1.一種用于包括含有顆粒床(3)的至少一個(gè)單體(2)的柱(1)的流體分配器(9、10)，所述流體分配器(9、10)包括：
—底板(11、21)，其包括確保在其任一側(cè)上的流體連接的至少一個(gè)注射點(diǎn)(15、25)；
—阻力介質(zhì)層(12、22)，其附接至所述底板(11、21)并且在所述底板(11、21)的面上形成有多個(gè)并置的阻力介質(zhì)部件(31)，阻力介質(zhì)對于流體是可滲透的；
—間隔裝置(13、23)，其插入在所述底板(11、21)和所述阻力介質(zhì)層(12、22)之間并且維持用于在所述底板(11、21)和所述阻力介質(zhì)層(12、22)之間的流體循環(huán)的間隔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體分配器(9、10)，其中：
—所述底板(11、21)未經(jīng)機(jī)加工；和/或
—所述底板(11、21)具有大于1m的直徑，直徑優(yōu)選大于2m，更優(yōu)選大于3m，最優(yōu)選大于4m。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的流體分配器(9、10)，其中，所述阻力介質(zhì)層包括兩個(gè)至二百個(gè)、并且優(yōu)選五個(gè)至五十個(gè)阻力介質(zhì)部件(31)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的一項(xiàng)所述的流體分配器(9、10)，包括維持由所述阻力介質(zhì)層(12、22)和所述間隔裝置(13、23)形成的組件抵著所述底板(11、21)的附接元件(14、17、24、27)；所述附接元件(14、17、24、27)優(yōu)選地包括覆蓋相鄰的阻力介質(zhì)部件(31)的接合元件(40、41)，所述接合元件(40、41)更優(yōu)選地包括至少一個(gè)支撐板(43、43a、43b)和接頭(44)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中的一項(xiàng)所述的流體分配器(9、10)，其中，所述底板(11、21)與所述阻力介質(zhì)層(12、22)之間的間隔在所述底板(11、21)的整個(gè)表面上是大致恒定的。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中的一項(xiàng)所述的流體分配器(9、10)，其中，所述底板(11、21)是大致平面的，并且優(yōu)選地所述底板(11、21)相對于平面幾何結(jié)構(gòu)具有0.5mm至5mm、優(yōu)選1mm至4mm的偏差。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中的一項(xiàng)所述的流體分配器(9、10)，其中，在20℃下以1m/h流過所述分配器的水引起小于或等于1bar、優(yōu)選小于或等于200mbar、更特別地小于或等于50mbar且理想地小于或等于20mbar的壓降。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中的一項(xiàng)所述的流體分配器(9、10)，其中，所述間隔裝置(13、23)沿著所述底板(11、21)與所述阻力介質(zhì)層(22、22)之間的當(dāng)前線路產(chǎn)生第一壓降，第二壓降在所述阻力介質(zhì)層(12、22)中產(chǎn)生，并且所述第一壓降小于所述第二壓降，優(yōu)選小至少二倍，更優(yōu)選小至少十倍并且理想地小至少百倍。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中的一項(xiàng)所述的流體分配器(9、10)，包括放置在至少一個(gè)注射點(diǎn)(15、25)中的偏轉(zhuǎn)器(18)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中的一項(xiàng)所述的流體分配器(9、10)，其中，所述間隔裝置(13、23)由一組支撐件構(gòu)成，由格柵構(gòu)成，或由泡沫構(gòu)成，并且優(yōu)選地由格柵或并置的格柵部件組成。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中的一項(xiàng)所述的流體分配器(9、10)，其中，所述阻力介質(zhì)部件(31)由一個(gè)或幾個(gè)網(wǎng)狀物、多孔板、粉末和這些的組合構(gòu)成。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中的一項(xiàng)所述的流體分配器(9、10)，其中，所述底板(11)包括多個(gè)注射點(diǎn)(15、25)，優(yōu)選至少三個(gè)，最優(yōu)選至少五個(gè)。
13.一種包括至少一個(gè)單體(2)、優(yōu)選多個(gè)單體(2a、2b)的柱(1)，每個(gè)單體(2、2a、2b)包括任一側(cè)上設(shè)有流體供給裝置(9、9a、9b)和流體收集裝置(10、10a、10b)的顆粒床(3、3a、3b)，這些裝置中的至少一個(gè)為根據(jù)權(quán)利要求1至12中的一項(xiàng)的流體分配器。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的柱(1)，其中，在每個(gè)單體(2)中，所述流體供給裝置(9、9a、9b)和所述流體收集裝置(10、10a、10b)都是根據(jù)權(quán)利要求1至12中的一項(xiàng)的流體分配器。
15.根據(jù)權(quán)利要求13或14所述的柱(1)，包括流體管道(16、26)，其連接至流體分配器(9、10)的注射點(diǎn)(15、25)并且允許將流體引入所述單體(2)或從單體(2)收集流體。
16.根據(jù)權(quán)利要求13至15中的一項(xiàng)所述的柱(1)，其中，所述流體分配器(9、9a、9b、10、10a、10b)的底板(11、21)附接并優(yōu)選焊接至支撐梁(7)。
17.根據(jù)權(quán)利要求13至16中的一項(xiàng)所述的柱(1)，其為色譜柱、優(yōu)選為液相色譜柱。
18.根據(jù)權(quán)利要求13至16中的一項(xiàng)所述的柱(1)，其為化學(xué)反應(yīng)器。
19.根據(jù)權(quán)利要求13至18中的一項(xiàng)所述的柱(1)的使用，在層析、離子吸附或交換工藝中，優(yōu)選在諸如模擬移動床工藝或連續(xù)離子交換工藝的多柱色譜工藝中；或在固定床上的化學(xué)合成工藝中，優(yōu)選在催化工藝中。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的使用，采用分批次地、順序地、并流或逆流的模式。
21.一種用于在包括旨在含有顆粒床(3)的至少一個(gè)單體(2)的柱(1)中安裝流體分配器(9、10)的方法，包括：
—將間隔裝置(13、23)抵著所述單體(2)的底板(11、21)的內(nèi)表面設(shè)定就位，所述底板(11、21)包括確保在其任一側(cè)上的流體連接的至少一個(gè)注射點(diǎn)(15、25)；
—通過并置阻力介質(zhì)部件(31)來使阻力介質(zhì)層(12、22)在所述間隔裝置(13、23)上方設(shè)定就位，阻力介質(zhì)對于水是可滲透的；
—將所述阻力介質(zhì)層(12、22)附接在所述底板(11、21)上以便將所述間隔裝置(13、23)緊固在所述阻力介質(zhì)層(12、22)和所述底板(11、21)之間，所述間隔裝置(13、23)維持用于在所述阻力介質(zhì)層(12、22)和所述底板(11、21)之間的流體循環(huán)的空間。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其中，所述流體分配器(9、10)根據(jù)權(quán)利要求1至12中的一項(xiàng)，和/或其中所述柱(1)根據(jù)權(quán)利要求13至18中的一項(xiàng)。
23.根據(jù)權(quán)利要求21或22所述的方法，其中，將所述阻力介質(zhì)層(12、22)設(shè)定就位包括將所述阻力介質(zhì)部件(31)穿過入孔(8a、8b)引入到所述單體(2)中；所述阻力介質(zhì)部件(31)優(yōu)選被折疊以便被穿過所述入孔(8a、8b)引入。
24.根據(jù)權(quán)利要求21至23中的一項(xiàng)所述的方法，其中，所述間隔裝置(13、23)的設(shè)定就位和所述阻力介質(zhì)層(12、22)的設(shè)定就位被如下實(shí)施：
—順序地實(shí)施，間隔裝置(13、23)中的一個(gè)或幾個(gè)部件首先被抵著所述底板(11、21)的內(nèi)表面定位然后所述阻力介質(zhì)部件(31)被附接在所述間隔裝置(13、23)上方；
—或者同時(shí)地實(shí)施，在連同所述阻力介質(zhì)層(12、22)抵著所述底板(11、21)的內(nèi)表面定位并附接所述間隔裝置(13、23)之前，一個(gè)或幾個(gè)間隔裝置部件(13、23)與所述阻力介質(zhì)部件(31)預(yù)先組裝。