本實用新型屬于墊片和腔體技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種納米超硬涂布擠壓頭墊片和腔體，尤其涉及一種涉及鋰電池生產(chǎn)線中一種納米超硬涂布擠壓頭墊片和腔體類金剛石涂層。

背景技術(shù)：

目前，隨著鋰電池生產(chǎn)工藝要求提高，普通硬質(zhì)合金涂布擠壓頭和腔體常常出現(xiàn)涂布不均勻，維護周期短，壽命短等現(xiàn)象。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本實用新型的目的提供一種納米超硬涂布擠壓頭墊片和腔體，避免了現(xiàn)有技術(shù)中涂布不均勻、維護周期短、壽命短的缺陷。

為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，本實用新型提供了一種納米超硬涂布擠壓頭墊片和腔體的解決方案，具體如下：

一種納米超硬涂布擠壓頭墊片和腔體，包括涂布擠壓頭的墊片1和涂布擠壓頭的腔體5，在所述涂布擠壓頭的墊片1的表面涂覆有用于墊片的納米超硬類金剛石涂層，所述用于墊片的納米超硬類金剛石涂層包括從所述涂布擠壓頭的墊片1的表面自內(nèi)而外依次涂敷著用于墊片的基礎(chǔ)層108、用于墊片的第一過渡層109、用于墊片的第二過渡層110、用于墊片的第三過渡層111和用于墊片的表面層112，所述用于墊片的基礎(chǔ)層108、用于墊片的第一過渡層109、用于墊片的第二過渡層110、用于墊片的第三過渡層111和用于墊片的表面層112分別為用于墊片的TiN層、用于墊片的第一TaC層、用于墊片的第二TaC層、用于墊片的第三TaC層和用于墊片的第四TaC層；

在所述涂布擠壓頭的腔體1的內(nèi)壁涂覆有用于腔體的納米超硬類金剛石涂層，所述用于腔體的納米超硬類金剛石涂層包括從所述涂布擠壓頭的腔體1的表面自內(nèi)而外依次涂敷著用于腔體的基礎(chǔ)層208、用于腔體的第一過渡層209、用于腔體的第二過渡層210、用于腔體的第三過渡層211和用于腔體的表面層212，所述用于腔體的基礎(chǔ)層208、用于腔體的第一過渡層209、用于腔體的第二過渡層210、用于腔體的第三過渡層211和用于腔體的表面層212分別為用于腔體的TiN層、用于腔體的第一TaC層、用于腔體的第二TaC層、用于腔體的第三TaC層和用于腔體的第四TaC層。

所述用于墊片的TiN層的厚度為100-200nm，用于墊片的第一TaC層的厚度為100-200nm，用于墊片的第二TaC層的厚度為400-800nm，用于墊片的第三TaC層的厚度為400-800nm，用于墊片的第四TaC層的厚度為400-800nm；

所述用于腔體的TiN層的厚度為100-200nm，用于腔體的第一TaC層的厚度為100-200nm，用于腔體的第二TaC層的厚度為400-800nm，用于腔體的第三TaC層的厚度為400-800nm，用于腔體的第四TaC層的厚度為400-800nm。

所述用于墊片的TiN層的沉積角度為0度，用于墊片的第一TaC層的沉積角度為45度，用于墊片的第二TaC層的沉積角度為0度，用于墊片的第三TaC層的沉積角度為45度，用于墊片的第四TaC層的沉積角度為0度；

所述用于腔體的TiN層的沉積角度為0度，用于腔體的第一TaC層的沉積角度為45度，用于腔體的第二TaC層的沉積角度為0度，用于腔體的第三TaC層的沉積角度為45度，用于腔體的第四TaC層的沉積角度為0度。

用于墊片的TiN層、用于墊片的第一TaC層、用于墊片的第二TaC層、用于墊片的第三TaC層和用于墊片的第四TaC層的硬度均為2500-3500HV且摩擦系數(shù)均小于0.1；

用于腔體的TiN層、用于腔體的第一TaC層、用于腔體的第二TaC層、用于腔體的第三TaC層和用于腔體的第四TaC層的硬度均為2500-3500HV且摩擦系數(shù)均小于0.1。

所述用于墊片的納米超硬類金剛石涂層的厚度為1500-3200納米；所述用于腔體的納米超硬類金剛石涂層的厚度為1500-3200納米。

本實用新型能提高涂布擠壓頭墊片和腔體的硬度，降低摩擦系數(shù)，可有效提高涂布的均勻性，延長維護周期，提高使用壽命。

附圖說明

圖1為本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為圖1中1部放大結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為圖1中5部放大結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方案

下面結(jié)合實施例對本專利作進(jìn)一步詳細(xì)說明。

如圖1-圖3所示，納米超硬涂布擠壓頭墊片和腔體，包括涂布擠壓頭的墊片1和涂布擠壓頭的腔體5，在所述涂布擠壓頭的墊片1的表面涂覆有用于墊片的納米超硬類金剛石涂層，所述用于墊片的納米超硬類金剛石涂層包括從所述涂布擠壓頭的墊片1的表面自內(nèi)而外依次涂敷著用于墊片的基礎(chǔ)層108、用于墊片的第一過渡層109、用于墊片的第二過渡層110、用于墊片的第三過渡層111和用于墊片的表面層112，所述用于墊片的基礎(chǔ)層108、用于墊片的第一過渡層109、用于墊片的第二過渡層110、用于墊片的第三過渡層111和用于墊片的表面層112分別為用于墊片的TiN層、用于墊片的第一TaC層、用于墊片的第二TaC層、用于墊片的第三TaC層和用于墊片的第四TaC層；

在所述涂布擠壓頭的腔體1的內(nèi)壁涂覆有用于腔體的納米超硬類金剛石涂層，所述用于腔體的納米超硬類金剛石涂層包括從所述涂布擠壓頭的腔體1的表面自內(nèi)而外依次涂敷著用于腔體的基礎(chǔ)層208、用于腔體的第一過渡層209、用于腔體的第二過渡層210、用于腔體的第三過渡層211和用于腔體的表面層212，所述用于腔體的基礎(chǔ)層208、用于腔體的第一過渡層209、用于腔體的第二過渡層210、用于腔體的第三過渡層211和用于腔體的表面層212分別為用于腔體的TiN層、用于腔體的第一TaC層、用于腔體的第二TaC層、用于腔體的第三TaC層和用于腔體的第四TaC層。

所述用于墊片的TiN層的厚度為100-200nm，用于墊片的第一TaC層的厚度為100-200nm，用于墊片的第二TaC層的厚度為400-800nm，用于墊片的第三TaC層的厚度為400-800nm，用于墊片的第四TaC層的厚度為400-800nm；

所述用于腔體的TiN層的厚度為100-200nm，用于腔體的第一TaC層的厚度為100-200nm，用于腔體的第二TaC層的厚度為400-800nm，用于腔體的第三TaC層的厚度為400-800nm，用于腔體的第四TaC層的厚度為400-800nm。

所述用于墊片的TiN層的沉積角度為0度，用于墊片的第一TaC層的沉積角度為45度，用于墊片的第二TaC層的沉積角度為0度，用于墊片的第三TaC層的沉積角度為45度，用于墊片的第四TaC層的沉積角度為0度；

所述用于腔體的TiN層的沉積角度為0度，用于腔體的第一TaC層的沉積角度為45度，用于腔體的第二TaC層的沉積角度為0度，用于腔體的第三TaC層的沉積角度為45度，用于腔體的第四TaC層的沉積角度為0度。

用于墊片的TiN層、用于墊片的第一TaC層、用于墊片的第二TaC層、用于墊片的第三TaC層和用于墊片的第四TaC層的硬度均為2500-3500HV且摩擦系數(shù)均小于0.1；

用于腔體的TiN層、用于腔體的第一TaC層、用于腔體的第二TaC層、用于腔體的第三TaC層和用于腔體的第四TaC層的硬度均為2500-3500HV且摩擦系數(shù)均小于0.1。

所述用于墊片的納米超硬類金剛石涂層的厚度為1500-3200納米；所述用于腔體的納米超硬類金剛石涂層的厚度為1500-3200納米。

這樣包括涂布擠壓頭墊片和腔體的表面上分別從內(nèi)到外依次復(fù)合有基礎(chǔ)層、過渡層和表層?；A(chǔ)層起提高涂層附著力作用，過渡層起連接支撐作用，多層涂敷可以防止類金剛石沉積過程的開裂。表層具有低摩擦系數(shù)(≤0.1)、高硬度(2500-3500HV)、化學(xué)穩(wěn)定性高。

本實用新型的有益效果是：通過在涂布擠壓頭墊片和腔體的表面上附著摩擦低，硬度高，耐溫性好功能性金剛石鍍膜層，有效提高涂布的均勻性，延長維護周期，壽命可提高1-2倍。

以上所述，僅是本實用新型的較佳實施例而已，并非對本實用新型作任何形式上的限制，雖然本實用新型已以較佳實施例揭露如上，然而并非用以限定本實用新型，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本實用新型技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容做出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本實用新型技術(shù)方案內(nèi)容，依據(jù)本實用新型的技術(shù)實質(zhì)，在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，對以上實施例所作的任何簡單的修改、等同替換與改進(jìn)等，均仍屬于本實用新型技術(shù)方案的保護范圍之內(nèi)。