1.一種紅外烹調(diào)器的不間斷加熱方法，所述紅外烹調(diào)器包括底座、作為食物容器的盤體和紅外線照射部；所述盤體設(shè)置在底座上，紅外線照射部設(shè)置在盤體上；所述紅外線照射部被施加電源后會朝向所述盤體照射紅外線；盤體與紅外線照射部之間為開放或半開放的熱輻射區(qū)域；其特征在于：加熱方法包括至少一個紅外線照射部以固定功率對盤體持續(xù)照射的加熱模式，該加熱模式使得盤體被持續(xù)照射后維持在一個特定的工作溫度；該加熱模式的變化條件為：紅外線照射部不被施加電源和紅外線照射部變換另一固定功率對盤體持續(xù)照射；該加熱模式的變化條件不包括檢測紅外線照射部的溫度是否達(dá)到限定值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱方法，其特征在于，加熱方法具有兩種以上對應(yīng)不同設(shè)定功率的加熱模式。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的加熱方法，其特征在于，變換為另一固定功率的過程中紅外線照射部不被斷電。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的加熱方法，其特征在于，加熱模式的設(shè)置方法為：將盤體的工作溫度范圍區(qū)分成不同的工作溫度選項，再檢測不同工作溫度選項下紅外線照射部對應(yīng)的功率，以所述對應(yīng)的功率作為加熱模式設(shè)置的依據(jù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的加熱方法，其特征在于，還設(shè)有時間參數(shù)，該時間參數(shù)由用戶設(shè)定，當(dāng)時間參數(shù)條件滿足后，紅外線照射部不被施加電源，或紅外線照射部變換為較低的固定功率對盤體持續(xù)照射。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱方法，其特征在于，以檢測盤體與紅外線照射部之間熱輻射區(qū)域的環(huán)境溫度作為自動控制加熱模式結(jié)束或轉(zhuǎn)換的依據(jù)。
7.一種應(yīng)用權(quán)利要求1所述方法的烹調(diào)器，其特性在于，所述加熱模式對應(yīng)的固定功率由功率調(diào)節(jié)裝置實(shí)現(xiàn)，該功率調(diào)節(jié)裝置為可控硅功率調(diào)整器和數(shù)字電路控制模塊。
8.一種應(yīng)用權(quán)利要求1所述方法的烹調(diào)器，其特征在于，所述加熱模式對應(yīng)的固定功率由功率調(diào)節(jié)裝置實(shí)現(xiàn)，該功率調(diào)節(jié)裝置為由整流二極管實(shí)現(xiàn)的功率調(diào)節(jié)模擬電路。
9.一種應(yīng)用權(quán)利要求1所述方法的烹調(diào)器，其特征在于，包括多個紅外線照射部，還包括選擇開關(guān)，該選擇開關(guān)用于實(shí)現(xiàn)多個紅外線照射部分別和/或組合工作，以獲得不同的固定功率的加熱模式。
10.根據(jù)權(quán)利要求7至9任一項所述的烹調(diào)器，其特征在于：紅外線照射部為環(huán)形光波管，所述環(huán)形光波管的接線端使得光波管產(chǎn)生加熱冷區(qū)，此時，所述盤體可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置于底座上。