。也可以用其它亞烷基氧基單元代替亞丙基氧基單元存在。p、n、m和q各自是烷氧基化物的平均值。因此，p、n、m、q也可以具有非整數(shù)的值。鏈烷醇的烷氧基化通常得到烷氧基化度的分布，這可以在一定程度上通過使用不同的烷氧基化催化劑設(shè)定。適量的基團(tuán)A和B的選擇能使得本發(fā)明烷氧基化物混合物的性能分布與實際需要匹配。烷氧基化物混合物通過母體醇C5H11CH(C3H7)CH2OH的烷氧基化獲得。起始醇可以是各個組分混合，從而得到根據(jù)本發(fā)明的比率。它們可以通過戊醛的醇醛縮合以及隨后的氫化制備。戊醛和相應(yīng)異構(gòu)體通過丁烯的加氫甲酰化制備，描述于例如US4,287,370；BeilsteinEIV1，3268,UllmannsEncyclopediaofIndustrialChemistry，第5版，第A1卷，第323和328頁及隨后各頁。隨后的醇醛縮合反應(yīng)例如描述于US5,434,313和ChemieLexikon，第9版，關(guān)鍵詞“醇醛加成(Aldol-Addition)"，第91頁。醇醛縮合產(chǎn)物的氫化遵循通用的氫化條件。此外，2-丙基庚醇可以通過1-戊醇(作為相應(yīng)1-甲基丁醇的混合物)在KOH的存在下在升高的溫度下反應(yīng)制備，參見例如MarcelGuerbet，C.R.AcadSciParis128，511，1002(1899)。也可以參見ChemieLexikon，第9版，GeorgThiemeVerlagStuttgart和其中引用的文獻(xiàn)；以及Tetrahedron，第23卷，第1723-1733頁。在通式(NIII)中，基團(tuán)C5H11可以是n-C5H11、C2H5CH(CH3)CH2或CH3CH(CH3)CH2CH2。烷氧基化物是混合物，其中：-存在70-99重量％，優(yōu)選85-96重量％的烷氧基化物A1，其中C5H11是n-C5H11，和-存在1-30重量％，優(yōu)選4-15重量％的烷氧基化物A2，其中C5H11是C2H5CH(CH3)CH2和/或CH3CH(CH3)CH2CH2?；鶊F(tuán)C3H7優(yōu)選是n-C3H7。烷氧基化物也可以是具有通式(NV)的嵌段的異十三醇烷氧基化物：R-O-(CmH2mO)x-(CnH2nO)y-H(NV)其中R是異十三烷基，m是2且同時n是3或4，或者m是3或4且同時n是2，和x和y各自獨(dú)立地是1-20，其中在m＝2/n＝3或4的情況下，變量x是大于或等于y。這些嵌段的異十三醇烷氧基化物描述于例如DE19621843A1。另一類合適的非離子性表面活性劑是封端的醇烷氧基化物，尤其是上述醇烷氧基化物。在一個具體實施方案中，封端的醇烷氧基化物是與具有通式(NI)、(NII)、(NIII)和(NV)的醇烷氧基化物對應(yīng)的封端的醇烷氧基化物。端基可以例如通過以下物質(zhì)產(chǎn)生：硫酸二烷基酯，C1-10烷基鹵化物，C1-10苯基鹵化物，優(yōu)選氯化物、溴化物，更優(yōu)選環(huán)己基氯化物、環(huán)己基溴化物、苯基氯化物或苯基溴化物。封端的烷氧基化物的實例也描述在DE-A3726121中，通過引用將其全部相關(guān)內(nèi)容并入本發(fā)明。在一個優(yōu)選實施方案中，這些醇烷氧基化物具有通式結(jié)構(gòu)(NVI)，RI-O-(CH2-CHRII-O)m’(CH2-CHRIIIO)n’RIV(NVI)其中RI是氫或C1-C20烷基,RII和RIII是相同或不同的，并且各自獨(dú)立地是氫、甲基或乙基，RIV是C1-C10烷基，優(yōu)選C1-C4烷基，或環(huán)己基或苯基，m’和n’是相同或不同的，并且各自是大于或等于0，條件為m’和n’的總和是3-300。另一類非離子性潤濕劑是烷基聚葡糖苷，其優(yōu)選在烷基鏈中具有6-22個，更優(yōu)選10-18個碳原子。這些化合物通常含有1-20個，優(yōu)選1.1-5個葡糖苷單元。其它可能的非離子性潤濕劑是由WO-A95/11225已知的具有以下通式的封端的脂肪酸酰胺烷氧基化物：Rl-CO-NH-(CH2)y-O-(A1O)x-R2其中Rl是C5-C21烷基或鏈烯基，R2是Cl-C4烷基，Al是C2-C4亞烷基，y是2或3，和x是1-6。這些化合物的實例是式H2N-(CH2-CH2-O)3-C4H9的正丁基三乙二醇胺與十二烷酸甲基酯的反應(yīng)產(chǎn)物，或式H2N-(CH2-CH2-O)4-C2H5的乙基四乙二醇胺與飽和C8-C18甲基脂肪酸酯的市售混合物的反應(yīng)產(chǎn)物。其它合適的非離子性潤濕劑是聚羥基或聚烷氧基脂肪酸衍生物，例如多羥基脂肪酸酰胺，N-烷氧基或N-芳氧基聚羥基脂肪酸酰胺，脂肪酸酰胺乙氧基化物，尤其是封端的脂肪酸酰胺乙氧基化物，以及脂肪酸鏈烷醇酰胺烷氧基化物。其它合適的非離子性潤濕劑是氧化乙烯、氧化丙烯和/或氧化丁烯的嵌段共聚物(和產(chǎn)品，來自BASFSE和BASFCorp.)。在一個優(yōu)選實施方案中，這些共聚物是具有聚乙烯/聚丙烯/聚乙烯嵌段的三嵌段共聚物，并且分子量為4000-16000，其中聚乙烯嵌段的重量比例是55-90％，基于三嵌段共聚物。特別優(yōu)選的是具有分子量大于8000且聚乙烯含量為60-85重量％的三嵌段共聚物，基于三嵌段共聚物。這些優(yōu)選的三嵌段共聚物更特別可以以商品名PluronicF127、PluronicF108和PluronicF98市購，在每種情況下獲自BASFCorp.，并且描述在WO01/47472A2中，將其全部相關(guān)內(nèi)容通過引用并入本文。此外，也優(yōu)選使用在一端或兩端被封端的氧化乙烯、氧化丙烯和/或氧化丁烯的嵌段共聚物。在一端的封端是例如通過使用醇，尤其是C1-22烷基醇，例如甲醇作為起始化合物用于與氧化烯反應(yīng)實現(xiàn)的。此外，兩端的封端例如可以通過游離嵌段共聚物與以下物質(zhì)反應(yīng)實現(xiàn)：硫酸二烷基酯，C1-10烷基鹵化物，C1-10苯基鹵化物，優(yōu)選氯化物、溴化物，更優(yōu)選環(huán)己基氯化物、環(huán)己基溴化物、苯基氯化物或苯基溴化物?？梢允褂脝为?dú)的非離子性潤濕劑或不同非離子性表面活性劑的組合物。也可以使用僅僅一種類別的非離子性潤濕劑，尤其是僅僅烷氧基化C4-C22醇。但是，作為替換，也可以使用來自不同類別的潤濕劑混合物。非離子性潤濕劑在本發(fā)明組合物中的濃度可以隨著瀝濾條件而變化，尤其是根據(jù)要瀝濾的物質(zhì)。合適的陰離子性潤濕劑是鏈烷磺酸鹽，例如C8-C24，優(yōu)選Cl0-C18鏈烷磺酸鹽，以及皂，例如飽和和/或不飽和C8-C24羧酸的Na和K鹽。其它合適的陰離子性潤濕劑是線性C8-C20烷基苯磺酸鹽(“LAS”)，優(yōu)選線性C9-C13烷基苯磺酸鹽和烷基甲苯磺酸鹽。分散劑/污垢抑制劑根據(jù)本發(fā)明可以另外使用至少一種分散劑，例如選自萘磺酸的鹽，萘磺酸和甲醛的縮合產(chǎn)物，以及聚羧酸鹽。這種類型的分散劑可以市購，例如以商品名BASFSE的和和以商品名Lubrizol的這些分散劑也可以用作污垢抑制(防沉積劑)，這是因為它們分散在堿性介質(zhì)中形成的碳酸鈣CaCO3，從而防止例如噴嘴的堵塞或在管道中形成沉積物。與此獨(dú)立地，本發(fā)明組合物可以另外含有至少一種其它污垢抑制劑。合適的污垢抑制劑例如描述于WO04/099092，其中描述了(甲基)丙烯酸共聚物，其含有：(a)50-80重量％，優(yōu)選50-75重量％，更優(yōu)選55-70重量％的聚(甲基)丙烯酸骨架，(b)1-40重量％，優(yōu)選5-20重量％，更優(yōu)選7-15重量％的至少一種選自以下的單元：異丁烯單元、對內(nèi)酯(terelactone)單元和異丙醇單元，并且與骨架結(jié)合和/或引入骨架中，和(c)5-50重量％，優(yōu)選5-40重量％，更優(yōu)選10-30重量％的基于氨基烷基磺酸的酰胺單元，其中在(甲基)丙烯酸共聚物中的單元的總重量是100重量％，并且所有重量百分比基于(甲基)丙烯酸共聚物。根據(jù)WO04/099092提供的(甲基)丙烯酸共聚物優(yōu)選具有含砜基團(tuán)的聚合物的重均分子量為1000-20000g/mol，并且可以優(yōu)選通過以下工藝步驟制備：(1)(甲基)丙烯酸在異丙醇和任選地水的存在下進(jìn)行自由基聚合，得到聚合物I，和(2)將來自工藝步驟(1)的聚合物I通過與至少一種氨基鏈烷磺酸反應(yīng)進(jìn)行酰胺化。其它合適的污垢抑制劑是例如：-聚羧酸單酰胺，其可以通過含酐的聚合物與含氨基的化合物反應(yīng)獲得(如DE19548318所述)，-乙烯基乳酸和/或異丙烯基乳酸(如DE19719516所述)，-丙烯酸均聚物(如US-A-3756257所述)，-丙烯酸和/或(甲基)丙烯酸和乙烯基乳酸和/或異丙烯基乳酸的共聚物，-苯乙烯和乙烯基乳酸的共聚物，-馬來酸和丙烯酸的共聚物，-水溶性或水分散性的接枝聚合物，其可以通過以下物質(zhì)的自由基引發(fā)的接枝聚合獲得:(I)至少一種單烯屬不飽和單體，(II)單烯屬不飽和二羧酸或其酸酐的聚合物，其摩爾質(zhì)量為200-5000g/mol，(III)其中每100重量份的接枝底物(II)使用5-2000重量份的(I)(DE19503546)，-任選地水解的聚馬來酸酐及其鹽(如US-A-3810834、GB-A-1454657和EP-A-0261589所述)，-亞氨基二琥珀酸鹽(如DE10102209所述)，-含有絡(luò)合劑的配制劑，絡(luò)合劑是例如乙二胺四乙酸(EDTA)和/或二亞乙基三胺五乙酸(DTPA)(如US5,366,016所述)，-膦酸鹽，-聚丙烯酸酯，-聚天冬氨酸或已改性的聚天冬氨酸，如DE-A-4434463所述，-聚天冬氨酸酰胺，-含有異羥肟酸、異羥肟酸醚和/或酰肼基團(tuán)的聚合物(如DE4427630所述)，-任選地水解的馬來酰亞胺聚合物(如DE4342930所述)，-萘基胺聚羧酸鹽(如EP0538969所述)，-氧雜鏈烷聚膦酸(如EP330075所述)，-聚羥基鏈烷氨基二亞甲基膦酸(如DE4016753所述)，和-氧化的聚葡聚糖(如DE4330339所述)。特別優(yōu)選的分散劑是聚丙烯酸，例如來自BASFSE的產(chǎn)品，和聚天冬氨酸，尤其是β-聚天冬氨酸，其具有2000-10000g/mol的分子量。優(yōu)選的含羧酸基團(tuán)的聚合物是EP2083067A1中描述的丙烯酸均聚物。它們優(yōu)選具有在1000-50000，更優(yōu)選1500-20000范圍內(nèi)的數(shù)均分子量。特別適合作為含羧酸基團(tuán)的聚合物的丙烯酸均聚物是來自BASFSE的PA產(chǎn)品。其它合適的含羧酸基團(tuán)的聚合物是低聚馬來酸，例如描述于EP-A451508和EP-A396303。優(yōu)選作為含羧酸基團(tuán)的聚合物的其它化合物是這樣的共聚物，其以共聚形式含有至少一種不飽和單羧酸或二羧酸或二羧酸酐或其鹽作為單體A)和至少一種共聚單體B)。單體A)優(yōu)選選自C3-C10單羧酸，C3-C10單羧酸的鹽，C4-C8二羧酸，C4-C8二羧酸的酸酐，C4-C8二羧酸的鹽，以及它們的混合物。鹽形式的單體A)優(yōu)選以它們的水溶性鹽形式使用，特別是堿金屬鹽，例如鉀鹽和尤其是鈉鹽，或銨鹽。單體A)可以在每種情況下完全或部分地以酸酐形式存在。當(dāng)然，也可以使用單體A)的混合物。單體(A)優(yōu)選選自丙烯酸，甲基丙烯酸，巴豆酸，乙烯基乙酸，馬來酸，馬來酸酐，富馬酸，檸康酸，檸康酸酐，衣康酸，以及它們的混合物。特別優(yōu)選的單體A)是丙烯酸，甲基丙烯酸，馬來酸，馬來酸酐，以及它們的混合物。這些共聚物優(yōu)選以共聚形式含有5-95重量％，更優(yōu)選20-80重量％，尤其是30-70重量％的至少一種單體A)，基于用于聚合的單體的總重量。腐蝕抑制劑用作腐蝕抑制劑的試劑是例如在WO2008/071582A1中描述的那些，例如羧酸。它們可以是線性或支化的。各種羧酸的混合物可以是特別優(yōu)選的。辛酸、乙基己酸、異壬酸和異癸酸是特別優(yōu)選的羧酸。因為防腐蝕乳液通常是中性到弱堿性的，所以可以有利地使用至少部分呈中和形式的羧酸，即以鹽形式使用。氫氧化鈉和/或氫氧化鉀以及鏈烷醇胺特別適合用于中和。特別優(yōu)選使用單鏈烷醇胺和/或三鏈烷醇胺。使用二鏈烷醇胺是不太優(yōu)選的，這是因為存在形成硝基胺的風(fēng)險。二鏈烷醇胺可以單獨(dú)地或作為與單鏈烷醇胺和/或三鏈烷醇胺一起很好地用于中和。合適的腐蝕抑制劑尤其是：具有14-36個碳原子的脂族羧酸酰胺，例如肉豆蔻酰胺、棕櫚酰胺以及油酰胺；具有6-36個碳原子的鏈烯基琥珀酰胺，例如辛烯基琥珀酰胺、十二碳烯基琥珀酰胺；巰基苯并三唑。特別優(yōu)選的腐蝕抑制劑是與脂族胺的氧化烯加合物，尤其是與2-8摩爾％氧化丙烯的三乙醇胺和乙二胺加合物。絡(luò)合劑絡(luò)合劑是結(jié)合陽離子的化合物。典型的實例是：EDTA(N,N,N',N'-乙二胺四乙酸)、NTA(N,N,N-次氮基三乙酸)、MGDA(2-甲基甘氨酸-N,N-二乙酸)、GLDA(谷氨酸二乙酸酯)、ASDA(天冬氨酸二乙酸酯)、IDS(亞氨基二琥珀酸酯)、HEIDA(羥基乙基亞胺二乙酸酯)、EDDS(乙二胺二琥珀酸酯)、檸檬酸，氧基二琥珀酸，以及丁烷四羧酸，以及它們的完全或部分中和的堿金屬鹽或銨鹽。其它添加劑特別合適的添加劑為用于硅酸鹽的污垢抑制劑。這些優(yōu)選為胺的烷氧基化產(chǎn)物，更優(yōu)選亞烷基二胺，由BASFCorp.和BASFSE以商品名銷售。已發(fā)現(xiàn)來自BASFCorp.的90R4非常特別合適。其它合適的添加劑是例如粘合促進(jìn)劑。合適的粘合促進(jìn)劑是例如WO2006/108856A2中所述的通式AI的兩親性水溶性烷氧基化聚亞烷基亞胺：其中各變量如下所定義：基團(tuán)R是相同或不同的、線性或支化的C2-C6亞烷基；B是支鏈；E是具有下式的亞烷基氧基單元：其中R1是1,2-亞丙基、1,2-亞丁基和/或1,2-亞異丁基；R2是亞乙基；R3是1,2-亞丙基；R4是相同或不同的基團(tuán)：氫；C1-C4-烷基；x、y、z各自是2-150，其中總和x+y+z是亞烷基亞胺單元的數(shù)目，并且對應(yīng)于在烷氧基化之前的聚亞烷基亞胺的平均分子量Mw為300-10000；m是0-2的有理數(shù)；n是6-18的有理數(shù)；p是3-12的有理數(shù)，其中0.8≤n/p≤1.0(x+y+z)1/2。本發(fā)明還涉及包含至少一種通式I的化合物的冷卻和/或潤滑流體：R1[O(EO)x(AO)yR2]z(I)其具有如下定義：R1為具有1-10個碳原子的z-價烷基，R2為氫和/或具有1-10個碳原子的一價烷基，EO為亞乙基氧基，AO為具有3-10個碳原子的亞烷基氧基，x為1-8，尤其是2-8的數(shù)，y為0.5-6，尤其是1-4的數(shù)，z為1-6，尤其是1-3的數(shù)，其中冷卻和/或潤滑流體具有小于1重量％的水含量。就本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體，以上對本發(fā)明用途所作的說明相應(yīng)適用。本發(fā)明優(yōu)選涉及其中R1為丁基的本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體。本發(fā)明還涉及本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體在移除物質(zhì)，尤其是使用線鋸，尤其是金剛石線鋸鋸切晶片中的用途。為此，對松散磨料晶片切割方法和固定磨料晶片切割方法所作說明相應(yīng)適用。本發(fā)明還涉及一種使用線鋸由制品，尤其是半導(dǎo)體材料如硅、GaAs、CdTe和陶瓷材料的塊料、錠料或圓柱體，尤其是硅塊、硅錠或硅圓柱體切割晶片的方法，其中制品和/或制品的切割處使用如上所定義的本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體冷卻和/或潤滑。本發(fā)明還涉及一種可通過本發(fā)明方法生產(chǎn)，尤其是通過本發(fā)明方法生產(chǎn)的晶片，尤其是硅晶片。由于用于其生產(chǎn)的本發(fā)明方法，根據(jù)本發(fā)明生產(chǎn)的這些晶片的特征在于其具有比現(xiàn)有技術(shù)方法生產(chǎn)的晶片更少的發(fā)隙裂縫。這使得破裂的風(fēng)險更低。此外，由于本發(fā)明生產(chǎn)方法，晶片具有更均勻的表面，其具有根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)生產(chǎn)的晶片更少的溝槽。本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體和用于切割的本發(fā)明方法尤其適合用于鋸切單晶或多晶的硅單晶或多晶、GaAs、CdTe和其它半導(dǎo)體和陶瓷材料的錠料、塊料或圓柱體。本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體可優(yōu)選用作不含其它添加劑的水性配制劑且因此非常合適用于通過濕化學(xué)后處理進(jìn)行加工，例如根據(jù)WO02/40407A1和EP1390184A1。實施例聚醚的通用制備方法在無水干燥的1L壓力反應(yīng)器中首先加入1-2摩爾的起始劑醇，加入0.2重量％(基于最終產(chǎn)物)KOH，并將反應(yīng)器用氮?dú)獯祾?。然后將密閉的反應(yīng)器在30分鐘內(nèi)加熱到130℃，并使用氮?dú)庑纬?巴表壓。隨后將在表1中所述摩爾量的氧化丙烯或氧化戊烯(下文中分別稱為PO和PeO)和氧化乙烯(下文中稱為EO)在攪拌下平行地(無規(guī)模式)或依次(嵌段模式)計量加入。在嵌段模式中，在加入PO或PeO并且達(dá)到恒定壓力之后，且在添加EO之前，將混合物在130℃下攪拌至少0.5小時，且將壓力調(diào)節(jié)為1巴。在反應(yīng)期間，將容器在130℃下恒溫。在達(dá)到恒定壓力之后，持續(xù)攪拌另外約0.5小時。在反應(yīng)結(jié)束之后，將混合物冷卻到80℃，將反應(yīng)器解壓，并用氮?dú)獯祾撸尤胗糜谥泻蚄OH的計算量的冰乙酸，并將混合物再攪拌0.5小時。OH值根據(jù)DIN51562測定，殘留醇通過氣相色譜測定，且APHA色數(shù)根據(jù)EN1557(于23℃下)測定。表1：實施例和分析實施例C1至C5為本發(fā)明實施例；實施例C6和C7為對比例；n.d.意指未測定。性能本發(fā)明冷卻和/或潤滑流體C1至C5的性能概括在表2中。為了比較，列出了2個非本發(fā)明實施例(C6和C7)，其作為切割流體(市場標(biāo)準(zhǔn))在工業(yè)上使用。C7包含80重量％丙二醇、18重量％水和2重量％未描述或未分析的添加劑。測定如下性能：吸水率冷卻和/或潤滑流體的吸水率在其在HeraeusBBD6220CO2恒溫箱中儲存之后在38℃和78％相對空氣濕度下儲存7小時之后測定。為了儲存，在每種情況下在內(nèi)直徑為60mm的陪替氏培養(yǎng)皿中使用1g切割流體。在每種情況下確定兩次檢測的平均值。吸水率以增加重量百分比報道，在每種情況下基于初始重量。粘度切割流體的粘度在20℃下使用BrookfieldLVDV-IIIUltra設(shè)備((錠子V-73)測定。粘度以mPas報道。接觸角切割流體的接觸角在25℃下在將滴加施用到V2A鋼板上1秒之后測定，板表面用水和丙酮清洗并且隨后在空氣中干燥。為了測定，使用來自DataphysicsInstrumentsGmbH，F(xiàn)ilderstadt的錄像輔助的高速接觸角測量儀。接觸角的單位以度[°]報道。碎屑碎屑特性在來自HermannReichertMaschinenbau，HeidenhofBacknang的天平MDD2上以300N的載荷和110m的距離在1分鐘內(nèi)在用于輥軸軸承的滾針軸承ZRO.12x18不銹鋼圓柱體上檢測。圓柱體購自TimkenCompany，Canton，Ohio，USA。在每種情況下進(jìn)行兩次檢測，并且測定圓柱體的重量降低的平均值。重量降低以mg報道。表2