專利名稱：帶有夾層溢流盤的固定床反應器的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種固定床反應器，具體為一種帶有夾層溢流盤的固定床 反應器。
背景技術：
現(xiàn)有的固定床反應器包括上部帶有進氣口和進液體口的反應器殼體，在反 應器殼體內進氣口和進液體口下方設有液體分布器，液體均布器為圓盤狀，其 上設有排氣管和排液管。參與反應的氣體和液體分別從排液管和排氣管進入反 應器內部，液體落在液體分布器上后流過其上的排液管后與原料氣體在催化劑 的作用下發(fā)生反應。但是液體分布器存在著使液體直接從進氣孔進入催化劑而 導致液體分布不均勻，反應效果不佳的問題。發(fā)明內容本實用新型為了解決現(xiàn)有技術中存在的反應器內的液體均布器分布液體不 均勻反應效果不佳的問題而提供了 一種帶有夾層溢流盤的固定床反應器。本實用新型是由以下技術方案實現(xiàn)的， 一種帶有夾層溢流盤的固定床反應 器，包括上部帶有進氣口和進液體口的反應器殼體，在反應器殼體內進氣口和 進液體口下方設有液體分布器，在液體分布器上方設有夾層溢流盤，夾層溢流 盤與進液體口連通，夾層溢流盤包括上層板和下層板，上層板和下層板之間設 有間隔的導流筋板。當參與反應的液體通過進液體口流入到反應器內部后首先進入夾層溢流盤 中，然后通過導流筋板之間的間隔流到液體分布器上，液體和氣體分別穿過液體分布器而進入到催化劑層中實現(xiàn)反應。與現(xiàn)有技術相比，本實用新型在原有的液體均布器上方設置了一個夾層溢 流盤，使液體先流到夾層溢流盤中然后再流到液體均布器上，避免了液體直接 通過排氣口進入催化劑內，并且使液體分布更加均勻，反應更加充分。


圖1為本實用新型的結構示意圖圖2為夾層溢流盤的結構示意圖 圖3為圖2的A-A剖視圖 圖4為圖2的B-B剖視圖 圖5為液體均布器的結構示意圖圖中1-反應器殼體，2-進氣口， 3-進液體口， 4-夾層溢流盤，5-內盤，6-排液管，7-排氣管，8-外層圈，9-排液管，10-上層板，11-導流筋板，12-導流筋 板，13-下層板具體實施方式
一種帶有夾層溢流盤的固定床反應器，包括上部帶有進氣口 2和進液體口 3 的反應器殼體l，在反應器殼體l內進氣口和進液體口下方設有液體分布器，在 液體分布器的上方設有夾層溢流盤4，夾層溢流盤4與進液體口3連通，夾層溢 流盤4包括上層板10和下層板13，上層板和下層板之間設有間隔的導流筋板 11、 12。如圖5所示意，液體分布器由外層圈8和內盤5組成，若干根排氣管7均 布于外層圈8上，若干排液管6均布于內盤5上，排氣管7高于排液管6。排氣 管7高于排液管6這樣一來就可以使排液管6只排液體，不排氣體，而且使氣如圖3、 4所示意，導流筋板ll有三塊，均勻分布于內層，導流筋板12有 三塊，均勻分布于外層。
權利要求1、一種帶有夾層溢流盤的固定床反應器，包括上部帶有進氣口(2)和進液體口(3)的反應器殼體(1)，在反應器殼體(1)內進氣口和進液體口下方設有液體分布器，其特征在于在液體分布器的上方設有夾層溢流盤(4)，夾層溢流盤(4)與進液體口(3)連通，夾層溢流盤(4)包括上層板(10)和下層板(13)，上層板和下層板之間設有間隔的導流筋板(11、12)。
2、 根據(jù)權利要求l所述的帶有夾層溢流盤的固定床反應器，其特征在于 導流筋板(11)有三塊，均勻分布于內層，導流筋板(12)有三塊，均勻分布 于外層。
3、 根據(jù)權利要求1或2所述的帶有夾層溢流盤的固定床反應器，其特征在 于液體分布器由外層圈(8)和內盤(5)組成，若干根排氣管(7)均布于外 層圈(8)上，若干排液管(6)均布于內盤(5)上，排氣管(7)高于排液管(6)。
專利摘要本實用新型涉及一種固定床反應器，具體為一種帶有夾層溢流盤的固定床反應器。解決了現(xiàn)有技術中存在的反應器內的液體均布器分布液體不均勻反應效果不佳的問題。包括上部帶有進氣口和進液體口的反應器殼體，在反應器殼體內進氣口和進液體口下方設有液體分布器，在液體分布器上方設有夾層溢流盤，夾層溢流盤與進液體口連通，夾層溢流盤包括上層板和下層板，上層板和下層板之間設有間隔的導流筋板。與現(xiàn)有技術相比，本實用新型在原有的液體均布器上方設置了一個夾層溢流盤，使液體先流到夾層溢流盤中然后再流到液體均布器上，避免了液體直接通過排氣口進入催化劑內，并且使液體分布更加均勻，反應更加充分。
文檔編號B01J8/02GK201108817SQ20072010259
公開日2008年9月3日 申請日期2007年9月19日 優(yōu)先權日2007年9月19日
發(fā)明者王文清, 趙艷飛 申請人:山西三維集團股份有限公司