一種超聲波清洗裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及電子加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種超聲波清洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]超聲波清洗裝置是利用超聲波在液體中的空化作用、加速作用及直流作用對液體和污物產(chǎn)生直接、間接的作用，使污物層被分散、乳化、剝離從而達(dá)到清洗的目的，具有效率高、效果好的特點(diǎn)，因此在SMT貼片后的清洗流程中被廣泛使用。然而，現(xiàn)有的超聲波清洗槽是固定的長方形或正方形，當(dāng)待清洗的SMT貼片數(shù)量不多時(shí)，仍需將整臺清洗裝置全部打開，造成極大的浪費(fèi)。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型的目的在于提出一種超聲波清洗裝置，其能夠避免部分裝置空轉(zhuǎn)造成浪費(fèi)，且能夠按需打開相互連通的清洗槽。
[0004]為達(dá)此目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案:
[0005]—種超聲波清洗裝置，其包括電控柜、清洗槽、工裝籃和超聲波發(fā)射器，所述工裝籃設(shè)置于所述清洗槽內(nèi)，所述超聲波發(fā)射器與所述電控柜電連接，其中，所述清洗槽包括藥水槽組件和純水槽組件，所述藥水槽組件在前，所述純水槽組件在后，所述藥水槽組件由至少兩個(gè)通過連通裝置連接的藥水槽組成，所述純水槽組件由至少兩個(gè)通過連通裝置連接的純水槽組成，所述連通裝置上設(shè)置有開關(guān)閥門。
[0006]其中，所述藥水槽、純水槽均設(shè)置有進(jìn)水口和排水口，且所述進(jìn)水口和排水口處設(shè)置有控制閥門。
[0007]其中，所述藥水槽設(shè)置有電加熱管和測溫探頭，所述電加熱管、測溫探頭與電控柜電連接。
[0008]其中，所述藥水槽設(shè)置有循環(huán)栗，所述循環(huán)栗與電控柜電連接。
[0009]其中，所述清洗槽的側(cè)壁設(shè)置有超聲波探頭，所述超聲波探頭與超聲波發(fā)射器通過引線連接。
[0010]其中，所述純水槽設(shè)置有4個(gè)，并間隔地設(shè)置有電加熱管和測溫探頭，所述電加熱管、測溫探頭與電控柜電連接。
[0011]其中，還包括烘干槽，所述烘干槽設(shè)置于清洗槽的后方。
[0012]其中，所述烘干槽設(shè)置有烘干風(fēng)機(jī)和烘干加熱管，并與所述電控柜電連接。
[0013]本實(shí)用新型所述的一種超聲波清洗裝置，其清洗槽包括藥水槽組件和純水槽組件，藥水槽組件由至少兩個(gè)通過連通裝置連接的藥水槽組成，純水槽組件由至少兩個(gè)通過連通裝置連接的純水槽組成，連通裝置上均設(shè)置有開關(guān)閥門；當(dāng)待清洗貼片數(shù)量少時(shí)，按數(shù)量需要打開部分藥水槽、純水槽的連通裝置上的閥門，關(guān)閉其余連通裝置上的閥門，此時(shí)連通的藥水槽之間的清洗劑濃度等均相同，連通為一個(gè)大的藥水槽，而純水槽之間同樣如此，而超聲波發(fā)射器也只需對部分藥水槽、純水槽釋放超聲波；當(dāng)待清洗貼片數(shù)量多時(shí)，則打開所有連通裝置上的閥門；這樣不僅能夠避免部分設(shè)備空轉(zhuǎn)造成浪費(fèi)，而且還不會減小整臺設(shè)備的最大容量。
【附圖說明】
[0014]圖1是本實(shí)用新型【具體實(shí)施方式】I提供的超聲波清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]圖中:1、電控柜；2、清洗槽；21、藥水槽組件；211、藥水槽；22、純水槽組件；221純水槽；3、工裝籃；4、超聲波發(fā)射器；5、連通裝置；51、開關(guān)閥門；6、進(jìn)水口 ；7、排水口 ；8、控制閥門；9、烘干槽；91、烘干加熱管；92、烘干風(fēng)機(jī)；10、電加熱管；11、測溫探頭；12、循環(huán)栗；13、超聲波探頭。
【具體實(shí)施方式】
[0016]下面結(jié)合附圖并通過【具體實(shí)施方式】來進(jìn)一步說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案。
[0017]如圖1所述，一種超聲波清洗裝置，其包括電控柜1、清洗槽2、工裝籃3和超聲波發(fā)射器4，所述工裝籃3設(shè)置于所述清洗槽2內(nèi)，所述超聲波發(fā)射器4與所述電控柜I電連接，其中，所述清洗槽2包括藥水槽組件21和純水槽組件22，所述藥水槽組件21在前，所述純水槽組件22在后，所述藥水槽組件21由至少兩個(gè)通過連通裝置5連接的藥水槽211組成，所述純水槽組件22由至少兩個(gè)通過連通裝置5連接的純水槽221組成，所述連通裝置5上設(shè)置有開關(guān)閥門51。
[0018]所述藥水槽211、純水槽221均設(shè)置有進(jìn)水口 6和排水口 7，且所述進(jìn)水口 6和排水口 7處設(shè)置有控制閥門8 ;進(jìn)、出水進(jìn)行單獨(dú)控制，便于對每一個(gè)所述藥水槽211、純水槽221進(jìn)行拆分或合并使用。
[0019]所述藥水槽211設(shè)置有電加熱管10和測溫探頭11，所述電加熱管10、測溫探頭11與電控柜I電連接；對藥水槽211內(nèi)的清洗劑進(jìn)行加熱并控溫，以便起到更好的清洗作用。
[0020]所述藥水槽211設(shè)置有循環(huán)栗12，所述循環(huán)栗12與電控柜I電連接；便于藥水槽211內(nèi)的清洗劑流通，更好的剝離經(jīng)超聲波清洗后松脫的污垢。
[0021]所述清洗槽2的側(cè)壁設(shè)置有超聲波探頭13，所述超聲波探頭13與超聲波發(fā)射器4通過引線連接；能夠按各個(gè)藥水槽211、純水槽221的開啟情況進(jìn)行超聲波釋放。
[0022]所述純水槽221設(shè)置有4個(gè)，并間隔地設(shè)置有電加熱管10和測溫探頭11，所述電加熱管10、測溫探頭11與電控柜I電連接；冷熱交替更好的清洗污垢。
[0023]還包括烘干槽9，所述烘干槽9設(shè)置于清洗槽2的后方；所述烘干槽9設(shè)置有烘干風(fēng)機(jī)92和烘干加熱管91，并與所述電控柜I電連接；避免清洗后有水漬等殘留。
[0024]上述超聲波清洗裝置在使用過程中，當(dāng)待清洗貼片數(shù)量少時(shí)，按數(shù)量需要打開前端的部分藥水槽211、純水槽221的連通裝置5上的開關(guān)閥門51，關(guān)閉其余連通裝置5上的開關(guān)閥門51 ;此時(shí)，打開已合并啟用的藥水槽211、純水槽221的進(jìn)水口 6的控制閥門8，分別放入清洗劑和純水，并連通相應(yīng)的超聲波探頭13與超聲波發(fā)射器4 ;然后將待清洗貼片浸入藥水槽211的工裝籃3內(nèi)進(jìn)行超聲波清洗，取出后再浸入純水槽221的工裝籃3內(nèi)進(jìn)行超聲波清洗；最后放入烘干槽9內(nèi)進(jìn)行烘干，取出待用。
[0025]以上結(jié)合具體實(shí)施例描述了本實(shí)用新型的技術(shù)原理。這些描述只是為了解釋本實(shí)用新型的原理，而不能以任何方式解釋為對本實(shí)用新型保護(hù)范圍的限制?；诖颂幍慕忉專绢I(lǐng)域的技術(shù)人員不需要付出創(chuàng)造性的勞動(dòng)即可聯(lián)想到本實(shí)用新型的其它【具體實(shí)施方式】，這些方式都將落入本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種超聲波清洗裝置，其包括電控柜(I)、清洗槽(2)、工裝籃(3)和超聲波發(fā)射器(4)，所述工裝籃(3)設(shè)置于所述清洗槽(2)內(nèi)，所述超聲波發(fā)射器(4)與所述電控柜(I)電連接，其特征在于:所述清洗槽(2)包括藥水槽組件(21)和純水槽組件(22)，所述藥水槽組件(21)在前，所述純水槽組件(22)在后，所述藥水槽組件(21)由至少兩個(gè)通過連通裝置(5)連接的藥水槽(211)組成，所述純水槽組件(22)由至少兩個(gè)通過連通裝置(5)連接的純水槽(221)組成，所述連通裝置(5)上設(shè)置有開關(guān)閥門(51)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲波清洗裝置，其特征在于:所述藥水槽(211)、純水槽(221)均設(shè)置有進(jìn)水口(6)和排水口(7)，且所述進(jìn)水口(6)和排水口(7)處設(shè)置有控制閥門⑶。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲波清洗裝置，其特征在于:所述藥水槽(211)設(shè)置有電加熱管(10)和測溫探頭(11)，所述電加熱管(10)、測溫探頭(11)與電控柜⑴電連接。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲波清洗裝置，其特征在于:所述藥水槽(211)設(shè)置有循環(huán)栗(12)，所述循環(huán)栗(12)與電控柜(I)電連接。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲波清洗裝置，其特征在于:所述清洗槽(2)的側(cè)壁設(shè)置有超聲波探頭(13)，所述超聲波探頭(13)與超聲波發(fā)射器(4)通過引線連接。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲波清洗裝置，其特征在于:所述純水槽(221)設(shè)置有4個(gè)，并間隔地設(shè)置有電加熱管(10)和測溫探頭(11)，所述電加熱管(10)、測溫探頭(11)與電控柜(I)電連接。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲波清洗裝置，其特征在于:還包括烘干槽(9)，所述烘干槽(9)設(shè)置于清洗槽(2)的后方。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的超聲波清洗裝置，其特征在于:所述烘干槽(9)設(shè)置有烘干風(fēng)機(jī)(92)和烘干加熱管(91)，并與所述電控柜(I)電連接。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種超聲波清洗裝置，其包括電控柜、清洗槽、工裝籃和超聲波發(fā)射器，所述工裝籃設(shè)置于所述清洗槽內(nèi)，所述超聲波發(fā)射器與所述電控柜電連接，其中，所述清洗槽包括藥水槽組件和純水槽組件，所述藥水槽組件在前，所述純水槽組件在后，所述藥水槽組件由至少兩個(gè)通過連通裝置連接的藥水槽組成，所述純水槽組件由至少兩個(gè)通過連通裝置連接的純水槽組成，所述連通裝置上設(shè)置有開關(guān)閥門。上述超聲波清洗裝置，可按數(shù)量需要打開部分藥水槽、純水槽的連通裝置上的閥門，關(guān)閉其余連通裝置上的閥門，不僅能夠避免部分裝置空轉(zhuǎn)造成浪費(fèi)，而且還不會減小整臺設(shè)備的最大容量。
【IPC分類】B08B3/08, B08B3/12
【公開號】CN204735493
【申請?zhí)枴緾N201520494589
【發(fā)明人】梁武升
【申請人】深圳市眾聯(lián)成科技有限公司
【公開日】2015年11月4日
【申請日】2015年7月9日