1.一種用于復(fù)合絕緣子處理用旋轉(zhuǎn)支撐裝置，其特征是：包括支撐架、連接件和旋轉(zhuǎn)電機(jī)，其中，所述支撐架承載復(fù)合絕緣子，所述連接件一端連接復(fù)合絕緣子的端部，另一端連接旋轉(zhuǎn)電機(jī)的輸出軸；
所述支撐架包括底座和活動設(shè)置于底座上的兩個支撐板，所述支撐板之間的間距可調(diào)，所述支撐板上設(shè)置有用于固定復(fù)合絕緣子端部的懸孔。
2.如權(quán)利要求1所述的一種用于復(fù)合絕緣子處理用旋轉(zhuǎn)支撐裝置，其特征是：所述支撐板之間設(shè)置有距離調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，配合絕緣子串的長度調(diào)節(jié)兩個支撐板之間的距離。
3.如權(quán)利要求1所述的一種用于復(fù)合絕緣子處理用旋轉(zhuǎn)支撐裝置，其特征是：所述距離調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括旋轉(zhuǎn)固定螺母和螺桿，所述旋轉(zhuǎn)固定螺母設(shè)置于支撐板上，與螺桿相配合。
4.如權(quán)利要求1所述的一種用于復(fù)合絕緣子處理用旋轉(zhuǎn)支撐裝置，其特征是：所述支撐板為可拆卸機(jī)構(gòu)，包括通過固定卡槽相連接的上、下兩部分，所述懸孔設(shè)置于上、下兩部分的連接處。
5.如權(quán)利要求1所述的一種用于復(fù)合絕緣子處理用旋轉(zhuǎn)支撐裝置，其特征是：所述底座上設(shè)置有卡槽，以活動固定支撐板。
6.如權(quán)利要求1所述的一種用于復(fù)合絕緣子處理用旋轉(zhuǎn)支撐裝置，其特征是：所述懸孔在兩個支撐板的位置相對應(yīng)，保持絕緣子串水平放置。
7.如權(quán)利要求1所述的一種用于復(fù)合絕緣子處理用旋轉(zhuǎn)支撐裝置，其特征是：所述底座與支撐板均為絕緣材質(zhì)。優(yōu)選為有機(jī)玻璃。
8.如權(quán)利要求1所述的一種用于復(fù)合絕緣子處理用旋轉(zhuǎn)支撐裝置，其特征是：所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)的轉(zhuǎn)速可調(diào)，且輸出軸與復(fù)合絕緣子高壓端保持同一高度。
9.一種復(fù)合絕緣子等離子體射流表面強(qiáng)化處理系統(tǒng)，其特征是：采用如權(quán)利要求1-8中任一所述的旋轉(zhuǎn)支撐裝置，還包括流射噴頭，所述噴頭設(shè)置于支撐架上端，沿絕緣子串固定方向水平運動。
10.基于如權(quán)利要求9所述的處理系統(tǒng)的工作方法，其特征是：根據(jù)需要處理的染污復(fù)合絕緣子串長度，通過調(diào)整兩支撐板距離，將染污復(fù)合絕緣子兩端放置在懸孔內(nèi)，加以固定，調(diào)節(jié)旋轉(zhuǎn)電動機(jī)轉(zhuǎn)速，使其滿足處理轉(zhuǎn)速需要，利用射流噴頭依次對絕緣子串的每個傘裙進(jìn)行噴射。