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一種手機攝像頭鏡片的清洗設(shè)備的制作方法

文檔序號:12690985閱讀:1984來源:國知局

本發(fā)明屬于手機攝像頭加工制造領(lǐng)域,尤其是涉及一種手機攝像頭鏡片的清洗設(shè)備。



背景技術(shù):

手機攝像頭是非常精密的部件,鏡片作為攝像頭的一個組成部分,其制作過程通常要經(jīng)過對原材料進行切割,打磨減薄,清洗鋼化,印刷和鍍膜等工序,其中清洗過程非常重要,因為原材料表面容易積累一些化學(xué)溶劑和切割、打磨時產(chǎn)生的碎屑,需要徹底清洗干凈才方便后續(xù)的加工過程,以生產(chǎn)出符合要求的鏡片,通常的鏡片清洗時直接用清洗液對鏡片進行清洗,產(chǎn)生的清洗廢液并不回收集中處理,但是清洗液中含有多種有害化學(xué)成分,容易對環(huán)境造成污染。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的是提供一種手機攝像頭鏡片的清洗設(shè)備,清洗方便,而且清洗廢液便于回收處理。

本發(fā)明的技術(shù)方案是:一種手機攝像頭鏡片的清洗設(shè)備,包括清洗室和設(shè)置于清洗室內(nèi)部的旋轉(zhuǎn)平臺,所述旋轉(zhuǎn)平臺的下方連接有旋轉(zhuǎn)桿,旋轉(zhuǎn)桿的下端連接有旋轉(zhuǎn)電機,所述旋轉(zhuǎn)電機與清洗室的底部固定,所述旋轉(zhuǎn)平臺為雙層結(jié)構(gòu),上層為圓環(huán)狀的支撐盤,下層為圓柱形的集液池,集液池的頂端敞開,底端封閉,所述支撐盤上均勻分布有漏液孔,所述支撐盤固定在集液池的頂端,集液池的底端與旋轉(zhuǎn)桿頂端固定連接,所述集液池底端的一側(cè)還設(shè)置有一個出液口,所述清洗室的內(nèi)側(cè)頂部設(shè)置有清洗液輸送管道,所述清洗液輸送管道的進液口與清洗室外的清洗液箱連接,清洗液輸送管道的出液口連接有清洗噴頭組,所述清洗噴頭組包括設(shè)置在支撐盤邊緣上方的兩個噴頭。

所述出液口上設(shè)置有堵蓋。

所述支撐盤的內(nèi)外邊緣四周還設(shè)置有環(huán)形擋板。

本發(fā)明具有的優(yōu)點和積極效果是:由于采用上述技術(shù)方案,將打磨完畢的鏡片放置在旋轉(zhuǎn)平臺上進行清洗,旋轉(zhuǎn)平臺能夠旋轉(zhuǎn),兩個噴頭噴出的清洗液對鏡片進行充分清洗,清洗后的廢液順著漏液孔流入集液池中,集中進行處理,不污染環(huán)境。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中:

1、清洗室 2、旋轉(zhuǎn)平臺 3、旋轉(zhuǎn)桿

4、旋轉(zhuǎn)電機 5、支撐盤 6、環(huán)形擋板

7、集液池 8、漏液孔 9、出液口

10、堵蓋 11、清洗液輸送管道 12、清洗液箱

13、噴頭

具體實施方式

下面結(jié)合附圖對本發(fā)明做詳細說明。

如圖1所示,本發(fā)明一種手機攝像頭鏡片的清洗設(shè)備,包括清洗室1和設(shè)置于清洗室內(nèi)部的旋轉(zhuǎn)平臺2,所述旋轉(zhuǎn)平臺2的下方連接有旋轉(zhuǎn)桿3,旋轉(zhuǎn)桿3的下端連接有旋轉(zhuǎn)電機4,所述旋轉(zhuǎn)電機4與清洗室1的底部固定,所述旋轉(zhuǎn)平臺2為雙層結(jié)構(gòu),上層為圓環(huán)狀的支撐盤5,支撐盤5的內(nèi)外邊緣四周還設(shè)置有環(huán)形擋板6,下層為圓柱形的集液池7,集液池7的頂端敞開,底端封閉,所述支撐盤5上均勻分布有漏液孔8,所述支撐盤5固定在集液池7的頂端,集液池7的底端與旋轉(zhuǎn)桿3頂端固定連接,所述集液池7底端的一側(cè)還設(shè)置有一個出液口9,所述出液口9上設(shè)置有堵蓋10,所述清洗室1的內(nèi)側(cè)頂部設(shè)置有清洗液輸送管道11,所述清洗液輸送管道11的進液口與清洗室1外的清洗液箱12連接,清洗液輸送管道11的出液口連接有清洗噴頭組,所述清洗噴頭組包括設(shè)置在支撐盤5邊緣上方的兩個噴頭13。

本實例的工作過程:切割打磨完畢的手機攝像頭鏡片放入旋轉(zhuǎn)平臺的支撐盤中,打開旋轉(zhuǎn)電機以及清洗噴頭的開關(guān),清洗液從清洗噴頭中噴出對支撐盤中的鏡片進行充分清洗,去除其上的各種化學(xué)殘留以及顆粒物,清洗后的廢液順著漏液孔進入集液池中,當(dāng)集液池中的廢液收集滿了,打開堵蓋可通過管道排出集中進行處理,不污染環(huán)境。

以上對本發(fā)明的一個實施例進行了詳細說明,但所述內(nèi)容僅為本發(fā)明的較佳實施例,不能被認為用于限定本發(fā)明的實施范圍。凡依本發(fā)明申請范圍所作的均等變化與改進等,均應(yīng)仍歸屬于本發(fā)明的專利涵蓋范圍之內(nèi)。

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