專利名稱：補(bǔ)氣裝置和包括該補(bǔ)氣裝置的除灰系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及火力發(fā)電領(lǐng)域，具體地，涉及ー種補(bǔ)氣裝置和包括該補(bǔ)氣裝置的除灰系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
神華億利能源有限責(zé)任公司4X20(MW機(jī)組除塵設(shè)備采用布袋除塵器設(shè)備，灰斗排灰采用正壓濃相氣カ除灰系統(tǒng)，在倉泵的出ロ處安裝有補(bǔ)氣裝置，以對灰進(jìn)行流化處理，防止發(fā)生堵灰現(xiàn)象。如圖I和圖2所示，現(xiàn)有補(bǔ)氣裝置包括補(bǔ)氣管I和固定在補(bǔ)氣管I中的防磨襯套9，補(bǔ)氣管I與防磨襯套9之間形成有環(huán)形空腔12，補(bǔ)氣管I上設(shè)置有與環(huán)形空腔12相通的補(bǔ)氣進(jìn)氣ロ 10，防磨襯套9的形成環(huán)形空腔12的部分上設(shè)置有多個(gè)小孔11，該多個(gè)小孔11沿著防磨襯套9的周向方向均勻分布且在防磨襯套9的徑向方向上延伸。エ 作時(shí)，氣體通過補(bǔ)氣進(jìn)氣ロ 10進(jìn)入環(huán)形空腔12中，然后在該環(huán)形空腔12中流動(dòng)，經(jīng)過防磨襯套9上的小孔11噴出。當(dāng)氣體在環(huán)形空腔12中流動(dòng)時(shí)形成環(huán)形漩渦，這樣就會(huì)在流動(dòng)過程中不斷地沖刷磨損防磨襯套9，使得小孔11的形狀和孔徑不一致，當(dāng)氣流進(jìn)入吹灰管道內(nèi)時(shí)壓カ和方向均發(fā)生變化，加快了防磨襯套9和補(bǔ)氣管I的磨損，從而導(dǎo)致補(bǔ)氣裝置經(jīng)常漏灰，污染了現(xiàn)場的生產(chǎn)環(huán)境，并且導(dǎo)致除灰系統(tǒng)經(jīng)常停運(yùn)檢修，從而増加了檢修人員的工作強(qiáng)度，影響了除灰系統(tǒng)的正常運(yùn)行。此外，由于需要經(jīng)常更換補(bǔ)氣裝置，所以増加了使用成本。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提供一種能夠防止補(bǔ)氣裝置發(fā)生漏灰現(xiàn)象的補(bǔ)氣裝置和包括該補(bǔ)氣裝置的除灰系統(tǒng)。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供一種補(bǔ)氣裝置，該補(bǔ)氣裝置包括補(bǔ)氣管，其中，該補(bǔ)氣裝置還包括氣源分配管，該氣源分配管設(shè)置在所述補(bǔ)氣管的內(nèi)部，并且該氣源分配管的兩端封閉，該氣源分配管的相対的兩側(cè)分別設(shè)置有進(jìn)氣口和多個(gè)氣源分配孔，所述進(jìn)氣ロ與所述補(bǔ)氣管的外部相通，所述多個(gè)氣源分配孔沿著所述氣源分配管的軸向方向分布，并且至少一部分氣源分配孔的軸線與所述進(jìn)氣ロ的軸線平行。優(yōu)選地，所述氣源分配管固定在所述補(bǔ)氣管上。優(yōu)選地，所述氣源分配管的軸線與所述補(bǔ)氣管的軸線平行。優(yōu)選地，所述氣源分配孔沿著所述氣源分配管的軸向方向成排布置，其中ー排氣源分配孔的軸線與所述進(jìn)氣ロ的軸線平行。優(yōu)選地，所述氣源分配孔分布在所述進(jìn)氣ロ的兩側(cè)。優(yōu)選地，所述氣源分配孔為三排，另外兩排氣源分配孔位于所述其中一排氣源分配孔的兩側(cè)。優(yōu)選地，所述其中一排氣源分配孔的軸線與所述另外兩排氣源分配孔的軸線之間的夾角為30度 45度。[0011]優(yōu)選地，所述另外兩排氣源分配孔與所述其中一排氣源分配孔錯(cuò)開布置。優(yōu)選地，所述氣源分配孔為圓形，該圓形氣源分配孔的直徑為3毫米 5毫米。優(yōu)選地，在同一排氣源分配孔中，相鄰兩個(gè)所述氣源分配孔的間距為30毫米 50毫米。優(yōu)選地，所述氣源分配管上設(shè)置有與所述進(jìn)氣ロ相通的進(jìn)氣管，該進(jìn)氣管從所述補(bǔ)氣管中伸出。優(yōu)選地，所述進(jìn)氣管上安裝有節(jié)流孔板。優(yōu)選地，所述進(jìn)氣管上安裝有止回閥，該止回閥位于所述節(jié)流孔板的上游。優(yōu)選地，所述進(jìn)氣管上安裝有開關(guān)閥，該開關(guān)閥位于所述止回閥的上游。此外，本實(shí)用新型還提供了ー種除灰系統(tǒng)，該除灰系統(tǒng)包括倉泵、補(bǔ)氣裝置和氣源，所述補(bǔ)氣裝置設(shè)置在所述倉泵的出口處，其中，所述補(bǔ)氣裝置為本實(shí)用新型所提供的補(bǔ)氣裝置，所述補(bǔ)氣裝置的補(bǔ)氣管的一端與所述倉泵連接，所述補(bǔ)氣裝置的氣源分配管的進(jìn)氣ロ與所述氣源連接。由于氣源分配孔沿著氣源分配管的軸向方向分布，所以不會(huì)產(chǎn)生環(huán)形漩渦，從氣源分配孔噴出的氣體的壓カ較為均勻，減少了補(bǔ)氣管的磨損，從而防止了補(bǔ)氣裝置發(fā)生漏灰現(xiàn)象，避免了現(xiàn)場生產(chǎn)環(huán)境的污染，降低了檢修人員的工作強(qiáng)度，保證了除灰系統(tǒng)的正常運(yùn)行。此外，由于不需要經(jīng)常更換補(bǔ)氣裝置，所以減少了使用成本。本實(shí)用新型的其他特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的具體實(shí)施方式
部分予以詳細(xì)說明。

附圖是用來提供對本實(shí)用新型的進(jìn)ー步理解，并且構(gòu)成說明書的一部分，與下面的具體實(shí)施方式
一起用于解釋本實(shí)用新型，但并不構(gòu)成對本實(shí)用新型的限制。在附圖中圖I是現(xiàn)有補(bǔ)氣裝置的主視剖視圖；圖2是沿圖I中A-A線剖開的剖視圖；圖3是本實(shí)用新型提供的補(bǔ)氣裝置的主視剖視圖；圖4是沿圖3中B-B線剖開的剖視圖；圖5是沿圖3中C-C線剖開的剖視圖。附圖標(biāo)記說明I :補(bǔ)氣管；2 :氣源分配管；3 :進(jìn)氣ロ；4 :氣源分配孔；5 :進(jìn)氣管；6 :節(jié)流孔板；7 止回閥；8 :開關(guān)閥；9 :防磨襯套；10 :補(bǔ)氣進(jìn)氣ロ ；11 :小孔；12 :環(huán)形空腔；13 :法蘭。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
進(jìn)行詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解的是，此處所描述的具體實(shí)施方式
僅用于說明和解釋本實(shí)用新型，并不用于限制本實(shí)用新型。在本實(shí)用新型中，在未作相反說明的情況下，使用的方位詞如“上、下”是在本實(shí)用新型提供的補(bǔ)氣裝置的使用狀態(tài)下定義的，使用的術(shù)語“上游”是相對于氣體流動(dòng)方向定義的。如圖3和圖4所示，本實(shí)用新型提供了一種補(bǔ)氣裝置，該補(bǔ)氣裝置包括補(bǔ)氣管1，其中，該補(bǔ)氣裝置還包括氣源分配管2，該氣源分配管2設(shè)置在所述補(bǔ)氣管I的內(nèi)部，并且該氣源分配管2的兩端封閉，該氣源分配管2的相対的兩側(cè)分別設(shè)置有進(jìn)氣ロ 3和多個(gè)氣源分配孔4，所述進(jìn)氣ロ 3與所述補(bǔ)氣管I的外部相通，所述多個(gè)氣源分配孔4沿著所述氣源分配管2的軸向方向分布，并且至少一部分氣源分配孔4的軸線與所述進(jìn)氣ロ 3的軸線平行。本實(shí)用新型提供的補(bǔ)氣裝置在使用時(shí)，進(jìn)氣ロ 3通常位于氣源分配管2的上側(cè)，氣源分配孔4通常位于氣源分配管2的下側(cè)。當(dāng)本實(shí)用新型提供的補(bǔ)氣裝置工作吋，從倉泵中出來的灰沿箭頭A所示的方向流動(dòng)，氣體沿箭頭B所示的方向通過進(jìn)氣ロ 3進(jìn)入氣源分配管2中，并通過氣源分配管2上的氣源分配孔4流出，從氣源分配孔4流出的氣體帶動(dòng)補(bǔ)氣管I中的灰流動(dòng)，從而對灰起到流化作用。由于氣源分配孔4沿著氣源分配管2的軸向方向分布，所以不會(huì)產(chǎn)生環(huán)形漩渦，從氣源分配孔4噴出的氣體的壓カ較為均勻，減少了補(bǔ)氣管I的磨損，從而防止了補(bǔ)氣裝置發(fā)生漏灰現(xiàn)象，避免了現(xiàn)場生產(chǎn)環(huán)境的污染，降低了檢修人員的工作強(qiáng)度，保證了除灰系統(tǒng)的正常運(yùn)行。此外，由于不需要經(jīng)常更換補(bǔ)氣裝置，所以減少了使用成本。為了方便氣源分配管2的固定，優(yōu)選地，所述氣源分配管2固定在所述補(bǔ)氣管I上。氣源分配管2可以通過例如焊接的方式固定在補(bǔ)氣管I上。為了方便布置，優(yōu)選地，所述氣源分配管2的軸線與所述補(bǔ)氣管I的軸線平行。作為選擇，氣源分配管2也可以相對于補(bǔ)氣管I稍微傾斜設(shè)置。氣源分配管2的橫截面通常為圓形。作為選擇，氣源分配管2的橫截面也可以為方形或者其它形狀。為了方便布置，優(yōu)選地，所述氣源分配孔4沿著所述氣源分配管2的軸向方向成排布置，其中一排氣源分配孔4的軸線與所述進(jìn)氣ロ 3的軸線平行。為了防止氣體在通過進(jìn)氣ロ 3進(jìn)入氣源分配管2中時(shí)直接通過與進(jìn)氣ロ 3相対的氣源分配孔4流出，從而造成氣體的損失，優(yōu)選地，所述氣源分配孔4分布在所述進(jìn)氣ロ 3的兩側(cè)。氣源分配孔4可以設(shè)置為ー排，也可以設(shè)置為多排。如圖5所示，為了提高流化效果，優(yōu)選地，所述氣源分配孔4為三排，另外兩排氣源分配孔4位于所述其中一排氣源分配孔4的兩側(cè)。位于其中一排氣源分配孔4兩側(cè)的兩排氣源分配孔4的孔徑通常小于所述其中一排氣源分配孔4的孔徑。其中一排氣源分配孔4的軸線與所述另外兩排氣源分配孔4的軸線之間的夾角可以適當(dāng)選擇，為了獲得更好的流化效果，優(yōu)選地，所述其中一排氣源分配孔4的軸線與所述另外兩排氣源分配孔4的軸線之間的夾角為30度 45度。更優(yōu)選地，所述另外兩排氣源分配孔4與所述其中一排氣源分配孔4錯(cuò)開布置。所述氣源分配孔4通常為圓形，該圓形氣源分配孔4的直徑可以適當(dāng)選擇，例如圓形氣源分配孔4的直徑可以為3毫米 5毫米。此外，在同一排氣源分配孔4中，相鄰兩個(gè)所述氣源分配孔4的間距可以為30毫米 50毫米。為了方便氣源分配管2與氣源連接，優(yōu)選地，所述氣源分配管2上設(shè)置有與所述進(jìn)氣ロ 3相通的進(jìn)氣管5，該進(jìn)氣管5從所述補(bǔ)氣管I中伸出。進(jìn)氣管5可以與氣源分配管2一體成形，也可以與氣源分配管2分別形成，然后通過焊接的方式連接。此外，進(jìn)氣管5與補(bǔ)氣管I之間通常需要密封，例如通過各種常規(guī)的密封材料進(jìn)行密封。進(jìn)氣ロ 3通常為圓、形，與進(jìn)氣ロ 3相通的進(jìn)氣管5也通常為圓形。[0044]為了方便地控制氣體的流量，優(yōu)選地，所述進(jìn)氣管5上安裝有節(jié)流孔板6。節(jié)流孔板6在進(jìn)氣管5上的安裝方式為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知，在此不再贅述。為了防止灰倒流到氣源管中，優(yōu)選地，所述進(jìn)氣管5上安裝有止回閥7，該止回閥7位于所述節(jié)流孔板6的上游。止回閥7在進(jìn)氣管5上的安裝方式為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知，在此不再贅述。為了方便檢修，優(yōu)選地，所述進(jìn)氣管5上安裝有開關(guān)閥8，該開關(guān)閥8位于所述止回閥7的上游。開關(guān)閥8在進(jìn)氣管5上的安裝方式為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知，在此不再贅述。為了方便補(bǔ)氣管I的連接，補(bǔ)氣管I的兩端通常設(shè)置有法蘭13。此外，本實(shí)用新型還提供了ー種除灰系統(tǒng)，該除灰系統(tǒng)包括倉泵、補(bǔ)氣裝置和氣源，所述補(bǔ)氣裝置設(shè)置在所述倉泵的出口處，其中，所述補(bǔ)氣裝置為本實(shí)用新型所提供的補(bǔ)氣裝置，所述補(bǔ)氣裝置的補(bǔ)氣管I的一端與所述倉泵連接，所述補(bǔ)氣裝置的氣源分配管2的進(jìn)氣ロ 3與所述氣源連接。補(bǔ)氣管I的一端可以通過法蘭13與倉泵連接，補(bǔ)氣管I的另一端可以通過管道連接到另外ー個(gè)倉泵或者連接到灰?guī)?。補(bǔ)氣裝置的氣源分配管2的進(jìn)氣ロ 3與氣源連接，例如通過進(jìn)氣管5與氣源連接。倉泵和氣源的結(jié)構(gòu)為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知，在此不再贅述。當(dāng)本實(shí)用新型具體實(shí)施方式
提供的補(bǔ)氣裝置工作吋，從倉泵中出來的灰沿箭頭A所示的方向流動(dòng)，氣體沿箭頭B所示的方向通過進(jìn)氣管5進(jìn)入氣源分配管2中，并通過氣源分配管2上的氣源分配孔4流出，從氣源分配孔4流出的氣體帶動(dòng)補(bǔ)氣管I中的灰流動(dòng)，從而對灰起到流化作用。由于氣源分配孔4沿著氣源分配管2的軸向方向分布，所以不會(huì)產(chǎn)生環(huán)形漩渦，從氣源分配孔4噴出的氣體的壓カ較為均勻，減少了補(bǔ)氣管I的磨損，從而防止了補(bǔ)氣裝置發(fā)生漏灰現(xiàn)象，避免了現(xiàn)場生產(chǎn)環(huán)境的污染，降低了檢修人員的工作強(qiáng)度，保證了除灰系統(tǒng)的正常運(yùn)行。此外，由于不需要經(jīng)常更換補(bǔ)氣裝置，所以減少了使用成本。而且，通過本實(shí)用新型具體實(shí)施方式
提供的補(bǔ)氣裝置，可以增加補(bǔ)氣區(qū)域面積，分散了集中補(bǔ)氣的氣源壓力，在流化輸灰管道內(nèi)灰的同時(shí)，極大地減輕了氣體對管道的沖刷。再者，通過本實(shí)用新型提供的補(bǔ)氣裝置，還可以減少氣體使用量。以上結(jié)合附圖詳細(xì)描述了本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，但是，本實(shí)用新型并不限于上述實(shí)施方式中的具體細(xì)節(jié)，在本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi)，可以對本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行多種簡單變型，這些簡單變型均屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。另外需要說明的是，在上述具體實(shí)施方式
中所描述的各個(gè)具體技術(shù)特征，在不矛盾的情況下，可以通過任何合適的方式進(jìn)行組合。為了避免不必要的重復(fù)，本實(shí)用新型對各種可能的組合方式不再另行說明。此外，本實(shí)用新型的各種不同的實(shí)施方式之間也可以進(jìn)行任意組合，只要其不違背本實(shí)用新型的思想，其同樣應(yīng)當(dāng)視為本實(shí)用新型所公開的內(nèi)容。
權(quán)利要求1.一種補(bǔ)氣裝置，該補(bǔ)氣裝置包括補(bǔ)氣管(I)，其特征在干，該補(bǔ)氣裝置還包括氣源分配管(2)，該氣源分配管(2)設(shè)置在所述補(bǔ)氣管(I)的內(nèi)部，并且該氣源分配管(2)的兩端封閉，該氣源分配管(2)的相対的兩側(cè)分別設(shè)置有進(jìn)氣ロ(3)和多個(gè)氣源分配孔(4)，所述進(jìn)氣ロ(3)與所述補(bǔ)氣管(I)的外部相通，所述多個(gè)氣源分配孔(4)沿著所述氣源分配管(2)的軸向方向分布，并且至少一部分氣源分配孔(4)的軸線與所述進(jìn)氣ロ(3)的軸線平行。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的補(bǔ)氣裝置，其特征在于，所述氣源分配管(2)固定在所述補(bǔ)氣管⑴上。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的補(bǔ)氣裝置，其特征在于，所述氣源分配管(2)的軸線與所述補(bǔ)氣管(I)的軸線平行。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的補(bǔ)氣裝置，其特征在于，所述氣源分配孔(4)沿著所述氣源分配管(2)的軸向方向成排布置，其中一排氣源分配孔(4)的軸線與所述進(jìn)氣ロ(3)的軸線平行。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的補(bǔ)氣裝置，其特征在于，所述氣源分配孔(4)分布在所述進(jìn)氣ロ⑶的兩側(cè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的補(bǔ)氣裝置，其特征在于，所述氣源分配孔(4)為三排，另外兩排氣源分配孔⑷位于所述其中一排氣源分配孔⑷的兩側(cè)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的補(bǔ)氣裝置，其特征在于，所述其中一排氣源分配孔(4)的軸線與所述另外兩排氣源分配孔(4)的軸線之間的夾角為30度 45度。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的補(bǔ)氣裝置，其特征在于，所述另外兩排氣源分配孔(4)與所述其中一排氣源分配孔(4)錯(cuò)開布置。
9.根據(jù)權(quán)利要求4至8中任意一項(xiàng)所述的補(bǔ)氣裝置，其特征在于，所述氣源分配孔(4)為圓形，該圓形氣源分配孔(4)的直徑為3毫米 5毫米。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的補(bǔ)氣裝置，其特征在于，在同一排氣源分配孔(4)中，相鄰兩個(gè)所述氣源分配孔(4)的間距為30毫米 50毫米。
11.根據(jù)權(quán)利要求I所述的補(bǔ)氣裝置，其特征在于，所述氣源分配管(2)上設(shè)置有與所述進(jìn)氣ロ(3)相通的進(jìn)氣管(5)，該進(jìn)氣管(5)從所述補(bǔ)氣管(I)中伸出。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的補(bǔ)氣裝置，其特征在于，所述進(jìn)氣管(5)上安裝有節(jié)流孔板(6)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的補(bǔ)氣裝置，其特征在于，所述進(jìn)氣管(5)上安裝有止回閥(7)，該止回閥(7)位于所述節(jié)流孔板(6)的上游。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的補(bǔ)氣裝置，其特征在于，所述進(jìn)氣管(5)上安裝有開關(guān)閥(8)，該開關(guān)閥(8)位于所述止回閥(7)的上游。
15.ー種除灰系統(tǒng)，該除灰系統(tǒng)包括倉泵、補(bǔ)氣裝置和氣源，所述補(bǔ)氣裝置設(shè)置在所述倉泵的出ロ處，其特征在于，所述補(bǔ)氣裝置為根據(jù)權(quán)利要求I至14中任意一項(xiàng)所述的補(bǔ)氣裝置，所述補(bǔ)氣裝置的補(bǔ)氣管(I)的一端與所述倉泵連接，所述補(bǔ)氣裝置的氣源分配管(2)的進(jìn)氣ロ(3)與所述氣源連接。
專利摘要提供了一種補(bǔ)氣裝置，該補(bǔ)氣裝置包括補(bǔ)氣管(1)，其中，該補(bǔ)氣裝置還包括氣源分配管(2)，該氣源分配管(2)設(shè)置在補(bǔ)氣管(1)的內(nèi)部，并且該氣源分配管(2)的兩端封閉，該氣源分配管(2)的相對的兩側(cè)分別設(shè)置有進(jìn)氣口(3)和多個(gè)氣源分配孔(4)，進(jìn)氣口(3)與補(bǔ)氣管(1)的外部相通，多個(gè)氣源分配孔(4)沿著氣源分配管(2)的軸向方向分布，并且至少一部分氣源分配孔(4)的軸線與進(jìn)氣口(3)的軸線平行。此外，還提供了一種包括上述補(bǔ)氣裝置的除灰系統(tǒng)。由于氣源分配孔沿著氣源分配管的軸向方向分布，所以不會(huì)產(chǎn)生環(huán)形漩渦，從氣源分配孔噴出的氣體的壓力較為均勻，減少了補(bǔ)氣管的磨損，從而防止了補(bǔ)氣裝置發(fā)生漏灰現(xiàn)象。
文檔編號B01D46/42GK202387329SQ201120479149
公開日2012年8月22日 申請日期2011年11月25日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月25日
發(fā)明者崔勝 , 馬輝 申請人:中國神華能源股份有限公司, 神華億利能源有限責(zé)任公司, 神華神東電力有限責(zé)任公司