專利名稱：一種窯爐煙氣處理系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及基板玻璃的窯爐煙氣處理設(shè)備，尤其是一種窯爐煙氣處理系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
目前TFT-LCD基板玻璃窯爐煙氣中氧化硼、氮氧化物含量較高，容易對(duì)生產(chǎn)及大氣環(huán)境造成影響。除高溫鈉鹽料塵和夾生料易造成凝結(jié)堵塞外，氧化硼也容易對(duì)煙道造成堵塞，從而影響煙氣排出和爐壓的穩(wěn)定；窯爐采用純氧燃燒，且氧氣過量，一氧化氮部分轉(zhuǎn)化為二氧化氮，對(duì)設(shè)備也會(huì)造成很大的腐蝕。以往濕法處理過程中用到大量的水，容易造成二次污染，且這部分水也很難處理回收。而干法處理過程中除氮過程和除硼過程的溫度要求差別比較大，需要對(duì)除氮后的煙氣進(jìn)行有效的降溫，而為了避免使用尺寸很長(zhǎng)的煙道進(jìn)行自然降溫，就要加入降溫效果明顯的降溫裝置。隨著對(duì)環(huán)保的要求日益嚴(yán)格，設(shè)計(jì)一種能有效去除基板玻璃窯爐煙氣中有害物質(zhì)的裝置，對(duì)環(huán)境保護(hù)和我國(guó)今后基板玻璃產(chǎn)業(yè)的發(fā)展有著重要的現(xiàn)實(shí)意義?！?br>
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提供一種窯爐煙氣處理系統(tǒng)，能有效處理煙氣中的氧化硼及氮氧化物，并防止煙道料塵凝結(jié)堵塞和氧化硼堵塞現(xiàn)象。一種窯爐煙氣處理系統(tǒng)，其特別之處在于包括依次連通的第一降溫裝置、除氮裝置、第二降溫裝置、除硼裝置、除塵裝置、風(fēng)機(jī)和煙囪。其中第二降溫裝置為內(nèi)部安裝有至少一個(gè)表冷器的箱體。其中表冷器內(nèi)的冷卻水通過管路與循環(huán)泵連通，從而進(jìn)行循環(huán)冷卻。其中第一降溫裝置是一與補(bǔ)風(fēng)機(jī)通過風(fēng)管連通的腔體。其中除氮裝置采用選擇性催化還原除氮裝置。其中除塵裝置采用袋式除塵器或板式除塵器。本實(shí)用新型的目的是對(duì)基板玻璃窯爐煙氣進(jìn)行處理，主要是處理煙氣中的氮氧化物和氧化硼，因?yàn)榈趸锸怯泻怏w，也會(huì)對(duì)設(shè)備造成腐蝕，而氧化硼在低溫條件下容易結(jié)晶，造成煙 的堵塞。還可以使經(jīng)過除氮處理的煙氣進(jìn)行有效的降溫，從而符合采用干法除氮的要求。

圖I是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實(shí)用新型中第二降溫裝置(13)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是本實(shí)用新型中表冷器(23)的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型采用干法除氮過程，而該過程一般采用選擇性催化還原(SCR)方式，在該過程中一般要求溫度在280°C 350°C之間，而之后的除硼過程主要依靠硼的大量結(jié)晶而除去硼化物，此過程要求溫度在50°C 150°C之間，所以這兩個(gè)過程之間要求的溫差較大，如果不采取第二降溫裝置13進(jìn)行降溫，連接它們之間的煙道就需要很長(zhǎng)的尺寸來進(jìn)行自然降溫，而需要占用很大的空間。如圖I所示，本實(shí)用新型是一種窯爐煙氣處理系統(tǒng)，其中包括第一降溫裝置11，除氮裝置12，第二降溫裝置13，除硼裝置14，除塵裝置15，風(fēng)機(jī)16和煙囪17。煙氣經(jīng)窯爐煙氣出口 22流出，先經(jīng)過第一降溫裝置11的降溫，然后進(jìn)入除氮裝置12脫除氮氧化物，再經(jīng)過第二降溫裝置13的降溫后進(jìn)入除硼裝置14脫除硼，然后除塵裝置15除塵后由風(fēng)機(jī)16和煙囪17排出。第一降溫裝置11是一與補(bǔ)風(fēng)機(jī)通過風(fēng)管連通的腔體，采用補(bǔ)風(fēng)降溫方式，同時(shí)也可以對(duì)窯壓進(jìn)行調(diào)控。為了在煙氣處理的過程中不產(chǎn)生廢水，所以除氮裝置12采取干法處理，可選用選擇性催化還原(SCR)過程進(jìn)行除氮。SCR可分為高溫、中溫、低溫三種不同的工藝。高溫SCR—般指的是催化劑的適用溫度在450°C 600°C及以上，中溫SCR是指催化劑的適用溫度在280°C 350°C，而低溫SCR是指催化劑的適用溫度在120°C 300°C。本實(shí)用新型中煙氣到達(dá)除氮裝置12時(shí)溫度太高會(huì)使進(jìn)入除硼裝置14前的降溫比較困難，溫度太低又會(huì)導(dǎo)致硼在除氮裝置12中大量結(jié)晶從而堵塞催化劑，故本實(shí)用新型使用的是運(yùn)行溫度處于280°C 350°C的中溫催化劑。通過泵將尿素溶液噴入煙氣管道中與煙氣混合后進(jìn)入除氮裝置12，尿素分解成氨，氨和氮氧化物反應(yīng)4NH3+4N0+02=4N2+6H20，8NH3+6N02=7N2+12H20,4NH3+2N02+02=3N2+6H20。NH3與煙氣混合后一起通過一個(gè)填充了催化劑的反應(yīng)器，NOx與NH3在其中發(fā)生還原反應(yīng)，生成隊(duì)和!120。由于本實(shí)用新型中SCR運(yùn)行溫度處于280°C 350°C，所以煙氣在進(jìn)入除氮裝置12之前要經(jīng)過第一降溫裝置11的降溫，以滿足除氮反應(yīng)的要求。除硼裝置14優(yōu)先選用噴入熟石灰粉末的方法，熟石灰粉末可以中和硼酸并吸收水分，同時(shí)還可以作為氧化硼結(jié)晶的晶核。當(dāng)煙氣進(jìn)入除硼裝置14以后就會(huì)與噴入的熟石灰粉末相互混合，此時(shí)硼酸和熟石灰的反應(yīng)方程式如下4H3B03+Ca (OH) 2=CaB405 (OH) 4+5H20。未參加反應(yīng)的熟石灰粉末和氧化硼的結(jié)晶，以及反應(yīng)生成的固體產(chǎn)物在除塵裝置15中被收集，之后煙氣通過風(fēng)機(jī)16、煙囪17排出。除塵裝置15可以選用袋式集成器或者板式集塵器等。為了防止集塵器上的凝結(jié)堵塞，需要定期的對(duì)集塵器進(jìn)行震打。除硼裝置14和除塵裝置15優(yōu)選一用一備的配置，這樣可以防止在清理除硼裝置14和除塵裝置15的時(shí)候?qū)ΩG壓造成影響。由于氧化硼主要的結(jié)晶溫度在50°C 150°C之間，所以需要在除硼裝置14之前使用第二降溫裝置13使煙氣的溫度下降到50°C 150°C。由于除氮裝置12和除硼裝置14要求的工作溫度相差比較大，所以需要第二降溫裝置13具有良好的降溫效果。如圖2所示，為本實(shí)用新型中第二降溫裝置13的結(jié)構(gòu)示意圖，其中包括煙氣入口21，煙氣出口 22，表冷器23和降溫箱體24。煙氣從煙氣入口 21進(jìn)入降溫箱體24，降溫箱體24中裝有一個(gè)或者一個(gè)以上的表冷器23，冷卻水235在表冷器23中不斷循環(huán)，并對(duì)表冷器23表面流過的煙氣進(jìn)行降溫，經(jīng)過降溫的煙氣通過煙氣出口 22流出。其中降溫箱體24中的表冷器23可以交錯(cuò)排列，這樣增加了煙氣流過的行程，提高了降溫的效果。另外降溫箱體24的外部形狀及表冷器23的排列方式不局限于圖2中所示的方式，原理相同的情況下，其他的方式同樣適用。降溫箱體24可以整體或者部分打開進(jìn)行清理，防止煙塵或者氧化硼結(jié)晶造成堵塞。為了防止定期清理對(duì)煙氣排放及窯爐內(nèi)壓力造成較大影響，第二降溫裝置13優(yōu)選一用一備的配置。如圖3所示，為本實(shí)用新型中表冷器23的一種具體實(shí)施方式
，其中包括循環(huán)泵231，冷卻水加水口 232，冷卻水出水口 233和表冷器主體234。冷卻水235在循環(huán)泵231的作用下在表冷器主體234中不斷循環(huán)，當(dāng)冷卻水235的溫度高 于50°C時(shí)，將冷卻水235從冷卻水出水口 233放出，從冷卻水加水口 232加入溫度較低的冷卻水235。可在循環(huán)水管道上安裝溫度檢測(cè)裝置來檢測(cè)冷卻水235溫度，冷卻水235的加入和排放可以手動(dòng)進(jìn)行，也可根據(jù)溫度自動(dòng)控制。第二降溫裝置13中的一個(gè)或者多個(gè)表冷器23可以共用一個(gè)循環(huán)泵231或分開使用多個(gè)循環(huán)泵231。表冷器主體234的外部形狀及內(nèi)部隔板的排列方式不局限于圖3中所示的方式，原理相同的情況下，其他的方式同樣適用。
權(quán)利要求1.一種窯爐煙氣處理系統(tǒng)，其特征在于包括依次連通的第一降溫裝置(11)、除氮裝置(12)、第二降溫裝置(13)、除硼裝置(14)、除塵裝置(15)、風(fēng)機(jī)(16)和煙囪(17)。
2.如權(quán)利要求I所述的一種窯爐煙氣處理系統(tǒng)，其特征在于其中第二降溫裝置(13)為內(nèi)部安裝有至少一個(gè)表冷器(23)的箱體。
3.如權(quán)利要求2所述的一種窯爐煙氣處理系統(tǒng),其特征在于其中表冷器(23)內(nèi)的冷卻水(235)通過管路與循環(huán)泵(231)連通，從而進(jìn)行循環(huán)冷卻。
4.如權(quán)利要求I至3中任意一項(xiàng)所述的一種窯爐煙氣處理系統(tǒng)，其特征在于其中第一降溫裝置(11)是一與補(bǔ)風(fēng)機(jī)通過風(fēng)管連通的腔體。
5.如權(quán)利要求I至3中任意一項(xiàng)所述的一種窯爐煙氣處理系統(tǒng)，其特征在于其中除氮裝置(12)采用選擇性催化還原除氮裝置。
6.如權(quán)利要求I至3中任意一項(xiàng)所述的一種窯爐煙氣處理系統(tǒng)，其特征在于其中除塵裝置(15)采用袋式除塵器或板式除塵器。
專利摘要本實(shí)用新型涉及基板玻璃的窯爐煙氣處理設(shè)備，尤其是一種窯爐煙氣處理系統(tǒng)。包括依次連通的第一降溫裝置(11)、除氮裝置(12)、第二降溫裝置(13)、除硼裝置(14)、除塵裝置(15)、風(fēng)機(jī)(16)和煙囪(17)。本實(shí)用新型的目的是對(duì)基板玻璃窯爐煙氣進(jìn)行處理，主要是處理煙氣中的氮氧化物和氧化硼，因?yàn)榈趸锸怯泻怏w，也會(huì)對(duì)設(shè)備造成腐蝕，而氧化硼在低溫條件下容易結(jié)晶，造成煙囪的堵塞。還可以使經(jīng)過除氮處理的煙氣進(jìn)行有效的降溫，從而符合采用干法除氮的要求。
文檔編號(hào)B01D53/56GK202778260SQ20122035774
公開日2013年3月13日 申請(qǐng)日期2012年7月23日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月23日
發(fā)明者王寅, 楊國(guó)洪 申請(qǐng)人:彩虹顯示器件股份有限公司