本發(fā)明涉及藍(lán)寶石生產(chǎn)加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種用于藍(lán)寶石泡生法的再生料粉碎裝置及其粉碎方法。

背景技術(shù)：

在LED顯示器件上，需要使用藍(lán)寶石基板，制造藍(lán)寶石晶體的原料是氧化鋁。為了降低生產(chǎn)成本，現(xiàn)有的生產(chǎn)廠家都在使用再生料進(jìn)行藍(lán)寶石晶體的生產(chǎn)。不過(guò)，由于藍(lán)寶石的再生料顆粒度不均勻，在使用前需要進(jìn)行粉碎?，F(xiàn)有技術(shù)對(duì)于藍(lán)寶石再生料的粉碎均是使用普通的研磨設(shè)備進(jìn)行的，由于再生料的硬度較高，所以加工后的再生料的均勻度依然與新原料不再同一數(shù)量級(jí)上。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種用于藍(lán)寶石泡生法的再生料粉碎裝置及其粉碎方法，能夠解決現(xiàn)有技術(shù)的不足，提高再生料粉碎的均勻度。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明所采取的技術(shù)方案如下。

一種用于藍(lán)寶石泡生法的再生料粉碎裝置，包括上研磨盤和下研磨盤，所述上研磨盤底部環(huán)形布置有若干個(gè)研磨頭，下研磨盤的頂部設(shè)置有與研磨頭一一對(duì)應(yīng)的研磨凹槽，上研磨盤上設(shè)置有第一加料口和第二加料口，上研磨盤頂部通過(guò)第一彈簧體連接有第一旋轉(zhuǎn)電機(jī)， 第一旋轉(zhuǎn)電機(jī)頂部固定有連接桿，連接桿的末端連接有第二旋轉(zhuǎn)電機(jī)，下研磨盤下方設(shè)置有研磨管，研磨管與研磨凹槽連接，研磨管內(nèi)設(shè)置有研磨刀片，研磨刀片連接有第三旋轉(zhuǎn)電機(jī)，研磨管的外側(cè)通過(guò)回流管連接至下研磨盤，回流管與下研磨盤的連接點(diǎn)位于研磨凹槽之間的平面區(qū)域,研磨管上連接有第三加料口。

作為優(yōu)選，所述研磨頭包括弧形頭部，弧形頭部的一側(cè)設(shè)置有進(jìn)料通道，弧形頭部的另一側(cè)設(shè)置有出料通道，進(jìn)料通道與出料通道相連通，出料通道的底部設(shè)置有若干個(gè)出料孔。

作為優(yōu)選，所述進(jìn)料通道的進(jìn)口向下傾斜設(shè)置，進(jìn)料通道與水平面的夾角為10°，出料通道的出口向下傾斜設(shè)置，出料通道與水平面的夾角為13°，進(jìn)料通道與出料通道的連接處設(shè)置有橢球形內(nèi)腔，出料孔豎直設(shè)置。

作為優(yōu)選，所述出料孔為錐形，出料孔的進(jìn)料端與出料端的內(nèi)徑之比為3:1。

作為優(yōu)選，所述研磨凹槽為雙葉雙曲面形狀，研磨管頂部設(shè)置有圓臺(tái)形連接段，圓臺(tái)形連接段內(nèi)設(shè)置有橡膠塞，橡膠塞的頂部位于研磨凹槽內(nèi)，橡膠塞的側(cè)壁與圓臺(tái)形連接段的內(nèi)壁過(guò)盈配合，橡膠塞的底部通過(guò)第二彈簧體與研磨管連接。

作為優(yōu)選，所述橡膠塞的頂部邊緣設(shè)置有環(huán)形凹槽，環(huán)形凹槽內(nèi)設(shè)置有通孔。

作為優(yōu)選，所述研磨刀片包括刀片主體，刀片主體與研磨管的接觸邊緣設(shè)置有研磨片，研磨片與研磨管的接觸面的上部設(shè)置有粗糙 層，研磨片的下部設(shè)置有光滑層，粗糙層與研磨片的底面之間設(shè)置有導(dǎo)流管，刀片主體的頂面與研磨片的頂面之間設(shè)置有導(dǎo)流槽。

一種上述用于藍(lán)寶石泡生法的再生料粉碎裝置的粉碎方法，從第一加料口和第二加料口分別加入再生料和研磨劑，再生料與研磨劑的重量之比為9:1；啟動(dòng)第一旋轉(zhuǎn)電機(jī)、第二旋轉(zhuǎn)電機(jī)和第三旋轉(zhuǎn)電機(jī)進(jìn)行研磨，第一旋轉(zhuǎn)電機(jī)和第二旋轉(zhuǎn)電機(jī)的轉(zhuǎn)速之比為15:1；在研磨過(guò)程進(jìn)行10min～15min之后，從第三加料口加入添加劑，添加劑的添加量與再生料的重量之比為2:33，研磨結(jié)束后過(guò)濾出原料粉末。

作為優(yōu)選，所述研磨劑包括26wt％的碳化硅、8.5wt％的乙基黃原酸鈉、5wt％的氯化銦、11.5wt％的鋯酸鈣、7wt％的硫酸鍶、3.5wt％的4-芐氧基溴苯、5wt％的硬脂酸銅，余量為松節(jié)油。。

作為優(yōu)選，所述添加劑包括6wt％的N,N-二正丁基苯胺、8wt％的二烯丙基硫醚、1.5wt％的2'-甲氧基胞苷、10wt％的3-異硫氰酸溴丙酯、3.5wt％的3-羥基-4-氨基丁酸、35wt％的乙醇，余量為水。

采用上述技術(shù)方案所帶來(lái)的有益效果在于：本發(fā)明提供的研磨設(shè)備通過(guò)上研磨盤和下研磨盤的上下位移配合實(shí)現(xiàn)了立體式研磨，再生料通過(guò)上研磨盤和下研磨盤的研磨后進(jìn)入研磨管，進(jìn)行二次研磨，然后在研磨刀片的驅(qū)動(dòng)下，經(jīng)過(guò)二次研磨的再生料返回上研磨盤和下研磨盤中。這一循環(huán)研磨的過(guò)程不需要借助任何附加驅(qū)動(dòng)設(shè)備，通過(guò)使用研磨設(shè)備本身的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)設(shè)備即可實(shí)現(xiàn)，對(duì)再生料的研磨十分充分。研磨過(guò)程添加的研磨劑和添加劑可以提高再生料的分散度，降低再生料的粘連；更重要的是，可以對(duì)再生料顆粒的晶體結(jié)構(gòu)進(jìn)行分解 松動(dòng)，同時(shí)提高再生料顆粒收到擠壓力的均勻度，從而提高研磨效果。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施例中研磨設(shè)備的結(jié)構(gòu)圖。

圖2是本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施例中上研磨盤的結(jié)構(gòu)圖。

圖3是本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施例中下研磨盤的結(jié)構(gòu)圖。

圖4是本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施例中研磨刀片的結(jié)構(gòu)圖。

圖中：1、上研磨盤；2、下研磨盤；3、研磨頭；4、研磨凹槽；5、第一加料口；6、第二加料口；7、第一彈簧體；8、第一旋轉(zhuǎn)電機(jī)；9、連接桿；10、第二旋轉(zhuǎn)電機(jī)；11、研磨管；12、研磨刀片；13、回流管；14、第三加料口；15、弧形頭部；16、進(jìn)料通道；17、出料通道；18、出料孔；19、橢球形內(nèi)腔；20、圓臺(tái)形連接段；21、橡膠塞；22、第二彈簧體；23、環(huán)形凹槽；24、通孔；25、刀片主體；26、研磨片；27、粗糙層；28、光滑層；29、導(dǎo)流管；30、導(dǎo)流槽；31、第三旋轉(zhuǎn)電機(jī)；32、弧形凹槽；33、擋板。

具體實(shí)施方式

參照?qǐng)D1-4，本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施方式包括上研磨盤1和下研磨盤2，所述上研磨盤1底部環(huán)形布置有若干個(gè)研磨頭3，下研磨盤2的頂部設(shè)置有與研磨頭3一一對(duì)應(yīng)的研磨凹槽4，上研磨盤1上設(shè)置有第一加料口5和第二加料口6，上研磨盤1頂部通過(guò)第一彈簧體7連接有第一旋轉(zhuǎn)電機(jī)8，第一旋轉(zhuǎn)電機(jī)8頂部固定有連接桿9，連接桿9的末端連接有第二旋轉(zhuǎn)電機(jī)10，下研磨盤2下方設(shè)置有研磨管11，研磨管11與研磨凹槽4連接，研磨管11內(nèi)設(shè)置有研磨刀片 12，研磨刀片12連接有第三旋轉(zhuǎn)電機(jī)31，研磨管11的外側(cè)通過(guò)回流管13連接至下研磨盤2，回流管13與下研磨盤2的連接點(diǎn)位于研磨凹槽4之間的平面區(qū)域,研磨管11上連接有第三加料口14。所述研磨頭3包括弧形頭部15，弧形頭部15的一側(cè)設(shè)置有進(jìn)料通道16，弧形頭部15的另一側(cè)設(shè)置有出料通道17，進(jìn)料通道16與出料通道17相連通，出料通道17的底部設(shè)置有若干個(gè)出料孔18。所述進(jìn)料通道16的進(jìn)口向下傾斜設(shè)置，進(jìn)料通道16與水平面的夾角為10°，出料通道17的出口向下傾斜設(shè)置，出料通道17與水平面的夾角為13°，進(jìn)料通道16與出料通道17的連接處設(shè)置有橢球形內(nèi)腔19，出料孔18豎直設(shè)置。所述出料孔18為錐形，出料孔18的進(jìn)料端與出料端的內(nèi)徑之比為3:1。所述研磨凹槽4為雙葉雙曲面形狀，研磨管11頂部設(shè)置有圓臺(tái)形連接段20，圓臺(tái)形連接段20內(nèi)設(shè)置有橡膠塞21，橡膠塞21的頂部位于研磨凹槽4內(nèi)，橡膠塞21的側(cè)壁與圓臺(tái)形連接段20的內(nèi)壁過(guò)盈配合，橡膠塞21的底部通過(guò)第二彈簧體22與研磨管11連接。所述橡膠塞21的頂部邊緣設(shè)置有環(huán)形凹槽23，環(huán)形凹槽23內(nèi)設(shè)置有通孔24。所述研磨刀片12包括刀片主體25，刀片主體25與研磨管11的接觸邊緣設(shè)置有研磨片26，研磨片26與研磨管11的接觸面的上部設(shè)置有粗糙層27，研磨片26的下部設(shè)置有光滑層28，粗糙層27與研磨片26的底面之間設(shè)置有導(dǎo)流管29，刀片主體25的頂面與研磨片26的頂面之間設(shè)置有導(dǎo)流槽30。粗糙層27的表面設(shè)置有弧形凹槽32，使得再生料可以在弧形凹槽32內(nèi)形成循環(huán)緩沖效果，提高粗糙層27的研磨效果。導(dǎo)流管29與研磨片 26的底面的接口傾斜設(shè)置，導(dǎo)流管29與研磨片26的底面的夾角為25°，導(dǎo)流板29的出口處設(shè)置有擋板33，可以提高再生料向回流管13循環(huán)回流的流量。

一種上述用于藍(lán)寶石泡生法的再生料粉碎裝置的粉碎方法，從第一加料口5和第二加料口6分別加入再生料和研磨劑，再生料與研磨劑的重量之比為9:1；啟動(dòng)第一旋轉(zhuǎn)電機(jī)8、第二旋轉(zhuǎn)電機(jī)10和第三旋轉(zhuǎn)電機(jī)31進(jìn)行研磨，第一旋轉(zhuǎn)電機(jī)8和第二旋轉(zhuǎn)電機(jī)10的轉(zhuǎn)速之比為15:1；在研磨過(guò)程進(jìn)行10min～15min之后，從第三加料口14加入添加劑，添加劑的添加量與再生料的重量之比為2:33，研磨結(jié)束后過(guò)濾出原料粉末。所述研磨劑包括26wt％的碳化硅、8.5wt％的乙基黃原酸鈉、5wt％的氯化銦、11.5wt％的鋯酸鈣、7wt％的硫酸鍶、3.5wt％的4-芐氧基溴苯、5wt％的硬脂酸銅，余量為松節(jié)油。所述添加劑包括6wt％的N,N-二正丁基苯胺、8wt％的二烯丙基硫醚、1.5wt％的2'-甲氧基胞苷、10wt％的3-異硫氰酸溴丙酯、3.5wt％的3-羥基-4-氨基丁酸、35wt％的乙醇，余量為水。

另外，在發(fā)明人的后續(xù)研究當(dāng)中發(fā)現(xiàn)，在研磨劑中加入0.1wt％～0.2wt％的六水硫酸鎳，可以提高研磨劑的利用率，其中0.12wt％為優(yōu)選含量。針對(duì)加入六水硫酸鎳，在添加劑中0.5wt％的2,5-二氟氯苯和1.3wt％的3-羥基苯硫酚，可以提高六水硫酸鎳對(duì)再生料的包覆性。

本發(fā)明可以將再生料處理至與新原料的顆粒均勻度保持在同一數(shù)量級(jí)上，并且設(shè)備構(gòu)成簡(jiǎn)單，不會(huì)給使用再生料生產(chǎn)藍(lán)寶石晶體帶來(lái)額外的成本負(fù)擔(dān)，充分實(shí)現(xiàn)了通過(guò)使用再生料降低生產(chǎn)成本的目 的。

上述描述僅作為本發(fā)明可實(shí)施的技術(shù)方案提出，不作為對(duì)其技術(shù)方案本身的單一限制條件。