本實用新型涉及一種磁體燒結(jié)石墨料盒和處理裝置，尤其是一種釹鐵硼磁體燒結(jié)石墨料盒和處理裝置。

背景技術(shù)：

釹鐵硼磁體是非常重要的工業(yè)原材料，其可以用于音響領(lǐng)域、電機領(lǐng)域、計算機領(lǐng)域等。釹鐵硼磁體的制備工藝包括燒結(jié)法和粘結(jié)法。通常認為，燒結(jié)法得到的釹鐵硼磁體性能更為優(yōu)異。

為了進一步提高釹鐵硼磁體的性能，其燒結(jié)過程通常包括高溫燒結(jié)和回火處理兩道工序。釹鐵硼磁體的燒結(jié)過程通常在真空燒結(jié)爐中進行。將釹鐵硼磁體原料置于石墨料盒中，將石墨料盒封閉，然后置于真空燒結(jié)爐進行燒結(jié)。通過等靜壓得到的釹鐵硼磁體毛坯在高溫燒結(jié)過程中隨著溫度的上升會釋放出氣體，這就要求石墨料盒具有較好的密封性，以防止由石墨料盒內(nèi)溢出的氣體再次進入盒內(nèi)對物料產(chǎn)生氧化。燒結(jié)完成之后，需要對物料進行回火處理?？焖倬鶆蚶鋮s有利于得到一致性好且性能高的磁體。但是，由于傳統(tǒng)的石墨料盒密封性好，無法滿足快速均勻冷卻的要求。因此，通常需要將高溫的物料倒入有孔洞的料盒內(nèi)進行快速冷卻。因此，傳統(tǒng)的燒結(jié)過程工藝流程較長、操作安全性不高。

因此，迫切需要一種石墨料盒，其不需要在高溫燒結(jié)后轉(zhuǎn)換容器就可以進行回火處理，并可以實現(xiàn)快速均勻冷卻。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

為了克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，本實用新型的目的在于提供一種磁體燒結(jié)石墨料盒，其不需要在高溫燒結(jié)后轉(zhuǎn)換容器就可以進行回火處理，并可以實現(xiàn)快速均勻冷卻。本實用新型的另一個目的在于提供一種磁體處理裝置，其可以縮短燒結(jié)過程的工藝流程，操作安全性得到顯著提高。

本實用新型采用如下技術(shù)方案實現(xiàn)上述目的。

本實用新型提供一種磁體燒結(jié)石墨料盒，其包括多個側(cè)壁圍成的框體、第一底層和第二底層；所述框體和第一底層圍成空腔，其用于放置待燒結(jié)物料；第一底層和第二底層設(shè)置為二者能夠緊密貼合；第二底層以能夠自由抽取地方式設(shè)置在第一底層的下方；第一底層上設(shè)置有多個氣孔，第二底層上則不設(shè)置氣孔。

根據(jù)本實用新型的石墨料盒，優(yōu)選地，所述石墨料盒還包括料盒蓋，其設(shè)置在所述框體的上方，用于將所述空腔封閉。

在本實用新型中，框體的形狀并沒有特別限制，可以為長方形、正方形或者其他形狀，優(yōu)選為長方形?？蝮w、第一底層和料盒蓋圍成用于放置待燒結(jié)物料的空腔。當?shù)诙讓优c第一底層緊密貼合時，第一底層的氣孔被堵住，整個裝置被完全密閉，這樣有利于高溫燒結(jié)過程。當?shù)诙讓訌牡谝坏讓拥南路匠槿〕鰜砗?，第一底層的氣孔開放，整個裝置處于開放狀態(tài)，真空燒結(jié)爐內(nèi)的氣體可通過石墨料盒底部的氣孔進入石墨料盒的內(nèi)部進行循環(huán)，這樣有利于高溫燒結(jié)后的物料快速均勻冷卻(回火處理)。

根據(jù)本實用新型的石墨料盒，優(yōu)選地，所述氣孔均勻分布在第一底層上。這樣有利于回火處理工序中磁體物料均勻降溫。根據(jù)本實用新型的石墨料盒，優(yōu)選地，所述氣孔的分布密度為1～10個/1000mm²，更優(yōu)選地，所述氣孔的分布密度為1～3個/1000mm²。將氣孔的分布密度控制在上述范圍，有利于燒結(jié)后的物料以合適的降溫速率降溫，從而改善釹鐵硼磁體的性能。

根據(jù)本實用新型的石墨料盒，優(yōu)選地，所述氣孔的直徑為3～10mm，優(yōu)選為5～8mm。這樣可以避免待燒結(jié)的物料從氣孔漏出，同時保證燒結(jié)后的物料以合適的降溫速率降溫，從而改善釹鐵硼磁體的性能。

根據(jù)本實用新型的石墨料盒，優(yōu)選地，所述框體在靠近第一底層的下方設(shè)置有卡槽，第二底層設(shè)置為能夠沿該卡槽被抽取。這樣的設(shè)置有利于整個石墨料盒的密封。

根據(jù)本實用新型的石墨料盒，優(yōu)選地，所述框體由第一側(cè)壁、第二側(cè)壁、第三側(cè)壁和第四側(cè)壁圍合而成；第一側(cè)壁和第二側(cè)壁相互平行，且第三側(cè)壁和第四側(cè)壁相互平行。根據(jù)本實用新型的石墨料盒，優(yōu)選地，第一側(cè)壁在靠近第一底層的下方設(shè)置有第一卡槽，第二側(cè)壁在靠近第一底層的下方設(shè)置有第二卡槽，第一卡槽和第二卡槽相互配合，使得第二底層能夠沿第一卡槽和第二卡槽被抽取。這樣的設(shè)置更有利于整個石墨料盒的密封。

本實用新型還提供一種磁體處理裝置，所述的處理裝置包括料盒蓋以及多個層疊設(shè)置的上述石墨料盒，所述料盒蓋設(shè)置在最上層的石墨料盒的上方，其用于將所述的處理裝置封閉。在本實用新型中，石墨料盒的數(shù)量可以為5～10層，優(yōu)選為6～7層。將這些石墨料盒層疊放置，在最上層的石墨料盒的上方放置料盒蓋，從而將整個裝置密封。

本實用新型的石墨料盒采用雙層底的結(jié)構(gòu)，可以自由實現(xiàn)密封和開放狀態(tài)的自由轉(zhuǎn)換。當需要完全密閉時，將沒有氣孔的第二底層插入；當需要開放時，將第二底層抽取出。因此，本實用新型的裝置不需要在高溫燒結(jié)后轉(zhuǎn)換容器就可以進行回火處理，并可以實現(xiàn)快速均勻冷卻。此外，本實用新型的處理裝置可以縮短燒結(jié)過程的工藝流程，操作安全性得到顯著提高。

附圖說明

圖1為本實用新型的一種石墨料盒的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本實用新型的磁體處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標記說明如下：

1-框體、2-第一底層、3-第三側(cè)壁、4-第四側(cè)壁、5-第一側(cè)壁、6-第二側(cè)壁、7-第二底層、8-氣孔。

具體實施方式

下面結(jié)合具體實施例對本實用新型作進一步的說明，但本實用新型的保護范圍并不限于此。

實施例1

圖1為本實用新型的一種磁體燒結(jié)石墨料盒的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示，本實用新型的磁體燒結(jié)石墨料盒包括框體1、第一底層2和第二底層7。框體1為長方形?？蝮w1和第一底層2圍成空腔，可以放置待燒結(jié)物料。該石墨料盒還包括料盒蓋(未圖示)，設(shè)置在框體1的上方。該料盒蓋可以將所述空腔封閉。

如圖1所示，框體1由第一側(cè)壁5、第二側(cè)壁6、第三側(cè)壁3和第四側(cè)壁4圍合而成。第一側(cè)壁5和第二側(cè)壁6相互平行，第三側(cè)壁3和第四側(cè)壁4相互平行。第一側(cè)壁5在靠近第一底層2的下方設(shè)置有第一卡槽(未圖示)，第二側(cè)壁6在靠近第一底層2的下方設(shè)置有第二卡槽(未圖示)，第一卡槽和第二卡槽相互配合，第二底層7能夠沿第一卡槽和第二卡槽被抽取。第一底層2和第二底層7緊密貼合，第二底層7設(shè)置在第一底層2的下方，其能夠從第一底層2的下方沿第一卡槽和第二卡槽自由地抽取。第一底層2上設(shè)置有氣孔8，氣孔8的直徑為5mm，分布密度為1.5個/1000mm²。第二底層7上則不設(shè)置氣孔。

實施例2

圖2為本實用新型的磁體處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。將實施例1的磁體燒結(jié)石墨料盒去掉料盒蓋，然后由上至下依次層疊在一起，總共6層；然后在最上層的石墨料盒的上方放置一個料盒蓋，從而將整個裝置密封，形成本實用新型的處理裝置。

以下介紹實施例1的石墨料盒和實施例2的處理裝置的使用方法：

將待燒結(jié)物料置于第一底層2上，并位于框體1內(nèi)。將裝有待燒結(jié)物料的6個石墨料盒層疊在一起，然后加裝一個料盒蓋。將第二底層7插入第一底層2的下方，二者緊密貼合，從而將氣孔8堵住，整個裝置被完全密閉。在真空燒結(jié)爐中進行高溫燒結(jié)，1050℃下燒結(jié)4小時。當燒結(jié)完成后，將第二底層7從第一底層2的下方抽取出來(耗時5分鐘)，氣孔8開放，整個裝置處于開放狀態(tài)，然后在910℃下回火處理2小時，再在500℃下回火處理4小時，從而得到釹鐵硼磁體(38H)。采用中國計量科學研究院的NIM-10000H大塊稀土永磁無損測量儀進行性能測試，結(jié)果參見表1。

對比例1

傳統(tǒng)的磁體燒結(jié)石墨料盒包括框體、料盒蓋和一個沒有氣孔的底層。將6個層疊的該石墨料盒用于待燒結(jié)物料的高溫燒結(jié)，在真空燒結(jié)爐中進行。燒結(jié)完成后取出該石墨料盒，然后將燒結(jié)后的物料轉(zhuǎn)入帶有孔洞的料盒中，再放入真空燒結(jié)爐中進行回火處理(耗時1小時)，從而得到釹鐵硼磁體(38H)，測試結(jié)果參見表1。高溫燒結(jié)、回火處理條件與實施例2相同。

表1

由表1可知，與對比例1相比，采用實施例1的石墨料盒所得釹鐵硼磁體的性能略有提高。此外，采用實施例1的石墨料盒減少了工序流程，節(jié)約了時間。

本實用新型并不限于上述實施方式，在不背離本實用新型的實質(zhì)內(nèi)容的情況下，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以想到的任何變形、改進、替換均落入本實用新型的范圍。