專利名稱：新型疏水膜高壓脫硫設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及脫硫設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種新型疏水膜高壓脫硫設(shè)備。
技術(shù)背景眾所周知，在我國很多大型重工業(yè)生產(chǎn)所排出的廢氣中，都含有大量的二氧化硫氣體，如火力發(fā)電行業(yè)，化工行業(yè)，冶金，機(jī)械制造行業(yè)等等。二氧化硫氣體對(duì)大氣會(huì)造成很大的污染，也是危害最大的酸雨形成的主要原因。目前，國內(nèi)外對(duì)脫硫技術(shù)進(jìn)行了很多研究，脫硫工藝取得了較大的發(fā)展，然而脫硫設(shè)備也不是很多
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是提供一種新型疏水膜高壓脫硫設(shè)備，它制造簡單，設(shè)備投資小，脫硫效率高，無二次污染，是一種具有很高應(yīng)用價(jià)值的設(shè)備。為了解決背景技術(shù)所存在的問題，本實(shí)用新型是采用以下技術(shù)方案它是由高壓力泵、化學(xué)溶液輸送管道、V型管道、霧化噴頭、上箱體、帶小孔的上層底板、中箱體、PVDF疏水透氣膜內(nèi)支撐板、PVDF疏水透氣膜、下箱體、V型漏斗、進(jìn)氣管道、化學(xué)溶液排出管道和帶小孔的中層底板組成，高壓力泵通過化學(xué)溶液輸送管道與上箱體內(nèi)部上端的V型管道連接，V型管道下端設(shè)置有霧化噴頭，上箱體上端設(shè)置有進(jìn)氣管道，上箱體下端設(shè)置有中箱體， 上箱體與中箱體之間設(shè)置有帶小孔的上層底板，中箱體下端設(shè)置有下箱體，中箱體與下箱體之間設(shè)置有帶小孔的中層底板；下箱體內(nèi)壁設(shè)置有PVDF疏水透氣膜，PVDF疏水透氣膜內(nèi)壁設(shè)置有PVDF疏水透氣膜內(nèi)支撐板；下箱體下端設(shè)置有V型漏斗，V型漏斗下端設(shè)置有化學(xué)溶液排出管道。本實(shí)用新型通過高壓力泵將脫硫溶液加壓，經(jīng)脫硫溶液輸送管道輸入到霧化噴頭。依靠霧化噴頭，首先將脫硫溶液霧化，將混合氣體輸送到設(shè)備上箱體中，含有二氧化硫的混合氣體與霧化的脫硫溶液充分在設(shè)備上箱體中混合、化學(xué)反應(yīng)，形成亞硫酸鹽溶液。亞硫酸鹽溶液在經(jīng)過帶小孔的上層底板，高速流入帶小孔的中層底板中，形成一層反射水膜， 混合氣體中剩余的二氧化硫氣體又在水膜中發(fā)生二次化學(xué)反應(yīng)，將殘余的二氧化硫進(jìn)一步去除。除去二氧化硫的混合氣體會(huì)在設(shè)備下部通過PVDF疏水透氣膜排出設(shè)備外面，此時(shí)的混合氣體已沒有任何污染物-二氧化硫。PVDF疏水透氣膜只能透過氣體，反應(yīng)后的脫硫溶液會(huì)沿設(shè)備底部的V型漏斗流入設(shè)備底部化學(xué)溶液排出管道，流出設(shè)備外面，統(tǒng)一收集起來，用于制備硫酸鈉等化學(xué)用品。脫硫化學(xué)溶液可以選用氫氧化鈉溶液、氫氧化鈣溶液等脫硫溶液，可選擇多種脫硫溶液，而且脫硫效率高，無二次污染。本實(shí)用新型制造簡單，設(shè)備投資小，脫硫效率高，無二次污染，是一種具有很高應(yīng)用價(jià)值的設(shè)備。

[0008]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖，圖2為圖1的俯視圖。
具體實(shí)施方式
參照?qǐng)D1-2，本具體實(shí)施方式
采用以下技術(shù)方案它是由高壓力泵1、化學(xué)溶液輸送管道2、V型管道3、霧化噴頭4、上箱體5、帶小孔的上層底板6、中箱體7、PVDF疏水透氣膜內(nèi)支撐板8、PVDF疏水透氣膜9、下箱體10、V型漏斗11、進(jìn)氣管道12、化學(xué)溶液排出管道 13和帶小孔的中層底板14組成，高壓力泵1通過化學(xué)溶液輸送管道2與上箱體5內(nèi)部上端的V型管道3連接，V型管道3下端設(shè)置有霧化噴頭4，上箱體5上端設(shè)置有進(jìn)氣管道12， 上箱體5下端設(shè)置有中箱體7，上箱體5與中箱體7之間設(shè)置有帶小孔的上層底板6，中箱體7下端設(shè)置有下箱體10，中箱體7與下箱體10之間設(shè)置有帶小孔的中層底板14 ；下箱體 10內(nèi)壁設(shè)置有PVDF疏水透氣膜9，PVDF疏水透氣膜9內(nèi)壁設(shè)置有PVDF疏水透氣膜內(nèi)支撐板8 ；下箱體10下端設(shè)置有V型漏斗11，V型漏斗11下端設(shè)置有化學(xué)溶液排出管道13。本具體實(shí)施方式
通過高壓力泵1將脫硫溶液加壓，經(jīng)脫硫溶液輸送管道2輸入到霧化噴頭4。依靠霧化噴頭4，首先將脫硫溶液霧化，將混合氣體輸送到設(shè)備上箱體5中， 含有二氧化硫的混合氣體與霧化的脫硫溶液充分在設(shè)備上箱體5中混合、化學(xué)反應(yīng)，形成亞硫酸鹽溶液。亞硫酸鹽溶液在經(jīng)過帶小孔的上層底板6，高速流入帶小孔的中層底板14 中，形成一層反射水膜，混合氣體中剩余的二氧化硫氣體又在水膜中發(fā)生二次化學(xué)反應(yīng)，將殘余的二氧化硫進(jìn)一步去除。除去二氧化硫的混合氣體會(huì)在設(shè)備下部通過PVDF疏水透氣膜9排出設(shè)備外面，此時(shí)的混合氣體已沒有任何污染物-二氧化硫。PVDF疏水透氣膜9只能透過氣體，反應(yīng)后的脫硫溶液會(huì)沿設(shè)備底部的V型漏斗11流入設(shè)備底部化學(xué)溶液排出管道13，流出設(shè)備外面，統(tǒng)一收集起來，用于制備硫酸鈉等化學(xué)用品。脫硫化學(xué)溶液可以選用氫氧化鈉溶液、氫氧化鈣溶液等脫硫溶液，可選擇多種脫硫溶液，而且脫硫效率高，無二次污染。所述的高壓力泵1選用5MPa的功率為2. 2千瓦的壓力泵；脫硫溶液輸送管道2采用無縫不銹鋼管Φ 100x3 (耐強(qiáng)堿性)；V型管道3采用不銹鋼板1. 5材料；霧化噴頭4采用不銹鋼精細(xì)霧化噴頭；上箱體5采用不銹鋼板3材料；帶小孔的上層底板6采用不銹鋼板 1. 5材料，小孔尺寸Φ3πιπι沖箱體7采用不銹鋼板3材料；PVDF疏水透氣膜內(nèi)支撐板8采用不銹鋼板1. 5材料，均勻分布的網(wǎng)眼板；PVDF疏水透氣膜9采用PVDF疏水透氣膜；下箱體10采用不銹鋼板3材料，均勻分布的網(wǎng)眼板；V型漏斗11采用不銹鋼板1. 5材料；進(jìn)氣管道12采用不銹鋼板1. 5材料；化學(xué)溶液排出管道13采用不銹鋼板1. 5材料；帶小孔的中層底板14采用不銹鋼板1. 5材料，小孔尺寸Φ3mm。本具體實(shí)施方式
制造簡單，設(shè)備投資小，脫硫效率高，無二次污染，是一種具有很高應(yīng)用價(jià)值的設(shè)備。
權(quán)利要求1.新型疏水膜高壓脫硫設(shè)備，其特征在于它是由高壓力泵(1)、化學(xué)溶液輸送管道 (2)、V型管道(3)、霧化噴頭(4)、上箱體(5)、帶小孔的上層底板(6)、中箱體(7)、PVDF疏水透氣膜內(nèi)支撐板(8)、PVDF疏水透氣膜(9)、下箱體(10)、V型漏斗(11)、進(jìn)氣管道(12)、 化學(xué)溶液排出管道(1 和帶小孔的中層底板(14)組成，高壓力泵(1)通過化學(xué)溶液輸送管道( 與上箱體(5)內(nèi)部上端的V型管道C3)連接，V型管道C3)下端設(shè)置有霧化噴頭 0)，上箱體( 上端設(shè)置有進(jìn)氣管道(12)，上箱體( 下端設(shè)置有中箱體(7)，上箱體(5) 與中箱體(7)之間設(shè)置有帶小孔的上層底板(6)，中箱體(7)下端設(shè)置有下箱體(10)，中箱體⑵與下箱體(10)之間設(shè)置有帶小孔的中層底板(14)；下箱體(10)內(nèi)壁設(shè)置有PVDF 疏水透氣膜(9)，PVDF疏水透氣膜(9)內(nèi)壁設(shè)置有PVDF疏水透氣膜內(nèi)支撐板(8)；下箱體 (10)下端設(shè)置有V型漏斗(11)，V型漏斗(11)下端設(shè)置有化學(xué)溶液排出管道(13)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型疏水膜高壓脫硫設(shè)備，其特征在于所述的高壓力泵(1) 選用5MPa的功率為2. 2千瓦的壓力泵。
專利摘要新型疏水膜高壓脫硫設(shè)備，它涉及脫硫設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。它的高壓力泵通過化學(xué)溶液輸送管道與上箱體內(nèi)部上端的V型管道連接，V型管道下端設(shè)置有霧化噴頭，上箱體下端設(shè)置有中箱體，上箱體與中箱體之間設(shè)置有帶小孔的上層底板，中箱體下端設(shè)置有下箱體，中箱體與下箱體之間設(shè)置有帶小孔的中層底板；下箱體內(nèi)壁設(shè)置有PVDF疏水透氣膜，PVDF疏水透氣膜內(nèi)壁設(shè)置有PVDF疏水透氣膜內(nèi)支撐板；下箱體下端設(shè)置有V型漏斗，V型漏斗下端設(shè)置有化學(xué)溶液排出管道。它制造簡單，設(shè)備投資小，脫硫效率高，無二次污染。
文檔編號(hào)B01D53/50GK202052467SQ201020642898
公開日2011年11月30日 申請(qǐng)日期2010年11月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月29日
發(fā)明者俞美娟, 姜宜寬, 徐忠俊, 王兵, 翟華, 陳茂榮, 馬叢生 申請(qǐng)人:江蘇紫光吉地達(dá)環(huán)境科技股份有限公司