專利名稱：一種冶金爐爐渣虹吸排放裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及有有色金屬冶煉設(shè)備，特別是一種冶金爐爐渣虹吸排放裝置。
背景技術(shù)：
目前，在國內(nèi)外重有色冶金領(lǐng)域的冶金爐爐渣排放一般采用斷續(xù)或連續(xù)排放，SP表面排放和中層排放，如閃速爐連續(xù)排放爐渣、電爐斷續(xù)排放爐渣。其中連續(xù)排放(中層排放)爐渣渣量穩(wěn)定易控制，但爐內(nèi)表面的未澄清有價(jià)金屬和有益未融化的成分也隨爐渣一起排出，加大了有價(jià)金屬的損失和降低了有益成分的利用率。斷續(xù)排 放(表面排放)爐渣爐渣排放不穩(wěn)定，爐內(nèi)熔體面高時(shí)，排放渣量較大，排放存在安全隱患；爐渣排放到后期熔體面與渣口平齊時(shí)，爐內(nèi)表面的未澄清有價(jià)金屬和有益未融化的成分也隨爐渣一起排出，力口大了有價(jià)金屬的損失和降低了有益成分的利用率。上述兩種排放方式均會損失部分有價(jià)金屬和有益成分，不僅耗費(fèi)了大量的原材料，增加了生產(chǎn)成本，而且不利于節(jié)能環(huán)保。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型解決冶金爐爐渣排放不穩(wěn)定、不連續(xù)的技術(shù)問題，提供一種冶金爐爐渣虹吸排放裝置。本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案為一種冶金爐爐渣虹吸排放裝置，包括虹吸口、虹吸熔池和虹吸檐口，所述虹吸口與虹吸熔池連通，虹吸熔池上部一側(cè)與虹吸檐口連通，虹吸檐口的另一側(cè)設(shè)有冷卻水套，虹吸熔池上段設(shè)有蓋板。所述虹吸口的高度比虹吸檐口的高度低。所述虹吸熔池和虹吸檐口之間設(shè)有耐火層。本實(shí)用新型用虹吸的方式收集爐渣，使虹吸熔池內(nèi)保持一定高度熔體面，爐渣排放時(shí)平穩(wěn)、均勻，能更好融化的有益成分和澄清有價(jià)金屬，提高了有價(jià)金屬的回收利用，減小了原材料的消耗，降低了生產(chǎn)成本，同時(shí)爐渣排放量穩(wěn)定，不會出現(xiàn)大量爐渣堆積的現(xiàn)象，保證了生產(chǎn)的安全。虹吸熔池和虹吸檐口之間設(shè)有耐火層，提高了整個(gè)設(shè)備的使用壽命。

圖I為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型提供一種冶金爐爐渣虹吸排放裝置，包括虹吸口 I、虹吸熔池2和虹吸檐口 3，所述虹吸口 I與虹吸熔池2連通，虹吸熔池2上部一側(cè)與虹吸檐口 3連通，虹吸檐口3的另一側(cè)安裝冷卻水套4，虹吸熔池2上段裝有蓋板6。所述虹吸口 I的高度比虹吸檐口3的高度低。所述虹吸熔池2和虹吸檐口 3之間設(shè)有耐火層5，提高了虹吸熔池2和虹吸檐口 3的耐火性能。使用時(shí)，將爐渣排放至虹吸口 1，虹吸口 I的高度比虹吸檐口 3的高度低，爐渣不會涌入虹吸熔池2內(nèi)，而是虹吸的方式慢慢流入虹吸熔池2，當(dāng)爐渣的熔體面與虹吸檐口 3平
齊時(shí),爐渣流入虹吸檐口 3，并經(jīng)過虹吸檐口 3排放出爐外。
權(quán)利要求1.ー種冶金爐爐渣虹吸排放裝置，其特征在于包括虹吸ロ( I)、虹吸熔池(2)和虹吸檐ロ(3)，所述虹吸口(I)與虹吸熔池(2)連通，虹吸熔池(2)上部一側(cè)與虹吸檐ロ(3)連通，虹吸檐ロ(3)的另ー側(cè)設(shè)有冷卻水套(4)，虹吸熔池(2)上段設(shè)有蓋板(6)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的ー種冶金爐爐渣虹吸排放裝置，其特征在于所述虹吸口(I)的高度比虹吸檐ロ(3)的高度低。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的ー種冶金爐爐渣虹吸排放裝置，其特征在于所述虹吸熔池(2)和虹吸檐ロ(3)之間設(shè)有耐火層(5)。
專利摘要本實(shí)用新型涉及有有色金屬冶煉設(shè)備，特別是一種冶金爐爐渣虹吸排放裝置。包括虹吸口、虹吸熔池和虹吸檐口，所述虹吸口與虹吸熔池連通，虹吸熔池上部一側(cè)與虹吸檐口連通，虹吸檐口的另一側(cè)設(shè)有冷卻水套，虹吸熔池上段設(shè)有蓋板。本實(shí)用新型用虹吸的方式收集爐渣，使虹吸熔池內(nèi)保持一定高度熔體面，爐渣排放時(shí)平穩(wěn)、均勻，能更好融化的有益成分和澄清有價(jià)金屬，提高了有價(jià)金屬的回收利用，減小了原材料的消耗，降低了生產(chǎn)成本，同時(shí)爐渣排放量穩(wěn)定，不會出現(xiàn)大量爐渣堆積的現(xiàn)象，保證了生產(chǎn)的安全。虹吸熔池和虹吸檐口之間設(shè)有耐火層，提高了整個(gè)設(shè)備的使用壽命。
文檔編號F27D3/14GK202452839SQ20122002176
公開日2012年9月26日 申請日期2012年1月18日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月18日
發(fā)明者李世紅, 王萬濤 申請人:金川集團(tuán)有限公司