本發(fā)明涉及廢氣凈化設(shè)備領(lǐng)域，更具體的是涉及一種新型低溫等離子處理設(shè)備。

背景技術(shù)：

工業(yè)廢氣，是指企業(yè)廠區(qū)內(nèi)燃料燃燒和生產(chǎn)工藝過程中產(chǎn)生的各種排入空氣的含有污染物氣體的總稱。這些廢氣有：二氧化碳、二硫化碳、硫化氫、氟化物、氮氧化物、氯、氯化氫、一氧化碳、硫酸霧鉛汞、鈹化物、煙塵及生產(chǎn)性粉塵，排入大氣，會(huì)污染空氣。這些物質(zhì)通過不同的途徑呼吸道進(jìn)入人的體內(nèi)，有的直接產(chǎn)生危害，有的還有蓄積作用，會(huì)更加嚴(yán)重的危害人的健康。不同物質(zhì)會(huì)有不同影響。

等離子體工業(yè)廢氣處理技術(shù)作為一種新的環(huán)境污染治理技術(shù)，由于其對污染物分子的高效分解且處理能耗低等特點(diǎn)，為工業(yè)廢氣的處理開辟了一條新的思路。等離子體反應(yīng)區(qū)富含極高的物質(zhì)，如高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等，廢氣中的污染物質(zhì)可與這些具有較高能量的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，使污染物質(zhì)在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到講解污染物的目的。

與目前國內(nèi)常用的異味氣體治理方法相比較,低溫等離子體技術(shù)應(yīng)用于惡臭氣體治理，現(xiàn)有等離子廢氣處理設(shè)備的機(jī)構(gòu)復(fù)雜，處理效率低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于：為了解決廢氣中的揮發(fā)性有機(jī)化合物及異味現(xiàn)有設(shè)備難以處理的技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種新型低溫等離子處理設(shè)備。

本發(fā)明為了實(shí)現(xiàn)上述目的具體采用以下技術(shù)方案：

一種新型低溫等離子處理設(shè)備，包括處理主腔體，處理主腔體左右兩端分別設(shè)置有進(jìn)氣管道和出氣管道，所述的處理主腔體包括與進(jìn)氣管道連通的進(jìn)氣口和與出氣管道連通的出氣口，所述的進(jìn)氣口和出氣口均為變徑管，進(jìn)氣口內(nèi)設(shè)置有若干導(dǎo)風(fēng)分流管，處理主腔體內(nèi)沿氣體流動(dòng)方向依次設(shè)置有分散板、一級過濾組件、分子粉碎機(jī)構(gòu)、等離子處理機(jī)構(gòu)和二級過濾組件。

進(jìn)一步地，所述的分子粉碎機(jī)構(gòu)內(nèi)設(shè)置有激光發(fā)射機(jī)構(gòu)，激光發(fā)射機(jī)構(gòu)發(fā)射的激光的波長為245nm～255mn。

進(jìn)一步地，激光發(fā)射機(jī)構(gòu)發(fā)射的激光的波長為253.4mn。

進(jìn)一步地，所述的一級過濾組件包括多層玻璃纖維過濾層，二級過濾組件包括多層活性炭吸附層。

進(jìn)一步地，所述的等離子發(fā)生裝置包括矩形框架，所述矩形框架相對兩側(cè)設(shè)置有電極安裝板，所述的兩個(gè)電極安裝板上通過絕緣橡膠套連接有正極固定桿，所述的正極固定桿上等間距的設(shè)置有多個(gè)正極放電塊，所述的兩塊電極安裝板之間連接有負(fù)極固定桿，負(fù)極固定桿上等間距的設(shè)置有多片負(fù)極板，所述的負(fù)極板與正極放電塊交錯(cuò)布置。

進(jìn)一步地，所述的負(fù)極片與正極放電塊平行。

進(jìn)一步地，所述的出氣管道末端設(shè)置有防止雨水進(jìn)入出氣管道的雨帽。

本發(fā)明的有益效果如下：

1、本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單，待凈化廢氣通過進(jìn)氣管到達(dá)進(jìn)氣口，進(jìn)氣口內(nèi)設(shè)置有若干倒流分散管，可以把廢氣分散均勻，在經(jīng)過分散板再次分散，利于后續(xù)廢氣吸收和處理；后續(xù)的一級過濾組件吸收過廢氣中的絕大多數(shù)大顆粒煙塵和小顆粒煙塵，含有的揮發(fā)性有機(jī)化合物及異味的氣體在分子粉碎機(jī)構(gòu)和等離子處理機(jī)構(gòu)被分解，在經(jīng)過二級過濾組件吸收后達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)。

2、所述的分子粉碎機(jī)構(gòu)內(nèi)設(shè)置有激光發(fā)射機(jī)構(gòu)，能夠破壞有機(jī)廢氣分子鏈，改變物質(zhì)的結(jié)構(gòu)達(dá)到除臭目的。

3、等離子處理機(jī)構(gòu)在外加電場的作用下，介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量攜能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發(fā)，然后便引發(fā)了一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng)，使復(fù)雜大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)楹唵涡》肿影踩镔|(zhì)，或使有毒有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變成無毒無害或低毒低害的物質(zhì)，從而使污染物得以降解去除。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是等離子處理機(jī)構(gòu)的機(jī)構(gòu)示意圖；

附圖標(biāo)記說明：1-進(jìn)氣管道，2-進(jìn)氣口，3-導(dǎo)風(fēng)分流管，4-分散板，5-一級過濾組件，6-等離子處理機(jī)構(gòu)，6-1-矩形框架，6-2-正極固定桿，6-3-絕緣橡膠套，6-4-負(fù)極板，6-5-正極放電塊，6-6-負(fù)極固定桿，6-7-電極安裝板7-分子粉碎機(jī)構(gòu)，7-1-激光發(fā)射機(jī)構(gòu)，8-出氣口，9-出氣管道，10-雨帽，11-處理主腔體，12-二級過濾組件。

具體實(shí)施方式

為了本技術(shù)領(lǐng)域的人員更好的理解本發(fā)明，下面結(jié)合附圖和以下實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。

實(shí)施例1

如圖1到2所示，本實(shí)施例提供一種新型低溫等離子處理設(shè)備，包括處理主腔體11，處理主腔體11左右兩端分別設(shè)置有進(jìn)氣管道1和出氣管道9，所述的處理主腔體11包括與進(jìn)氣管道1連通的進(jìn)氣口2和與出氣管道9連通的出氣口8，所述的進(jìn)氣口2和出氣口8均為變徑管，進(jìn)氣口2內(nèi)設(shè)置有若干導(dǎo)風(fēng)分流管3，處理主腔體11內(nèi)沿氣體流動(dòng)方向依次設(shè)置有分散板4、一級過濾組件5、分子粉碎機(jī)構(gòu)7、等離子處理機(jī)構(gòu)6和二級過濾組件12。

本實(shí)施例中，待凈化廢氣通過進(jìn)氣管到達(dá)進(jìn)氣口，進(jìn)氣口內(nèi)設(shè)置有若干倒流分散管，可以把廢氣分散均勻，在經(jīng)過分散板再次分散，利于后續(xù)廢氣吸收和處理；后續(xù)的一級過濾組件吸收過廢氣中的絕大多數(shù)大顆粒煙塵和小顆粒煙塵，含有的揮發(fā)性有機(jī)化合物及異味的氣體在分子粉碎機(jī)構(gòu)和等離子處理機(jī)構(gòu)被分解，在經(jīng)過二級過濾組件吸收后達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)。

實(shí)施例2

本實(shí)施例是在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上做了進(jìn)一步優(yōu)化，具體是：

所述的分子粉碎機(jī)構(gòu)7內(nèi)設(shè)置有激光發(fā)射機(jī)構(gòu)7-1，激光發(fā)射機(jī)構(gòu)7-1發(fā)射的激光的波長為245nm～255mn。

激光發(fā)射機(jī)構(gòu)7-1發(fā)射的激光的波長為253.4mn。

實(shí)施例3

本實(shí)施是在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上做了進(jìn)一步優(yōu)化，具體是：

所述的一級過濾組件5包括多層玻璃纖維過濾層，二級過濾組件12包括多層活性炭吸附層。

實(shí)施例4

本實(shí)施例是在以上任一實(shí)施例的基礎(chǔ)上做了進(jìn)一步優(yōu)化，具體是：

所述的等離子發(fā)生裝置6包括矩形框架6-1，所述矩形框架6-1相對兩側(cè)設(shè)置有電極安裝板6-7，所述的兩個(gè)電極安裝板6-7上通過絕緣橡膠套6-3連接有正極固定桿6-2，所述的正極固定桿6-2上等間距的設(shè)置有多個(gè)正極放電塊6-5，所述的兩塊電極安裝板6-7之間連接有負(fù)極固定桿6-6，負(fù)極固定桿6-6上等間距的設(shè)置有多片負(fù)極板6-4，所述的負(fù)極板6-4與正極放電塊6-5交錯(cuò)布置。

所述的負(fù)極片6-4與正極放電塊6-5平行。

所述的出氣管道9末端設(shè)置有防止雨水進(jìn)入出氣管道9的雨帽10。

以上所述，僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并不用以限制本發(fā)明，本發(fā)明的專利保護(hù)范圍以權(quán)利要求書為準(zhǔn)，凡是運(yùn)用本發(fā)明的說明書及附圖內(nèi)容所作的等同結(jié)構(gòu)變化，同理均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。

技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種新型低溫等離子廢氣處理設(shè)備，涉及廢氣凈化設(shè)備領(lǐng)域，本發(fā)明包括處理主腔體，處理主腔體左右兩端分別設(shè)置有進(jìn)氣管道和出氣管道，所述的處理主腔體包括與進(jìn)氣管道連通的進(jìn)氣口和與出氣管道連通的出氣口，所述的進(jìn)氣口和出氣口均為變徑管，進(jìn)氣口內(nèi)設(shè)置有若干導(dǎo)風(fēng)分流管，處理主腔體內(nèi)沿氣體流動(dòng)方向依次設(shè)置有分散板、一級過濾組件、分子粉碎機(jī)構(gòu)、等離子處理機(jī)構(gòu)和二級過濾組件，本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單、處理效率高、除臭除異味效果好的優(yōu)點(diǎn)。

技術(shù)研發(fā)人員：樊明偉
受保護(hù)的技術(shù)使用者：四川弘毅智慧知識產(chǎn)權(quán)運(yùn)營有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.06.19
技術(shù)公布日：2017.08.29