一種持續(xù)粉碎研磨裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本發(fā)明屬于研磨粉碎領(lǐng)域，具體涉及一種持續(xù)粉碎研磨裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]將整塊材料分離制造成粉末是經(jīng)常遇到的生產(chǎn)步驟，但是通常需要反復(fù)切割成小塊，再喂飼機(jī)器，利用機(jī)器內(nèi)的粉碎刀頭進(jìn)行粉碎，對(duì)于質(zhì)地堅(jiān)硬、密度高的材料，為了保護(hù)粉碎刀頭更加需要提前進(jìn)行多次切割，同時(shí)在粉碎過程中造成很大的噪音污染。
[0003]為了解決上述問題，緩解粉碎刀頭的工作壓力并且降低噪音，可以利用水等潤滑劑來增強(qiáng)粉碎效果，降低噪音，但是針對(duì)不同的物料需要選擇不同的潤滑劑，同時(shí)某些物料增加潤滑劑粉碎會(huì)影響物料性質(zhì)，因此并不適合廣泛使用。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為解決上述問題，本發(fā)明公開了一種持續(xù)粉碎研磨裝置，以用來解決物料粉碎需要多步驟進(jìn)行并且對(duì)粉碎刀頭損害大，造成的噪音大的問題。
[0005]—種持續(xù)粉碎研磨裝置，包括傳輸帶與粉碎研磨箱，所述傳輸帶底部設(shè)置滾動(dòng)軸承，滾動(dòng)軸承上方設(shè)置履帶，所述履帶上方設(shè)置壓板，履帶與壓板的貼合面的截面為鈍角鋸齒形，所述粉碎研磨箱位于傳輸帶左端下方，粉碎研磨箱外部設(shè)置箱體，頂部設(shè)置粉碎盤，內(nèi)部設(shè)置研磨罐，所述粉碎盤包括上盤與下盤，所述上盤頂部中間設(shè)置物料入口，所述下盤底部中間設(shè)置傳動(dòng)箱，上盤與下盤的貼合面之間設(shè)置同心圓切割齒，粉碎盤左側(cè)與右兩側(cè)設(shè)置物料導(dǎo)盤，所述研磨罐設(shè)置于粉碎盤下方，研磨罐外部設(shè)置固定殼，底部中間設(shè)置電機(jī)，研磨罐頂部為研磨料進(jìn)口，內(nèi)壁設(shè)置螺旋研磨紋，底部左側(cè)設(shè)置粉末出口，所述固定殼通過彈性柱與箱體連接。
[0006]作為本發(fā)明的一種改進(jìn)，所述箱體內(nèi)部設(shè)置彈性吸音層，所述吸音層主要材質(zhì)為波紋型吸音棉。
[0007]作為本發(fā)明的一種改進(jìn)，所述箱體外底部設(shè)置防震底座。
[0008]作為本發(fā)明的一種改進(jìn)，所述彈性柱為彈簧，至少有四根，設(shè)置于研磨罐頂部同一水平面的左側(cè)與右兩側(cè)及前端與后端。
[0009]作為本發(fā)明的一種改進(jìn)，所述壓板與履帶運(yùn)行方向相反，且壓板與履帶間距小于貼合面截面的鈍角鋸齒形的高度。
[0010]作為本發(fā)明的一種改進(jìn)，所述物料導(dǎo)盤為同心大小圓，物料導(dǎo)盤的頂部高度與切割齒的高度相等，物料導(dǎo)盤的底部直徑小于研磨罐的直徑。
[0011 ]作為本發(fā)明的一種改進(jìn)，所述研磨罐頂部入口設(shè)置防塵罩。
[0012]作為本發(fā)明的一種改進(jìn)，所述粉末出口頂部為過濾網(wǎng)，下部為截面為平行四邊形的管狀出口。
[0013]作為本發(fā)明的一種改進(jìn)，所述過濾網(wǎng)左側(cè)高于右側(cè)。
[0014]本發(fā)明的有益效果是: 本發(fā)明所述的一種持續(xù)粉碎研磨裝置，傳輸帶在傳輸過程中，與壓板間的相互作用，首先破壞了物料的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，節(jié)約了后續(xù)粉碎研磨過程中的零件壓力并且縮短了工作時(shí)間，物料由物料入口進(jìn)入粉碎盤，傳動(dòng)箱帶動(dòng)下盤旋轉(zhuǎn)將物料卷入上盤與下盤之間，切割齒將物料切碎，并且達(dá)到初步研磨的效果，粉碎后的物料由物料導(dǎo)盤進(jìn)入研磨罐，電機(jī)帶動(dòng)研磨罐旋轉(zhuǎn)，物料在研磨罐內(nèi)部高速旋轉(zhuǎn)，被螺旋研磨紋研磨，同時(shí)離心力與重力的作用，物料被研磨成粉之后由粉末出口排出，箱體內(nèi)的吸音層及底部的防震底座可以有效降低噪音，減少污染，整個(gè)過程可以連續(xù)運(yùn)作。
【附圖說明】
[0015]圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]附圖標(biāo)記列表:
1.傳輸帶，2.粉碎研磨箱，3.滾動(dòng)軸承，4.履帶，5.壓板，6.箱體，7.粉碎盤，8.研磨罐，
9.上盤，10.下盤，11.物料入口，12.傳動(dòng)箱，13.切割齒，14.物料導(dǎo)盤，15.固定殼，16.電機(jī)，17.研磨紋，18.彈性柱，19.吸音層，20.防震底座，21.粉末出口，22.過濾網(wǎng)，23.防塵罩。
【具體實(shí)施方式】
[0017]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】，進(jìn)一步闡明本發(fā)明，應(yīng)理解下述【具體實(shí)施方式】僅用于說明本發(fā)明而不用于限制本發(fā)明的范圍。需要說明的是，下面描述中使用的詞語“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附圖中的方向，詞語“內(nèi)”和“外”分別指的是朝向或遠(yuǎn)離特定部件幾何中心的方向。
[0018]如圖所示，一種持續(xù)粉碎研磨裝置的傳輸帶I底部設(shè)置滾動(dòng)軸承3，滾動(dòng)軸承3上方設(shè)置履帶4，所述履帶4上方設(shè)置壓板5，履帶4與壓板5的貼合面的截面為鈍角鋸齒形，壓板5與履帶4運(yùn)行方向相反，且壓板5與履帶4間距小于貼合面截面的鈍角鋸齒形的高度，傳輸帶I在傳輸過程中，與壓板5間的相互作用，首先破壞了物料的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，節(jié)約了后續(xù)粉碎研磨過程中的零件壓力并且縮短了工作時(shí)間。
[0019]如圖所示，粉碎研磨箱2位于傳輸帶I左端下方，粉碎研磨箱2外部設(shè)置箱體6，頂部設(shè)置粉碎盤7，內(nèi)部設(shè)置研磨罐8，粉碎盤7包括上盤9與下盤10，所述上盤9頂部中間設(shè)置物料入口 11，所述下盤10底部中間設(shè)置傳動(dòng)箱12，上盤9與下盤10的貼合面之間設(shè)置同心圓切割齒13，粉碎盤7左側(cè)與右兩側(cè)設(shè)置物料導(dǎo)盤14，物料由物料入口 11進(jìn)入，傳動(dòng)箱12帶動(dòng)下盤10旋轉(zhuǎn)將物料卷入上盤9與下盤10之間，切割齒13將物料切碎，并且達(dá)到初步研磨的效果，粉碎后的物料由物料導(dǎo)盤14進(jìn)入研磨罐8。
[0020]如圖所示，所述研磨罐8設(shè)置于粉碎盤7下方，研磨罐8外部設(shè)置固定殼15，底部中間設(shè)置電機(jī)16，研磨罐8頂部為研磨料進(jìn)口，內(nèi)壁設(shè)置螺旋研磨紋17，底部左側(cè)設(shè)置粉末出口 21，所述固定殼15通過彈性柱18與箱體6連接，電機(jī)16帶動(dòng)研磨罐8旋轉(zhuǎn)，物料在研磨罐8內(nèi)部高速旋轉(zhuǎn)，被螺旋研磨紋17研磨，同時(shí)離心力與重力的作用，物料被研磨成粉之后由粉末出口 21排出，固定殼15主要固定研磨罐8。
[0021]如圖所示，彈性柱18為彈簧，至少有四根，設(shè)置于研磨罐8頂部同一水平面的左側(cè)與右兩側(cè)及前端與后端，彈性柱18使研磨罐8可以在一定范圍內(nèi)移動(dòng)，減弱對(duì)固定殼15的破壞，并且給研磨罐8啟動(dòng)時(shí)合理的旋轉(zhuǎn)范圍。
[0022]如圖所不，所述箱體6內(nèi)部設(shè)置彈性吸首層19，所述吸首層19主要材質(zhì)為波紋型吸音棉，減弱研磨過程中的噪音，避免噪聲超標(biāo)造成污染，提供更安靜的工作環(huán)境。
[0023]如圖所示，所述箱體6外底部設(shè)置防震底座20，防止箱體6在粉碎研磨過程中發(fā)生位移，防震底座20同時(shí)可以避免噪音。
[0024]如圖所示，所述物料導(dǎo)盤14為同心大小圓，物料導(dǎo)盤14的頂部高度與切割齒13的高度相等，物料導(dǎo)盤14的底部直徑小于研磨罐8的直徑，物料從粉碎盤7邊緣掉入物料導(dǎo)盤14，可以掉入研磨罐8頂部，順著研磨罐8頂部進(jìn)入研磨罐8，可以避免研磨罐8研磨過程中因?yàn)檎饎?dòng)導(dǎo)致物料無法進(jìn)入而散落于箱體6內(nèi)。
[0025]如圖所示，所述研磨罐8頂部入口設(shè)置防塵罩23，防塵罩23由四根短柱固定于研磨罐8上，避免研磨過程中產(chǎn)生的粉末飛散，污染箱體6內(nèi)部，同時(shí)不影響進(jìn)料。
[0026]如圖所示，所述粉末出口21頂部為過濾網(wǎng)22，下部為截面為平行四邊形的管狀出口，可以連接管道以用于物料排出，所述過濾網(wǎng)22左側(cè)高于右側(cè)，過濾網(wǎng)22可以控制物料研磨程度，合格的粉末可以排出，而過濾網(wǎng)22傾斜可有效避免粉末阻塞過濾網(wǎng)22。
[0027]本發(fā)明方案所公開的技術(shù)手段不僅限于上述實(shí)施方式所公開的技術(shù)手段，還包括由以上技術(shù)特征任意組合所組成的技術(shù)方案。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種持續(xù)粉碎研磨裝置，其特征在于:包括傳輸帶與粉碎研磨箱，所述傳輸帶底部設(shè)置滾動(dòng)軸承，滾動(dòng)軸承上方設(shè)置履帶，所述履帶上方設(shè)置壓板，履帶與壓板的貼合面的截面為鈍角鋸齒形，所述粉碎研磨箱位于傳輸帶左端下方，粉碎研磨箱外部設(shè)置箱體，頂部設(shè)置粉碎盤，內(nèi)部設(shè)置研磨罐，所述粉碎盤包括上盤與下盤，所述上盤頂部中間設(shè)置物料入口，所述下盤底部中間設(shè)置傳動(dòng)箱，上盤與下盤的貼合面之間設(shè)置同心圓切割齒，粉碎盤左側(cè)與右兩側(cè)設(shè)置物料導(dǎo)盤，所述研磨罐設(shè)置于粉碎盤下方，研磨罐外部設(shè)置固定殼，底部中間設(shè)置電機(jī)，研磨罐頂部為研磨料進(jìn)口，內(nèi)壁設(shè)置螺旋研磨紋，底部左側(cè)設(shè)置粉末出口，所述固定殼通過彈性柱與箱體連接。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種持續(xù)粉碎研磨裝置，其特征在于:所述箱體內(nèi)部設(shè)置彈性吸音層，所述吸音層主要材質(zhì)為波紋型吸音棉。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種持續(xù)粉碎研磨裝置，其特征在于:所述箱體外底部設(shè)置防震底座。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種持續(xù)粉碎研磨裝置，其特征在于:所述彈性柱為彈簧，至少有四根，設(shè)置于研磨罐頂部同一水平面的左側(cè)與右兩側(cè)及前端與后端。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種持續(xù)粉碎研磨裝置，其特征在于:所述壓板與履帶運(yùn)行方向相反，且壓板與履帶間距小于貼合面截面的鈍角鋸齒形的高度。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種持續(xù)粉碎研磨裝置，其特征在于:所述物料導(dǎo)盤為同心大小圓，物料導(dǎo)盤的頂部高度與切割齒的高度相等，物料導(dǎo)盤的底部直徑小于研磨罐的直徑。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種持續(xù)粉碎研磨裝置，其特征在于:所述研磨罐頂部入口設(shè)置防塵罩。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種持續(xù)粉碎研磨裝置，其特征在于:所述粉末出口頂部為過濾網(wǎng)，下部為截面為平行四邊形的管狀出口。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種持續(xù)粉碎研磨裝置，其特征在于:所述過濾網(wǎng)左側(cè)高于右側(cè)。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種持續(xù)粉碎研磨裝置，包括傳輸帶與粉碎研磨箱，所述傳輸帶包括滾動(dòng)軸承、履帶與壓板，所述粉碎研磨箱包括箱體、粉碎盤與研磨罐，所述研磨罐設(shè)置于粉碎盤下方，研磨罐內(nèi)壁設(shè)置螺旋研磨紋，本發(fā)明所述的持續(xù)粉碎研磨裝置，履帶與壓板間的相互作用，破壞了物料的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，節(jié)約了后續(xù)過程中的零件壓力并且縮短了工作時(shí)間，傳動(dòng)箱帶動(dòng)下盤旋轉(zhuǎn)將物料卷入上盤與下盤之間，切割齒將物料切碎，并且達(dá)到初步研磨的效果，粉碎后的物料進(jìn)入研磨罐，物料在研磨罐內(nèi)部高速旋轉(zhuǎn)，被螺旋研磨紋研磨，同時(shí)離心力與重力的作用，物料被研磨成粉之后由粉末出口排出，吸音層及防震底座可以有效降低噪音，減少污染，整個(gè)過程可以連續(xù)運(yùn)作。
【IPC分類】B02C21/00
【公開號(hào)】CN105562185
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201610073691
【發(fā)明人】徐梁
【申請(qǐng)人】徐梁
【公開日】2016年5月11日
【申請(qǐng)日】2016年2月3日