本發(fā)明屬于化學(xué)工程領(lǐng)域，涉及一種塔式氣液接觸設(shè)備均勻布氣裝置及其用途，尤其涉及一種通過增加氣室阻力實現(xiàn)均勻布氣的塔式氣液接觸設(shè)備均勻布氣裝置及其用途。

背景技術(shù)：
化工反應(yīng)過程常常涉及到塔式氣液接觸設(shè)備，需要實現(xiàn)氣泡均勻分散于液相中，這不僅需要單位傳質(zhì)高度內(nèi)氣泡分散相均勻分布，而且需要氣泡分散相的直徑均一。關(guān)于氣固兩相反應(yīng)的均勻布氣方法和裝置已多有報道，專利CN10250867A和CN202621144U均提出了一種固體顆粒狀物料懸浮流態(tài)化反應(yīng)的均勻布氣裝置，但是該布氣裝置不適用于在液體中產(chǎn)生均勻直徑的氣泡。專利CN102728283A和CN202700473U均提出了一種氣固兩相反應(yīng)器均勻布氣方法，所述方法為：在料斗的壁板上開設(shè)布氣口，布氣口為狹長開孔，可解決裝置內(nèi)單位傳質(zhì)高度氣壓分布不均勻的問題，使固體顆粒物料在裝置內(nèi)流態(tài)化均勻分散，但是該裝置無法在液體中實現(xiàn)氣壓均勻分布，狹長的布氣口開孔容易產(chǎn)生較大直徑的氣泡，無法在液體中均勻布氣。專利CN202289881U公開了一種在液體中均勻布氣的外壓膜過濾器。在裝置中，均勻布氣的裝置是一組曝氣管，用于膜過濾過程加強膜表面的擾動，對膜的表面進行擦洗。但是，對于產(chǎn)生氣泡均勻程度要求嚴格的場合，這種布氣方式是不適用的。專利CN202844893U公開了一種由砂頭、氣體主流管和氣體分流管組成的快速均勻布氣裝置。這種裝置有效提高了單位體積的液體內(nèi)氣泡的分布密度，提高了氣液反應(yīng)的速率，已經(jīng)被具體應(yīng)用于石油工業(yè)領(lǐng)域，但是將這種布氣方式在使用過程中仍然存在問題。原因在于這種設(shè)備難以做到氣泡在反應(yīng)器不同高度的橫截面上均勻分布，無法實現(xiàn)單位傳質(zhì)高度內(nèi)氣泡分散相的相含率均勻一致。專利CN203484063U公開了一種快速均勻布氣盤，其布氣盤由多層砂網(wǎng)重疊組成，從上到下各層砂網(wǎng)可透氣部分的面積逐漸縮小，砂網(wǎng)的孔徑為20微米。但是，這種裝置也僅適用于氣液混合反應(yīng)的石油工業(yè)，并且無法獲得直徑均一的氣泡分散相。塔式氣液接觸設(shè)備均勻布氣的困難主要表現(xiàn)在氣體分布盤上不同區(qū)域生成氣泡的難易程度不同，導(dǎo)致單位傳質(zhì)高度內(nèi)氣泡分散相的相含率無法均勻一致，且生成氣泡的直徑大小差別相當(dāng)大。由于設(shè)備壁效應(yīng)的影響，在同一液體深度下，分布盤上方的壓力不均勻，導(dǎo)致在相同的進氣壓力條件下，分布盤上越靠近反應(yīng)器內(nèi)壁的局部區(qū)域，越容易生成氣泡，而遠離反應(yīng)器內(nèi)壁的局部區(qū)域較難生成氣泡。加大進氣壓力或流量，盡管可以使遠離反應(yīng)器內(nèi)壁的局部區(qū)域也產(chǎn)生氣泡，但是由于靠近反應(yīng)器內(nèi)壁的區(qū)域所受液壓阻力較小，生成氣泡直徑過大，導(dǎo)致塔式設(shè)備中無法獲得均勻直徑的氣泡。

技術(shù)實現(xiàn)要素：
針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的塔式氣液接觸設(shè)備中氣泡分布不均勻的問題，本發(fā)明提供了一種塔式氣液接觸設(shè)備均勻布氣裝置及其用途，通過增加氣室阻力實現(xiàn)塔體橫截面內(nèi)氣泡的均勻分布，并且氣泡的直徑均一。為達此目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：第一方面，本發(fā)明提供了一種塔式氣液接觸設(shè)備均勻布氣裝置，所述裝置從上到下依次包括塔體、氣體分布盤、阻力層和氣室。本發(fā)明中，所述塔體為頂端開放的空心圓筒，塔體下部設(shè)置有氣體分布盤。優(yōu)選地，塔體下部水平設(shè)置有氣體分布盤。優(yōu)選地，所述氣體分布盤的直徑與塔體的內(nèi)徑相等。其中，空心圓筒是充填料液的容器，空心圓筒內(nèi)充填的料液在塔體內(nèi)應(yīng)該具有一定高度。所述的“均勻布氣”，指的是氣體每單位時間穿過每單位面積的氣體分布盤的平面時，不僅生成的氣泡個數(shù)相同，而且氣體分布盤的每個區(qū)域生成的氣泡直徑大小一致。本發(fā)明中，所述氣體分布盤的基體為具有耐腐蝕性能的平板，該平板是由具有一定機械強度并且耐腐蝕的材料制備而成。優(yōu)選地，所述氣體分布盤基體的厚度為2～20mm，例如2mm、5mm、7mm、10mm、13mm、15mm、17mm或20mm等，進一步優(yōu)選為10mm；優(yōu)選地，所述氣體分布盤的基體上開設(shè)有貫穿基體的豎直孔道。優(yōu)選地，所述氣體分布盤的基體上開設(shè)的豎直孔道的內(nèi)徑為0.1～5mm，例如0.1mm、0.5mm、1mm、1.5mm、2mm、2.5mm、3mm、3.5mm、4mm、4.5mm或5mm等，優(yōu)選為1～4mm，進一步優(yōu)選為2mm。優(yōu)選地，所述氣體分布盤的基體上開設(shè)的豎直孔道的孔眼總面積占氣體布氣盤基體總面積的5～80％，例如5％、10％、20％、30％、40％、50％、60％、70％或80％等，優(yōu)選為10～30％，進一步優(yōu)選為20％。優(yōu)選地，所述氣體分布盤的基體上開設(shè)的豎直孔道中插有圓直管，圓直管的外壁與孔道內(nèi)壁之間密封，即圓直管的外徑與孔道內(nèi)徑相同。優(yōu)選地，所述圓直管貫穿氣體分布盤的基體。優(yōu)選地，所述圓直管的頂部平面高出氣體分布盤的基體上端面0.1～20mm，例如0.1mm、1mm、2mm、3mm、5mm、7mm、10mm、13mm、15mm、17mm或20mm等，優(yōu)選為0.1～10mm，進一步優(yōu)選為5mm。優(yōu)選地，所述圓直管的底部平面與氣體分布盤的基體下端面保持水平。本發(fā)明中，所述阻力層由2個以上空心圓筒和固體顆粒填充物組成，其中填充物通常為具有一定粒度分布且表面疏水的固體顆粒物。當(dāng)氣體通過阻力層后，因為阻力層對氣體的阻礙，使得氣體到達氣體分布盤基體底面時，氣壓變小。阻力層內(nèi)填充的固體顆粒物的粒徑或者密度不同時，對氣體穿過的阻礙能力不同，氣體穿過阻力層到達氣體分布盤基體底面的氣體壓力就不同，于是可通過調(diào)節(jié)阻力層內(nèi)填充的固體顆粒物的粒度和/或填充密度，使得從貫穿氣體分布盤基體的細小圓直管內(nèi)噴出的氣泡尺寸均一，并且氣體分布盤上方塔體橫截面內(nèi)生成氣泡的個數(shù)均勻。優(yōu)選地，所述阻力層厚度為2～100mm，例如2mm、10mm、20mm、30mm、40mm、50mm、60mm、70mm、80mm、90mm或100mm等，且阻力層的厚度沿塔體橫截面的徑向由內(nèi)向外逐漸增大。優(yōu)選地，固體顆粒填充物為不溶于水的固體顆粒，該固體顆粒具有一定的強度，優(yōu)選為玻璃球和/或聚苯乙烯球，例如可為玻璃球或聚苯乙烯球，或是玻璃球和聚苯乙烯球混合后一起作為固體顆粒填充物，優(yōu)選為聚苯乙烯球。優(yōu)選地，所述空心圓筒以塔體的中心軸線為軸，空心圓筒上端與氣體分布盤基體的下端面密封連接。優(yōu)選地，所述空心圓筒的個數(shù)為2～100，例如2、10、20、30、40、50、60、70、80、90或100等，進一步優(yōu)選為3～30。優(yōu)選地，所述空心圓筒的內(nèi)徑沿塔體橫截面的徑向由內(nèi)向外逐漸增大，且相鄰兩個空心圓筒間留有空隙形成圓環(huán)空腔。優(yōu)選地，所述直徑最小的空心圓筒內(nèi)形成中心圓筒空腔。形成的圓筒空腔和圓環(huán)空腔可以固定固體顆粒填充物，空心圓筒也是可以更換的，這樣有利于以調(diào)整阻力層對氣體的阻力。優(yōu)選地，所述固體顆粒填充物由織物包裹，包裹的織物一方面允許氣體通過，另一方面還起著承載填充物的作用，使填充物不會掉落在氣室中。優(yōu)選地，所述固體顆粒填充物由織物包裹后填充于中心圓筒空腔和圓環(huán)空腔中。優(yōu)選地，貫穿氣體分布盤的基體上圓直管與中心圓筒空腔和圓環(huán)空腔連通，這樣使氣體可以穿過填充于圓筒空腔和圓環(huán)空腔中的阻力層，從氣體分布盤上端面的圓直管噴出，形成氣泡。本發(fā)明中，填充于中心圓筒空腔和圓環(huán)空腔中的的固體顆粒物允許氣體通過的阻力沿塔體橫截面的徑向由內(nèi)向外逐漸增大。優(yōu)選地，填充于中心圓筒空腔和圓環(huán)空腔中的固體顆粒填充物的填充密度沿塔體橫截面的徑向由內(nèi)向外逐漸增大。優(yōu)選地，填充于中心圓筒空腔和圓環(huán)空腔中的固體顆粒填充物的粒徑沿塔體橫截面的徑向由內(nèi)向外逐漸減小。通過調(diào)整填充于圓筒空腔和圓環(huán)空腔中的固體顆粒填充物的粒徑和填充密度，可以在阻力層厚度相同的條件下，阻力層對氣體的阻力，沿塔體橫截面徑向由內(nèi)向外逐漸增大。本發(fā)明中，所述圓環(huán)空腔的環(huán)帶寬度與塔體內(nèi)徑的比為1:(3～1000)，例如1:3、1:10、1:30、1:50、1:70、1:100、1:300、1:500、1:700或1:1000等，優(yōu)選為1:(10～100)，進一步優(yōu)選為1:10。優(yōu)選地，所述圓筒空腔內(nèi)徑與塔體內(nèi)徑的比為1:(3～1000)，例如1:3、1:10、1:30、1:50、1:70、1:100、1:300、1:500、1:700或1:1000等，優(yōu)選為1:(10～100)，進一步優(yōu)選為1:10。優(yōu)選地，所述圓筒空腔和圓環(huán)空腔之間的氣體不串通。優(yōu)選地，所述圓環(huán)空腔之間的氣體不串通。本發(fā)明中，所述氣室為位于阻力層下方的與塔體相連的圓錐形空腔。優(yōu)選地，所述氣室底部設(shè)置有排液閥。優(yōu)選地，所述氣室的側(cè)壁開有進氣口。優(yōu)選地，進氣口的方向與塔體的水平橫截面相切。將氣室設(shè)計成圓錐形空腔，并在底部設(shè)置排液閥，目的是為了排出在設(shè)備調(diào)試以及設(shè)備啟停過程中由氣體分布盤上的細小圓直管經(jīng)過阻力層漏入氣室的液體，恢復(fù)氣室的正常狀態(tài)。在氣室的側(cè)壁開進氣口，并且進氣口的方向與塔體的水平橫截面相切，目的是使氣體由進氣管進入到氣室后在氣室內(nèi)氣體壓力快速均勻分布。上述塔式氣液接觸設(shè)備均勻布氣裝置的運行過程如下：啟動空氣壓縮機，待氣體穩(wěn)壓罐中的壓力穩(wěn)定后，通過氣體調(diào)節(jié)閥調(diào)節(jié)氣體流量，然后向塔體內(nèi)注入一定高度的液體，氣體通過布氣盤上的圓直管進入圓筒形塔體后可以獲得直徑均一穩(wěn)定的氣泡，并且氣體分布盤的每根細小圓直管上生成的氣泡的個數(shù)一致。從進氣管泵入氣室內(nèi)的氣體穿過阻力層、并通過氣體分布盤向塔體內(nèi)的液體中噴入氣泡。由于氣室中氣體穿過阻力層受到的阻力不同，氣體到達氣體分布盤下方時的壓力不同。通過調(diào)節(jié)阻力層內(nèi)填充物對氣體的阻力，可以實現(xiàn)穿過阻力層不同區(qū)域的氣體壓力跟氣體分布盤上方生成氣泡所需要的氣體壓力匹配，這樣就保證在氣體分布盤上每一個圓直管都有氣泡生成，每一個圓直管上生成的氣泡直徑相同，而且氣體分布盤上方橫截面內(nèi)生成氣泡的個數(shù)均勻。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的具有以下有益效果：(1)本發(fā)明所述的塔式氣液接觸設(shè)備均勻布氣裝置的布氣均勻性高。由于在塔式氣液接觸設(shè)備中的氣體分布盤下方設(shè)置了阻力不同的阻力層，可以通過調(diào)節(jié)阻力層內(nèi)的填充物的粒徑大小和充填密度，實現(xiàn)氣體穿過該阻力層后，經(jīng)氣體分布盤上方的細小圓直管生成具有相同直徑的氣泡可以達到90％以上，同時實現(xiàn)沿塔體橫截面徑向生成的氣泡個數(shù)相等。(2)本發(fā)明所述的塔式氣液接觸設(shè)備均勻布氣裝置中阻力層對氣體的阻力可以通過調(diào)整填充物的粒徑和填充密度來進行調(diào)節(jié)，使其能滿足整個氣體分布盤上方生成氣泡所需要的氣體壓力，從而在整個氣體分布盤上方生成均與分布且尺寸均一的氣泡。(3)本發(fā)明所述的塔式氣液接觸設(shè)備均勻布氣裝置的氣體布氣盤容易檢修和更換，并且氣體分布盤上的細小圓直管也是單個可更換的結(jié)構(gòu)。(4)本發(fā)明所述的塔式氣液接觸設(shè)備均勻布氣裝置運行穩(wěn)定，在設(shè)備的工作過程中，設(shè)置在氣室上方的阻力層最大限度的減少了氣體溝流的產(chǎn)生。附圖說明圖1是本發(fā)明所述塔式氣液接觸設(shè)備均勻布氣裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是所述塔式氣液接觸設(shè)備均勻布氣裝置的阻力層沿塔體橫截面的剖視圖；圖3是所述塔式氣液接觸設(shè)備均勻布氣裝置的阻力層沿塔體橫截面的分解示意圖；其中，1-塔體，2-氣體分布盤，3-氣室，4-氣體調(diào)節(jié)閥，5-氣體穩(wěn)壓罐，6-空氣壓縮機，7-阻力層，8-空心圓筒，9-固體顆粒填充物，10-排液閥，11-圓筒空腔，12-圓環(huán)空腔，13-進氣管。具體實施方式下面結(jié)合附圖并通過具體實施方式來進一步說明本發(fā)明的技術(shù)方案。以下結(jié)合附圖對本發(fā)明提出的塔式氣液接觸設(shè)備均勻布氣裝置進行說明，所列實施例僅用于解釋本發(fā)明，并不限定本發(fā)明提出的方法的使用范圍。本發(fā)明提供了一種塔式氣液接觸設(shè)備均勻布氣裝置，所述裝置從上到下依次包括塔體1、氣體分布盤2、阻力層7和氣室3。所述塔體1為頂端開放的空心圓筒，塔體1下部設(shè)置有氣體分布盤2。所述氣體分布盤2的直徑與塔體1的內(nèi)徑相等。所述氣體分布盤2的基體為具有耐腐蝕性能的平板。所述氣體分布盤2基體的厚度為2～20mm。所述氣體分布盤2的基體上開設(shè)有貫穿基體的豎直孔道。所述氣體分布盤2的基體上開設(shè)的豎直孔道的內(nèi)徑為0.1～5mm。所述氣體分布盤2的基體上開設(shè)的豎直孔道的孔眼總面積占氣體布氣盤2基體總面積的5～80％。所述氣體分布盤2的基體上開設(shè)的豎直孔道中插有圓直管，圓直管的外壁與孔道內(nèi)壁之間密封。所述圓直管貫穿氣體分布盤2的基體。所述圓直管的頂部平面高出氣體分布盤2的基體上端面0.1～20mm。所述圓直管的底部平面與氣體分布盤2的基體下端面保持水平。所述阻力層7由2個以上空心圓筒8和固體顆粒填充物9組成。所述阻力層7厚度為2～100mm，且阻力層7的厚度沿塔體橫截面的徑向由內(nèi)向外逐漸增大。所述固體顆粒填充物9為不溶于水的固體顆粒，優(yōu)選玻璃球和/或聚苯乙烯球。所述空心圓筒8以塔體1的中心軸線為軸，空心圓筒8上端與氣體分布盤2基體的下端面密封連接。所述空心圓筒8的個數(shù)為2～100。所述空心圓筒8的內(nèi)徑沿塔體1橫截面的徑向由內(nèi)向外逐漸增大，且相鄰兩個空心圓筒8間留有空隙形成圓環(huán)空腔12。所述直徑最小的空心圓筒8內(nèi)形成中心圓筒空腔11。所述固體顆粒填充物9由織物包裹。所述固體顆粒填充物9由織物包裹后填充于中心圓筒空腔11和圓環(huán)空腔12中。貫穿氣體分布盤2的基體上圓直管與中心圓筒空腔11和圓環(huán)空腔12連通。填充于中心圓筒空腔11和圓環(huán)空腔12中的固體顆粒填充物9允許氣體通過的阻力沿塔體1橫截面的徑向由內(nèi)向外逐漸增大。填充于中心圓筒空腔11和圓環(huán)空腔12中的固體顆粒填充物9的填充密度沿塔體1橫截面的徑向由內(nèi)向外逐漸增大。所述中心圓筒空腔11和圓環(huán)空腔12內(nèi)填充的固體顆粒物9的粒徑沿塔體1的橫截面的徑向由內(nèi)向外逐漸減小。所述圓環(huán)空腔12的環(huán)帶寬度與塔體1內(nèi)徑的比為1:(3～1000)。所述中心圓筒空腔11內(nèi)徑與塔體1內(nèi)徑的比為1:(3～1000)。所述圓筒空腔11和圓環(huán)空腔12之間的氣體不串通。所述圓環(huán)空腔12之間的氣體不串通。所述氣室3為位于阻力層7下方的與塔體1相連的圓錐形空腔。所述氣室3底部設(shè)置有排液閥10。所述氣室3的側(cè)壁開有進氣口。所述進氣口的方向與塔體1的水平橫截面相切。所述所述氣室3的進氣口與進氣管13連通。所述進氣管13從進氣口一端依次設(shè)置有氣體調(diào)節(jié)閥4、氣體穩(wěn)壓罐5和空氣壓縮機6。實施例1：如圖1所示，本實施例以3個空心圓筒為例，制造一個中試規(guī)模的溶劑氣浮塔，塔體尺寸為：柱式塔體1高3000mm，柱式塔體1直徑600mm。氣體分布盤2的基體采用6mm厚度的不銹鋼平板加工而成。氣體分布盤2的外邊緣與柱式塔體1下部密封連接，氣體分布盤2的厚度為10mm，氣體分布盤2上所開豎直孔道的內(nèi)徑為1mm，豎直孔道的孔眼總面積占氣體布氣盤2基體總面積的5％。豎直孔道中插入的細小圓直管長度為11mm，直徑為1mm，并且細小圓直管高出凸氣體分布盤2的基體5mm。氣體分布盤2的底面設(shè)置三個空心圓筒8，如圖2和圖3所示，空心圓筒8的直徑由內(nèi)到外分別為250mm、450mm和600mm，形成的圓筒空腔11的直徑為250mm，圓環(huán)空腔12的帶寬由內(nèi)向外為100mm和75mm。采用尼龍網(wǎng)織物承載聚苯乙烯球填充于圓筒空腔11和圓環(huán)空腔12中構(gòu)成阻力層7。填充于圓筒空腔11和圓環(huán)空腔12中的聚苯乙烯球的直徑由內(nèi)到外分別為2mm、1.5mm和1mm，阻力層7的厚度由2mm沿塔體橫截面的徑向由內(nèi)向外逐漸增大至20mm。操作時，啟動空氣壓縮機，待氣體穩(wěn)壓罐5中的壓力穩(wěn)定為0.6MPa時，調(diào)節(jié)氣體調(diào)節(jié)閥4使氣體流量為0.9m3/h，向塔體1內(nèi)中注入自來水，自來水在氣體分布盤2上的高度為250cm。氣體經(jīng)過氣體分布盤2上的細小圓直管后獲得直徑2mm的氣泡個數(shù)占生成的總氣泡個數(shù)95％以上，并且氣體分布盤2的每根細小圓直管上生成的氣泡的個數(shù)一致。實施例2：除了氣體分布盤2的底面設(shè)置4個空心圓筒8制造一個中試規(guī)模的溶劑氣浮塔，氣體分布盤的厚度為20mm，氣體分布盤2上所開豎直孔道的內(nèi)徑為2mm，豎直孔道的孔眼總面積占氣體布氣盤2基體總面積的10％，細小圓直管高出凸氣體分布盤2的基體10mm，阻力層7的厚度由20mm沿塔體橫截面的徑向由內(nèi)向外逐漸增大至100mm，其他結(jié)構(gòu)和操作均與實施例1中的溶劑氣浮塔相同，通過該裝置可在塔體橫截面獲得5mm的氣泡個數(shù)占生成的總氣泡個數(shù)95％以上，并且在塔體的橫截面上，氣泡個數(shù)相同。實施例3：除了氣體分布盤2的底面設(shè)置30個空心圓筒8制造一個中試規(guī)模的溶劑萃取塔，氣體分布盤的厚度為2mm，氣體分布盤2上所開豎直孔道的內(nèi)徑為4mm，豎直孔道的孔眼總面積占氣體布氣盤2基體總面積的20％，細小圓直管高出凸氣體分布盤2的基體20mm外，其他結(jié)構(gòu)和操作均與實施例1中的溶劑氣浮塔相同，通過該裝置可在塔體橫截面上獲得2mm的氣泡個數(shù)占生成的總氣泡個數(shù)95％以上，并且在塔體的橫截面上，氣泡個數(shù)相同。實施例4：除了氣體分布盤2的底面設(shè)置2個空心圓筒8制造一個中試規(guī)模的溶劑浮選塔，氣體分布盤2上所開豎直孔道的內(nèi)徑為5mm，豎直孔道的孔眼總面積占氣體布氣盤2基體總面積的30％，細小圓直管高出凸氣體分布盤2的基體0.1mm外，其他結(jié)構(gòu)和操作均與實施例1中的溶劑氣浮塔相同，通過該裝置可在塔體橫截面上獲得6mm的氣泡個數(shù)占生成的總氣泡個數(shù)95％以上，并且在塔體的橫截面上，氣泡個數(shù)相同。實施例5：除了氣體分布盤2的底面設(shè)置100個空心圓筒8制造一個中試規(guī)模的溶劑浮選塔，氣體分布盤2上所開豎直孔道的內(nèi)徑為0.1mm，豎直孔道的孔眼總面積占氣體布氣盤2基體總面積的80％外，其他結(jié)構(gòu)和操作均與實施例1中的溶劑氣浮塔相同，通過該裝置可在塔體橫截面上獲得2mm的氣泡個數(shù)占生成的總氣泡個數(shù)95％以上，并且在塔體的橫截面上，氣泡個數(shù)相同。綜上所述，本發(fā)明所述的塔式氣液接觸設(shè)備均勻布氣裝置的布氣均勻性高。由于在塔式氣液接觸設(shè)備中的氣體分布盤下方設(shè)置了阻力不同的阻力層，可以通過調(diào)節(jié)阻力層內(nèi)的填充物的粒徑大小和充填密度，實現(xiàn)氣體穿過該阻力層后，經(jīng)氣體分布盤上方的細小圓直管生成相同直徑的氣泡個數(shù)占總生成的氣泡個數(shù)的95％以上，同時實現(xiàn)沿塔體橫截面徑向生成的氣泡個數(shù)相等。本發(fā)明所述的塔式氣液接觸設(shè)備均勻布氣裝置中阻力層對氣體的阻力可以通過調(diào)整填充物的粒徑和填充密度來進行調(diào)節(jié)，使其能滿足整個氣體分布盤上方生成氣泡所需要的氣體壓力，從而在整個氣體分布盤上方生成均與分布且尺寸均一的氣泡。本發(fā)明所述的塔式氣液接觸設(shè)備均勻布氣裝置的氣體布氣盤容易檢修和更換，并且氣體分布盤上的細小圓直管也是單個可更換的結(jié)構(gòu)。本發(fā)明所述的塔式氣液接觸設(shè)備均勻布氣裝置運行穩(wěn)定，在設(shè)備的工作過程中，設(shè)置在氣室上方的阻力層最大限度的減少了氣體溝流的產(chǎn)生。申請人聲明，本發(fā)明通過上述實施例來說明本發(fā)明的詳細工藝設(shè)備和工藝流程，但本發(fā)明并不局限于上述詳細工藝設(shè)備和工藝流程，即不意味著本發(fā)明必須依賴上述詳細工藝設(shè)備和工藝流程才能實施。所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該明了，對本發(fā)明的任何改進，對本發(fā)明產(chǎn)品各原料的等效替換及輔助成分的添加、具體方式的選擇等，均落在本發(fā)明的保護范圍和公開范圍之內(nèi)。