本實用新型涉及高分子材料加工設備技術領域，尤其涉及一種薄層涂布微凹輥。

背景技術：

隨著智能手機產(chǎn)業(yè)在中國的高速發(fā)展，功能性薄膜的應用也得到發(fā)展，尤其是PET離型膜。但是由于光學薄膜薄層涂布產(chǎn)品受限于設備、技術和配方等因素，我國目前大多依賴日本、美國、韓國進口。

傳統(tǒng)的PET離型涂層大多采用大輥順涂的方式，在薄層涂布方面很難做到又薄又均勻。近年來，微凹輥涂布方式傳入中國，在基材走速與上液量滾速配比上賦予了很大的靈活性，但國內(nèi)微凹涂布設備的精度比較低，為應對生產(chǎn)出的產(chǎn)品光潔度和均勻度不足的情況，改變微凹輥的網(wǎng)墻結構，增加成膜表面的流平性成為主要的解決方案。

技術實現(xiàn)要素：

本實用新型的目的在于提供涂層更薄更均勻且節(jié)約溶劑使用量、降低生產(chǎn)成本的一種薄層涂布微凹輥。

為解決上述技術問題，本實用新型的技術方案是：

一種薄層涂布微凹輥，包括主軸，所述主軸的兩端固設有軸承軸，兩個所述軸承軸上遠離所述主軸的一側開設有擋圈槽，其中一個所述軸承軸靠近所述擋圈槽的一端固設有動力軸，所述動力軸上開設有鍵槽；所述主軸的外部套設有鋼制套管，所述鋼制套管軸向的外表面涂覆有硬質(zhì)陶瓷層；所述硬質(zhì)陶瓷層外表面的中部設有雕刻部，所述硬質(zhì)陶瓷層上所述雕刻部的兩端各設有一個光亮部；所述雕刻部的外表面設有與所述主軸的延伸方向呈45度角的斜線帶，所述斜線帶之間間隔設有菱形帶；所述斜線帶內(nèi)設有至少一條與所述斜線帶延伸方向一致的斜線紋路，所述斜線紋路內(nèi)雕刻有與所述斜線帶延伸方向一致的斜線凹槽；所述菱形帶內(nèi)雕刻有菱形孔穴，所述斜線凹槽的深度大于所述菱形孔穴的深度。

作為一種改進，所述斜線紋路設有三條，三條斜線紋路沿所述斜線帶的延伸方向均布。

作為一種改進，所述斜線紋路內(nèi)的網(wǎng)紋雕刻密度為400線/英寸，所述菱形帶內(nèi)的網(wǎng)紋雕刻密度為550線/英寸。

作為一種改進，所述斜線凹槽的深度為25微米，所述菱形孔穴的深度為18微米。

作為一種改進，雕刻的所述斜線凹槽和所述菱形孔穴的網(wǎng)紋邊線上均設有圓角。

作為一種改進，所述硬質(zhì)陶瓷層的厚度為2—5mm，優(yōu)選為3mm。

作為一種改進，所述光亮部的軸向距離為1.5cm—2.5cm，優(yōu)選為2cm。

采用了上述技術方案后，本實用新型提的有益效果是：

由于本實用新型一種薄層涂布微凹輥，包括主軸，主軸的兩端固設有軸承軸，兩個軸承軸上遠離主軸的一側開設有擋圈槽，其中一個軸承軸靠近擋圈槽的一端固設有動力軸，動力軸上開設有鍵槽；主軸的外部套設有鋼制套管，鋼制套管軸向的外表面涂覆有硬質(zhì)陶瓷層；硬質(zhì)陶瓷層外表面的中部設有雕刻部，硬質(zhì)陶瓷層上雕刻部的兩端各設有一個光亮部；雕刻部的外表面設有與主軸的延伸方向呈45度角的斜線帶，斜線帶之間間隔設有菱形帶；斜線帶內(nèi)設有至少一條與斜線帶延伸方向一致的斜線紋路，斜線紋路內(nèi)雕刻有與斜線帶延伸方向一致的斜線凹槽；菱形帶內(nèi)雕刻有菱形孔穴，斜線凹槽的深度大于菱形孔穴的深度。此結構根據(jù)逆向涂布方式的流體力學原理，利用輥面間雕刻的斜線凹槽和菱形孔穴的結構差異，在噴涂過程中調(diào)整速度比，使涂布表面獲得極薄且均勻的涂層，同時降低了生產(chǎn)成本。

由于雕刻的斜線凹槽和菱形孔穴的網(wǎng)紋線設有圓角，方便了涂液的轉(zhuǎn)移，減小了剝離力，進一步提高了涂布質(zhì)量。

由于硬質(zhì)陶瓷層軸向的中部設有雕刻部，雕刻部的兩端各設有一個光亮部，刮刀在刮墨時可方便的觀察刮墨效果。

附圖說明

圖1是本實用新型提供的結構示意圖；

圖2是圖1中A-A向視圖；

圖3是圖1中B的放大圖；

1-主軸，2-軸承軸，3-擋圈槽，4-動力軸，5-鍵槽，6-鋼制套管，7-硬質(zhì)陶瓷層，71-雕刻部，72-光亮部，8-斜線紋路，9-菱形帶。

具體實施方式

為了使本實用新型的目的、技術方案及優(yōu)點更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。

如圖1、圖2和圖3所示，一種薄層涂布微凹輥包括主軸1，主軸1的兩端固設有直徑小于主軸1直徑的軸承軸2，兩個軸承軸2上遠離主軸1的一側開設有擋圈槽3，其中一側的軸承軸2靠近擋圈槽3的一端固設有動力軸4，動力軸4上開設有鍵槽5；主軸1的外部套設有鋼制套管6，鋼制套管6軸向的外表面涂有硬質(zhì)陶瓷層7，硬質(zhì)陶瓷層7的厚度為2—5mm，優(yōu)選為3mm。硬質(zhì)陶瓷層7外表面的中部設有雕刻部71，硬質(zhì)陶瓷層7上雕刻部71的兩端各設有一個光亮部72，光亮部72的軸向距離為1.5cm—2.5cm，優(yōu)選為2cm，刮刀在刮墨時可方便的觀察刮墨效果。

如圖1所示，雕刻部71的外表面設有與主軸1的延伸方向呈45度角的斜線帶，斜線帶之間間隔設有菱形帶8；斜線帶內(nèi)設有三條斜線紋路8，斜線紋路8內(nèi)雕刻有與斜線帶延伸方向一致的斜線凹槽；菱形帶9內(nèi)雕刻有菱形孔穴。斜線紋路8內(nèi)的雕刻密度為每英寸400線斜線凹槽，斜線凹槽的深度為25微米。菱形帶9內(nèi)的雕刻密度為每英寸550線菱形孔穴，菱形孔穴的深度為18微米。斜線凹槽和菱形孔穴的網(wǎng)紋線相鄰兩邊間均設有圓角，方便了涂液的轉(zhuǎn)移。

以上僅為本實用新型的較佳實施例而已，并不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。