專(zhuān)利名稱(chēng)：結(jié)構(gòu)改良的反應(yīng)釜冷卻系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種反應(yīng)釜冷卻系統(tǒng)，特別涉及一種結(jié)構(gòu)改良的反應(yīng)釜冷卻系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
目前，反應(yīng)釜的冷卻系統(tǒng)的進(jìn)口位置都位于下靜環(huán)上端，直接與密封腔體連通，冷卻介質(zhì)不經(jīng)過(guò)下靜環(huán)圓周方向的外側(cè)，這導(dǎo)致下靜環(huán)冷卻不充分，熱量難于散發(fā)出去，也就使下靜環(huán)使用壽命短。

發(fā)明內(nèi)容
為了彌補(bǔ)以上不足，本發(fā)明提供了一種結(jié)構(gòu)改良的反應(yīng)釜冷卻系統(tǒng)，該結(jié)構(gòu)改良的反應(yīng)釜冷卻系統(tǒng)使反應(yīng)釜內(nèi)部件冷卻充分。本發(fā)明為了解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是一種結(jié)構(gòu)改良的反應(yīng)釜冷卻系統(tǒng)，包括動(dòng)環(huán)模塊、上、下靜環(huán)、上、下密封箱體和密封筒體，以使用方向?yàn)榛鶞?zhǔn)，上、下靜環(huán)分別密封固定設(shè)于上、下密封箱體上，上、下靜環(huán)分別與動(dòng)環(huán)模塊的上下兩端的動(dòng)環(huán)密封接觸，密封筒體上下兩端分別與上、下密封箱體密封固連，上、下密封箱體、上、下靜環(huán)、動(dòng)環(huán)模塊和密封筒體之間形成一密封腔體，上密封箱體上設(shè)有一將該密封腔體與外界連通的出口通道，下密封箱體上設(shè)有一個(gè)將該密封腔體與外界連通的進(jìn)口通道，所述該進(jìn)口通道對(duì)應(yīng)位于下靜環(huán)圓周方向外側(cè)壁下段處，冷卻液進(jìn)口位置低，保證下靜環(huán)也能夠被充分的冷卻到。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述下靜環(huán)圓周方向外側(cè)壁形成進(jìn)口通道內(nèi)側(cè)壁的一部分，冷卻介質(zhì)直接與下靜環(huán)外側(cè)壁接觸，保證下靜環(huán)冷卻更充分。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述下密封箱體與下靜環(huán)外壁之間形成一圈環(huán)狀空間，該環(huán)狀空間分別與下密封箱體的進(jìn)口通道和密封腔體連通，這樣保證充分冷卻的同時(shí)小顆粒的雜質(zhì)可以進(jìn)入環(huán)狀空間內(nèi)沉積，防止磨損密封裝置。本發(fā)明的有益效果是本發(fā)明通過(guò)將冷卻介質(zhì)的進(jìn)口通道下移到下靜環(huán)圓周方向下段位置，保證下靜環(huán)也能夠被充分冷卻，從而使整個(gè)反應(yīng)釜內(nèi)發(fā)熱元器件都得到充分的冷卻，同時(shí)還可將冷卻介質(zhì)內(nèi)的雜質(zhì)沉積到進(jìn)口處的環(huán)狀空間內(nèi)，防止磨損反應(yīng)釜內(nèi)元器件，保證反應(yīng)釜內(nèi)元器件的使用壽命。


圖I為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)原理示意圖。
具體實(shí)施例方式實(shí)施例一種結(jié)構(gòu)改良的反應(yīng)釜冷卻系統(tǒng)，包括動(dòng)環(huán)模塊I、上、下靜環(huán)2、3、上、下密封箱體4、5和密封筒體6，以使用方向?yàn)榛鶞?zhǔn)，上、下靜環(huán)2、3分別密封固定設(shè)于上、下密封箱體4、5上，上、下靜環(huán)2、3分別與動(dòng)環(huán)模塊I的上下兩端的動(dòng)環(huán)密封接觸，密封筒體6上下兩端分別與上、下密封箱體4、5密封固連，上、下密封箱體4、5、上、下靜環(huán)2、3、動(dòng)環(huán)模塊I和密封筒體6之間形成一密封腔體7，上密封箱體4上設(shè)有一將該密封腔體7與外界連通的出口通道41，下密封箱體5上設(shè)有一個(gè)將該密封腔體7與外界連通的進(jìn)口通道51，所述該進(jìn)口通道51對(duì)應(yīng)位于下靜環(huán)3圓周方向外側(cè)壁下段處，冷卻液進(jìn)口位置低，保證下靜環(huán)3也能夠被充分的冷卻到。所述下靜環(huán)3圓周方向外側(cè)壁形成進(jìn)口通道51內(nèi)側(cè)壁的一部分，冷卻介質(zhì)直接與下靜環(huán)3外側(cè)壁接觸，保證下靜環(huán)3冷卻更充分。所述下密封箱體5與下靜環(huán)3外壁之間形成一圈環(huán)狀空間8，該環(huán)狀空間8分別與下密封箱體的進(jìn)口通道51和密封腔體7連通，這樣保證充分冷卻的同時(shí)小顆粒的雜質(zhì)可以進(jìn)入環(huán)狀空間8內(nèi)沉積，防止磨損密封裝置。
權(quán)利要求
1.一種結(jié)構(gòu)改良的反應(yīng)釜冷卻系統(tǒng)，包括動(dòng)環(huán)模塊(I)、上、下靜環(huán)(2、3)、上、下密封箱體(4、5)和密封筒體￠)，以使用方向?yàn)榛鶞?zhǔn)，上、下靜環(huán)(2、3)分別密封固定設(shè)于上、下密封箱體(4、5)上，上、下靜環(huán)(2、3)分別與動(dòng)環(huán)模塊(I)的上下兩端的動(dòng)環(huán)密封接觸，密封筒體(6)上下兩端分別與上、下密封箱體(4、5)密封固連，上、下密封箱體(4、5)、上、下靜環(huán)(2、3)、動(dòng)環(huán)模塊(I)和密封筒體(6)之間形成一密封腔體(7)，上密封箱體(4)上設(shè)有一將該密封腔體(7)與外界連通的出口通道(41)，其特征是下密封箱體(5)上設(shè)有一個(gè)將該密封腔體(7)與外界連通的進(jìn)口通道(51)，所述該進(jìn)口通道(51)對(duì)應(yīng)位于下靜環(huán)(3) 圓周方向外側(cè)壁下段處。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的結(jié)構(gòu)改良的反應(yīng)釜冷卻系統(tǒng)，其特征是所述下靜環(huán)(3)圓周方向外側(cè)壁形成進(jìn)口通道(51)內(nèi)側(cè)壁的一部分。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的結(jié)構(gòu)改良的反應(yīng)釜冷卻系統(tǒng)，其特征是所述下密封箱體(5) 與下靜環(huán)(3)外壁之間形成一圈環(huán)狀空間(8)，該環(huán)狀空間(8)分別與下密封箱體的進(jìn)口通道(51)和密封腔體(7)連通。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種結(jié)構(gòu)改良的反應(yīng)釜冷卻系統(tǒng)，分別密封固設(shè)于上、下密封箱體上的上、下靜環(huán)分別與動(dòng)環(huán)模塊兩端的動(dòng)環(huán)密封接觸，密封筒體兩端分別與上、下密封箱體密封固連，上、下密封箱體、上、下靜環(huán)、動(dòng)環(huán)模塊和密封筒體之間形成一密封腔體，上、下密封箱體上分別設(shè)有將該密封腔體與外界連通的出、進(jìn)口通道，所述進(jìn)口通道對(duì)應(yīng)位于下靜環(huán)圓周方向外側(cè)壁下段處，本發(fā)明冷卻介質(zhì)的進(jìn)口通道位于下靜環(huán)圓周方向下段，保證下靜環(huán)也能夠被充分冷卻，從而使整個(gè)反應(yīng)釜內(nèi)發(fā)熱元器件都得到充分的冷卻，同時(shí)還可將冷卻介質(zhì)內(nèi)的雜質(zhì)沉積到進(jìn)口處的環(huán)狀空間內(nèi)，防止磨損反應(yīng)釜內(nèi)元器件，保證反應(yīng)釜內(nèi)元器件的使用壽命。
文檔編號(hào)B01J19/00GK102600781SQ20111002458
公開(kāi)日2012年7月25日 申請(qǐng)日期2011年1月24日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月24日
發(fā)明者吳建明, 王黎明, 袁鑫雷 申請(qǐng)人:昆山密友機(jī)械密封有限公司