專利名稱：環(huán)向管式多腔進(jìn)氣分布裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種進(jìn)氣分布裝置，特別是涉及一種用于填料塔的環(huán)向管式多腔進(jìn)氣分布裝置。
背景技術(shù)：
填料塔是氣液兩相的傳質(zhì)設(shè)備，其傳質(zhì)效率的高低是由氣液兩相能否充分接觸來決定的，而氣液兩相充分接觸的關(guān)鍵之一是填料塔進(jìn)氣分布裝置。當(dāng)使用乙二醇吸收二氧化碳時(shí)，由于側(cè)向進(jìn)氣引起塔內(nèi)床層中氣體分布不均勻，使靠近進(jìn)氣管半邊塔的傳質(zhì)效率較另一邊要高出30% ；直徑為800mm的裝有拉西環(huán)的填料塔，當(dāng)填料層高度達(dá)100m，塔截面不同點(diǎn)處氣速差別可達(dá)3倍多，造成塔截面上各處的氣液比差別很大，大大降低了填料塔的分離效率。因此，依靠填料層本身使氣體達(dá)到均勻分布是不可能實(shí)現(xiàn)的。隨著大型塔的發(fā)展和填料床層的薄層化，使得進(jìn)氣分布裝置的設(shè)置顯得十分重要。中國發(fā)明專利CN 101837268A公開了一種環(huán)流進(jìn)氣分布裝置，如圖4、圖5所示，該裝置包括進(jìn)氣管1 ’、導(dǎo)流葉片2’、內(nèi)筒3’和頂部封板5’，該裝置位于填料塔內(nèi)，頂部封板5’的內(nèi)圈焊接在內(nèi)筒3’的上端，頂部封板5’的外圈焊接在填料塔的塔壁4’上，導(dǎo)流葉片2’均勻的布置內(nèi)筒3’上， 并且位于內(nèi)筒3’和塔壁4’之間，通過進(jìn)氣管1’進(jìn)入的氣體經(jīng)導(dǎo)流葉片2’均勻分流后，和塔底碰撞并折返經(jīng)內(nèi)筒3’向上流動(dòng)，從而提高了氣流分布的均勻性，但是，采用這種結(jié)構(gòu)后氣流的分布還存在中心部位氣量較多，塔壁位置氣量較少的問題。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種結(jié)構(gòu)簡單、成本低的環(huán)向管式多腔進(jìn)氣分布裝置。該裝置解決了填料塔在進(jìn)氣時(shí)中心部位進(jìn)氣量與塔壁位置進(jìn)氣量分布不均衡的問題。本實(shí)用新型環(huán)向管式多腔進(jìn)氣分布裝置，包括進(jìn)氣管、內(nèi)筒、外筒、上環(huán)、下環(huán)和至少6根出氣管，內(nèi)筒位于外筒內(nèi)，內(nèi)筒與外筒之間構(gòu)成進(jìn)氣腔，上環(huán)固定安裝在內(nèi)筒和外筒的上端，下環(huán)固定安裝在內(nèi)筒和外筒的下端，上環(huán)和下環(huán)將進(jìn)氣腔的上下兩底面封閉，進(jìn)氣管的內(nèi)端與外筒固定連接，出氣管的外端與內(nèi)筒固定連接，出氣管的內(nèi)端封閉，并且進(jìn)氣管、出氣管均與進(jìn)氣腔連通，出氣管均勻分布在內(nèi)筒的內(nèi)壁上，出氣管的管壁上開設(shè)有出氣本實(shí)用新型環(huán)向管式多腔進(jìn)氣分布裝置，其中所述出氣口的開口方向下。本實(shí)用新型環(huán)向管式多腔進(jìn)氣分布裝置，其中所述進(jìn)氣管、內(nèi)筒、外筒和出氣管均成圓柱狀，內(nèi)筒與外筒的軸線重合，進(jìn)氣管與出氣管的軸線均與外筒的軸線垂直。本實(shí)用新型環(huán)向管式多腔進(jìn)氣分布裝置，其中所述出氣管的內(nèi)端均固定連接到連接塊上。本實(shí)用新型環(huán)向管式多腔進(jìn)氣分布裝置與現(xiàn)有技術(shù)不同之處在于本實(shí)用新型通過至少六根均勻分布在內(nèi)筒外接圓所在圓周上的出氣管向填料塔內(nèi)送氣，因?yàn)榇嬖诰鶆蚍植嫉某鰵饪?，所以保證了填料塔中心和塔壁位置進(jìn)氣均勻。
以下結(jié)合附圖對本實(shí)用新型環(huán)向管式多腔進(jìn)氣分布裝置作進(jìn)一步說明。

圖1為本實(shí)用新型環(huán)向管式多腔進(jìn)氣分布裝置的俯視圖；圖2為圖1中沿A-A方向的剖視圖；圖3為實(shí)用新型環(huán)向管式多腔進(jìn)氣分布裝置的使用狀態(tài)圖；圖4為現(xiàn)有技術(shù)環(huán)流進(jìn)氣分布裝置的俯視圖；圖5為現(xiàn)有技術(shù)環(huán)流進(jìn)氣分布裝置的主視剖視圖。
具體實(shí)施方式
如圖1、圖2所示，本實(shí)用新型環(huán)向管式多腔進(jìn)氣分布裝置包括進(jìn)氣管1、內(nèi)筒2、外筒3、上環(huán)4、下環(huán)5和8根出氣管6，進(jìn)氣管1、內(nèi)筒2、外筒3和出氣管6均成圓柱狀，內(nèi)筒 2位于外筒3內(nèi)，內(nèi)筒2與外筒3的軸線重合，內(nèi)筒2與外筒3之間構(gòu)成進(jìn)氣腔7，上環(huán)4焊接在內(nèi)筒2和外筒3的上端，下環(huán)5焊接在內(nèi)筒2和外筒3的下端，上環(huán)4和下環(huán)5將進(jìn)氣腔7的上下兩底面封閉，進(jìn)氣管1的內(nèi)端與外筒3焊接，出氣管6的外端均與內(nèi)筒2焊接， 出氣管6的內(nèi)端封閉，且均焊接到連接塊9上。并且進(jìn)氣管1、出氣管6均勻進(jìn)氣腔7連通， 進(jìn)氣管1與出氣管6的軸線均與外筒3的軸線垂直，其中8根出氣管6均勻分布在內(nèi)筒2 的內(nèi)壁上，出氣管6的管壁上開設(shè)有出氣口 8，出氣口 8的開口方向向下。本實(shí)用新型環(huán)向管式多腔進(jìn)氣分布裝置在使用時(shí)，如圖3所示，將其固定安裝在填料塔內(nèi)，氣體通過進(jìn)氣管1進(jìn)入內(nèi)筒2與外筒3之間的進(jìn)氣腔7中，然后通過進(jìn)氣腔7進(jìn)入8個(gè)出氣管6中，氣體通過出氣管6的出氣口 8排出，最后均勻的進(jìn)入填料塔中心和塔壁位置，從而使填料塔內(nèi)的氣液兩相充分接觸。以上所述的實(shí)施例僅僅是對本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行描述，并非對本實(shí)用新型的范圍進(jìn)行限定，在不脫離本實(shí)用新型設(shè)計(jì)精神的前提下，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員對本實(shí)用新型的技術(shù)方案作出的各種變形和改進(jìn)，均應(yīng)落入本實(shí)用新型權(quán)利要求書確定的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種環(huán)向管式多腔進(jìn)氣分布裝置，其特征在于包括進(jìn)氣管(1)、內(nèi)筒( 、外筒(3)、 上環(huán)(4)、下環(huán)(5)和至少6根出氣管(6)，所述內(nèi)筒(2)位于外筒(3)內(nèi)，內(nèi)筒(2)與外筒 (3)之間的間隙構(gòu)成進(jìn)氣腔(7)，所述上環(huán)固定安裝在內(nèi)筒(2)和外筒(3)的上端，下環(huán)(5)固定安裝在內(nèi)筒( 和外筒(；3)的下端，所述上環(huán)(4)和下環(huán)( 將進(jìn)氣腔(7)的上下兩底面封閉，所述進(jìn)氣管(1)的內(nèi)端與外筒(3)固定連接，出氣管(6)的外端與內(nèi)筒(2) 固定連接，出氣管(6)的內(nèi)端封閉，并且進(jìn)氣管(1)、出氣管(6)均與進(jìn)氣腔(7)連通，所述出氣管(6)均勻分布在內(nèi)筒O)的內(nèi)壁上，出氣管(6)的管壁上開設(shè)有出氣口(8)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的環(huán)向管式多腔進(jìn)氣分布裝置，其特征在于所述出氣口(8) 的開口方向下。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的環(huán)向管式多腔進(jìn)氣分布裝置，其特征在于所述進(jìn)氣管(1)、 內(nèi)筒O)、外筒(3)和出氣管(6)均成圓柱狀，內(nèi)筒(2)與外筒(3)的軸線重合，進(jìn)氣管(1) 與出氣管(6)的軸線均與外筒(3)的軸線垂直。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的環(huán)向管式多腔進(jìn)氣分布裝置，其特征在于所述出氣管(6) 的內(nèi)端均固定連接到連接塊(9)上。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種用于填料塔的環(huán)向管式多腔進(jìn)氣分布裝置。其目的是為了提供一種結(jié)構(gòu)簡單、成本低的環(huán)向管式多腔進(jìn)氣分布裝置，該裝置解決了填料塔在進(jìn)氣時(shí)中心部位進(jìn)氣量與塔壁位置進(jìn)氣量分布不均衡的問題。本實(shí)用新型環(huán)向管式多腔進(jìn)氣分布裝置包括進(jìn)氣管、內(nèi)筒、外筒、上環(huán)、下環(huán)和至少6根出氣管，內(nèi)筒位于外筒內(nèi)，內(nèi)筒與外筒之間構(gòu)成進(jìn)氣腔，上環(huán)和下環(huán)將進(jìn)氣腔的上下兩底面封閉，進(jìn)氣管、出氣管均與進(jìn)氣腔連通，出氣管均勻分布在內(nèi)筒的內(nèi)壁上，出氣管上開設(shè)有出氣口。本實(shí)用新型通過均勻分布的至少6根出氣管向填料塔內(nèi)送氣，因?yàn)榇嬖诰鶆蚍植嫉某鰵饪冢员ＷC了填料塔中心和塔壁位置進(jìn)氣均勻。
文檔編號(hào)B01J4/00GK202191884SQ20112027806
公開日2012年4月18日 申請日期2011年8月2日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月2日
發(fā)明者何雄志 申請人:何雄志