本發(fā)明涉及一種用于復(fù)合絕緣子處理用旋轉(zhuǎn)支撐裝置及方法。

背景技術(shù)：

硅橡膠復(fù)合絕緣子因其具有優(yōu)異的防污閃性能，在電力系統(tǒng)中得到大量的推廣和使用。復(fù)合絕緣子具有如此優(yōu)異的防污閃性能，其最為重要的原因便是硅橡膠材料優(yōu)良的憎水性和憎水遷移性。但隨著運行年限的增加及外部環(huán)境的影響，其表面憎水性能會逐漸降低。研究證明，積污嚴(yán)重的硅橡膠材料在低溫、高濕的大氣環(huán)境下，表面憎水性的自然遷移速度會大大降低，甚至?xí)霈F(xiàn)完全遷移不出來的情況。因此，特殊天氣條件下，如何快速提高或恢復(fù)染污硅橡膠材料表面憎水性是一個亟待解決的問題。

放電等離子體射流中富含活性粒子，用于材料表面處理時，會改變材料表面的分子結(jié)構(gòu)，使材料表現(xiàn)出不同的表面性能。已有研究表明，放電處理后的憎水性未充分遷移的染污硅橡膠試片憎水性顯著增強。該過程的典型特點是處理時間短，通?？梢栽趲酌氲?min的時間內(nèi)完成，操作簡單。更為重要的是在自然條件下，處理后的染污硅橡膠憎水性能長期(跟蹤25天)維持不變，不會隨著自然遷移過程而喪失?？梢?，放電處理技術(shù)是一種能夠快速有效地改善染污硅橡膠材料表面憎水性的措施。

然而，目前將等離子體射流表面強化處理技術(shù)應(yīng)用在實際染污復(fù)合絕緣子上在國內(nèi)尚屬空白。此外為了便于射流強化處理染污復(fù)合絕緣子傘裙表面及芯棒圓柱表面，使其表面附著的污穢物能與大氣壓低溫等離子體射流充分接觸進行表面處理，必須將其安裝于支撐臺并由支撐臺帶動染污復(fù)合絕緣子旋轉(zhuǎn)。究其國內(nèi)研究情況，目前尚未發(fā)現(xiàn)能夠用于短串復(fù)合絕緣子支撐及可調(diào)速旋轉(zhuǎn)的應(yīng)用裝置。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明為了解決上述問題，提出了一種用于復(fù)合絕緣子處理用旋轉(zhuǎn)支撐裝置及方法，本發(fā)明能夠便于將異型不易處理到的傘裙內(nèi)部表面及芯棒表面完全均勻暴露于射流處理噴頭下，提高了處理效果的便捷度和時效性，從而大大加快了處理進程。

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案：

一種用于復(fù)合絕緣子處理用旋轉(zhuǎn)支撐裝置，包括支撐架、連接件和旋轉(zhuǎn)電機，其中，所述支撐架承載復(fù)合絕緣子，所述連接件一端連接復(fù)合絕緣子的端部，另一端連接旋轉(zhuǎn)電機的輸出軸；

所述支撐架包括底座和活動設(shè)置于底座上的兩個支撐板，所述支撐板之間的間距可調(diào)，所述支撐板上設(shè)置有用于固定復(fù)合絕緣子端部的懸孔。

所述支撐板之間設(shè)置有距離調(diào)節(jié)機構(gòu)，配合絕緣子串的長度調(diào)節(jié)兩個支撐板之間的距離。

所述距離調(diào)節(jié)機構(gòu)包括旋轉(zhuǎn)固定螺母和螺桿，所述旋轉(zhuǎn)固定螺母設(shè)置于支撐板上，與螺桿相配合。

所述支撐板為可拆卸機構(gòu)，包括通過固定卡槽相連接的上、下兩部分，所述懸孔設(shè)置于上、下兩部分的連接處。

所述底座上設(shè)置有卡槽，以活動固定支撐板。

所述懸孔在兩個支撐板的位置相對應(yīng)，保持絕緣子串水平放置。

所述底座與支撐板均為絕緣材質(zhì)。優(yōu)選為有機玻璃。

所述旋轉(zhuǎn)電機的轉(zhuǎn)速可調(diào)，且輸出軸與復(fù)合絕緣子高壓端保持同一高度。

一種復(fù)合絕緣子等離子體射流表面強化處理系統(tǒng)，采用上述旋轉(zhuǎn)支撐裝置，還包括流射噴頭，所述噴頭設(shè)置于支撐架上端，沿絕緣子串固定方向水平運動。

基于上述系統(tǒng)的工作方法，根據(jù)需要處理的染污復(fù)合絕緣子串長度，通過調(diào)整兩支撐板距離，將染污復(fù)合絕緣子兩端放置在懸孔內(nèi)，加以固定，調(diào)節(jié)旋轉(zhuǎn)電動機轉(zhuǎn)速，使其滿足處理轉(zhuǎn)速需要，利用射流噴頭依次對絕緣子串的每個傘裙進行噴射。

本發(fā)明的有益效果為：

(1)采用發(fā)明裝置作為旋轉(zhuǎn)支撐裝置能夠便于將異型不易處理到的傘裙內(nèi)部表面及芯棒表面完全均勻暴露于射流處理噴頭下，提高了處理效果的便捷度和時效性，從而大大加快了處理進程；

(2)設(shè)計合理，結(jié)構(gòu)簡單，便于不同串長、不同芯棒厚度復(fù)合絕緣子支撐、安裝及拆卸，具有便捷調(diào)速等優(yōu)勢。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的主視圖；

圖2為本發(fā)明的側(cè)視圖；

圖3為本發(fā)明的俯視圖。

其中，1-支撐支架，2-固定用旋轉(zhuǎn)臂手(連接件)，3-可調(diào)速旋轉(zhuǎn)電動機，4-固定卡槽，5-懸孔，6-旋轉(zhuǎn)螺栓孔，7-有機玻璃板，8-活動卡槽，9-絕緣子串。

具體實施方式：

下面結(jié)合附圖與實施例對本發(fā)明作進一步說明。

如圖1所示，一種復(fù)合絕緣子處理用旋轉(zhuǎn)支撐裝置，包括依次相連的復(fù)合絕緣子支撐用支架(1)、固定用旋轉(zhuǎn)臂手(2)、可調(diào)速旋轉(zhuǎn)電動機(3)。

所述復(fù)合絕緣子支撐支架(1)包括水平有機玻璃底座，豎直可活動有機玻璃平板(左側(cè))、豎直固定有機玻璃平板(右側(cè))及調(diào)節(jié)串長用旋轉(zhuǎn)螺母螺栓。

所述可活動有機玻璃平板如圖2所示，有機玻璃平板尺寸為高50cm,寬30cm，厚度3cm；分為上下兩部分，上部分高度15cm,下部分高度35cm，通過平板固定卡槽(4)相連接，連接部分組成復(fù)合絕緣子支撐用懸孔(5)，用于復(fù)合絕緣子串低壓端金具支撐用，下部分平板開有旋轉(zhuǎn)螺栓孔(6)。整體活動平板通過突出有機玻璃板(7)與底座活動卡槽(8)相連接，用于滑動和固定。所述復(fù)合絕緣子支撐用懸孔直徑為5cm；所述旋轉(zhuǎn)螺栓孔直徑為3cm，所述上下平板連接卡槽深度10cm。所述絕緣子支撐用懸孔及旋轉(zhuǎn)螺栓孔位于平板中軸線上，所述旋轉(zhuǎn)螺栓孔距離地板高度10cm。所述下平板突出有力玻璃板深度4cm,寬6cm，距離中軸線5cm。

所述豎直固定有機玻璃平板與底座直接相連，開孔位置大小及卡槽結(jié)構(gòu)與可活動平板相同。

如圖3所示，所述水平底座為有機玻璃平板，長100cm，寬30cm，厚度8cm，所述活動卡槽(8)深度4cm，寬6cm，用于支撐豎直有機玻璃平板。

所述調(diào)節(jié)串長用旋轉(zhuǎn)螺母螺栓(8)用于固定兩豎直有機玻璃平板，螺栓直徑3cm，長度100cm，螺母直徑5cm，通過旋轉(zhuǎn)活動平板固定螺母可以調(diào)節(jié)兩平板之間距離，從而便于調(diào)節(jié)支撐用復(fù)合絕緣子串長。

所述的用于等離子體射流處理用染污復(fù)合絕緣子旋轉(zhuǎn)支撐裝置，所述固定用旋轉(zhuǎn)臂手為連接旋轉(zhuǎn)電動機與染污復(fù)合絕緣子用臂手，一端與旋轉(zhuǎn)電動機直接相連，此相連端內(nèi)徑為4cm，深度5cm,與旋轉(zhuǎn)電動機連接端外徑相同；另一端采用可調(diào)節(jié)臂手與復(fù)合絕緣子高壓端金具相連，可穩(wěn)定固定復(fù)合絕緣子高壓端。

所述的用于等離子體射流處理用染污復(fù)合絕緣子旋轉(zhuǎn)支撐裝置，所述可調(diào)速旋轉(zhuǎn)電動機，可以定額加速，調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速范圍為7轉(zhuǎn)/分鐘～45轉(zhuǎn)/分鐘(7.5、9、13.5、15、22.5、27、33.5、45轉(zhuǎn)/分鐘)。所述可調(diào)速旋轉(zhuǎn)電動機輸出連接端要求與復(fù)合絕緣子高壓端保持同一高度。

所述處理等離子體射流為低溫等離子體射流，所述復(fù)合絕緣子表面污穢為高嶺土及硅藻土。

根據(jù)需要處理的染污復(fù)合絕緣子串長，通過旋轉(zhuǎn)滑板螺母，確定兩豎直有機玻璃板距離，將有機玻璃板上下部分拆卸，將染污復(fù)合絕緣子兩端放置在復(fù)合絕緣子用支撐懸孔內(nèi)并將有機玻璃板整體安裝用于固定復(fù)合絕緣子。調(diào)節(jié)旋轉(zhuǎn)電動機轉(zhuǎn)速，使其滿足處理轉(zhuǎn)速需要。將射流噴頭放置在距離傘裙及芯棒表面3cm處，每處傘裙處理時間30s，此后向左平移至下一傘裙處直至完全處理完復(fù)合絕緣子表面。此后關(guān)閉旋轉(zhuǎn)電動機，將染污復(fù)合絕緣子取下用于后續(xù)試驗處理。

采用發(fā)明裝置作為旋轉(zhuǎn)支撐裝置能夠便于將異型不易處理到的傘裙內(nèi)部表面及芯棒表面完全均勻暴露于射流處理噴頭下，提高了處理效果的便捷度和時效性，從而大大加快了處理進程。

上述參數(shù)的調(diào)整、改變均屬于本領(lǐng)域技術(shù)人員容易想到的簡單替換，屬于不具有創(chuàng)造性的勞動。

上述雖然結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施方式進行了描述，但并非對本發(fā)明保護范圍的限制，所屬領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該明白，在本發(fā)明的技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，本領(lǐng)域技術(shù)人員不需要付出創(chuàng)造性勞動即可做出的各種修改或變形仍在本發(fā)明的保護范圍以內(nèi)。