專利名稱：烹調(diào)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明總體涉及一種烹調(diào)裝置，更具體而言，涉及一種能在冷卻 流從烹調(diào)裝置出來(lái)之前通過(guò)將冷卻流保持在烹調(diào)裝置內(nèi)足夠時(shí)間量而 經(jīng)由從烹調(diào)裝置的后部空間所產(chǎn)生的冷卻流來(lái)冷卻烹調(diào)腔、后部空間、 上部空間、側(cè)部空間、以及門(mén)的烹調(diào)裝置。
背景技術(shù)：
韓國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)No. 2005-0083504公開(kāi)了一種烹調(diào)裝置的典型 實(shí)例，該烹調(diào)裝置具有設(shè)置于烹調(diào)腔一側(cè)的主要部件，包括磁控管、 高壓變壓器、高壓電容器以及冷卻風(fēng)扇。韓國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)No. 2006-0037003公開(kāi)了一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置具有安裝于烹調(diào)腔上 側(cè)的主要部件、并將對(duì)流加熱器組件容納于該烹調(diào)腔的后壁，這些主 要部件包括磁控管、高壓變壓器以及高壓電容器。韓國(guó)實(shí)用新型申 請(qǐng)公開(kāi)No.1999-0010444公開(kāi)了一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置具有設(shè)置于
烹調(diào)腔下側(cè)的主要部件和操作面板，這些主要部件包括磁控管、高
壓變壓器以及冷卻風(fēng)扇。
另外，韓國(guó)實(shí)用新型申請(qǐng)公開(kāi)No. 1998-0016489公開(kāi)了一種烹調(diào) 裝置，該烹調(diào)裝置具有安裝于烹調(diào)腔側(cè)壁的主要部件，并設(shè)置有從該 烹調(diào)腔的上壁開(kāi)始而到達(dá)其側(cè)面的冷卻流徑，這些主要部件包括磁控 管、高壓變壓器以及冷卻風(fēng)扇。
韓國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)No. 1998-0053939公開(kāi)了作為烹調(diào)裝置典型實(shí) 例的微波爐的門(mén)，其中，該門(mén)設(shè)置有用于阻擋微波的門(mén)框以及環(huán)繞該 門(mén)框的阻流蓋。
6韓國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)No. 1995-0003729公開(kāi)了一種烹調(diào)裝置，該烹 調(diào)裝置具有從烹調(diào)腔的側(cè)面開(kāi)始經(jīng)由烹調(diào)腔的底側(cè)而到達(dá)門(mén)的烹調(diào)流 徑。
韓國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)No. 2004-0108050公開(kāi)了烹調(diào)裝置中所使用的 操作面板的示例，其中，該操作面板設(shè)置有使用靜電的玻璃觸摸鍵盤(pán)。

發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問(wèn)題
本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置具有從該烹 調(diào)裝置的后部空間延伸至下部空間的冷卻流徑。
本發(fā)明的另一目的是提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置具有從該烹 調(diào)裝置的后部空間經(jīng)由上部空間延伸至側(cè)部空間的冷卻流徑。
本發(fā)明的又一目的是提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置具有從烹調(diào) 裝置的后部空間經(jīng)由上部空間和側(cè)部空間延伸至下部空間的冷卻流 徑。
本發(fā)明的又一目的是提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置能通過(guò)在冷 卻流從該烹調(diào)裝置出來(lái)之前將冷卻流保持在其內(nèi)足夠時(shí)間量而進(jìn)行有 效的冷卻操作。
本發(fā)明的又一目的是提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置能防止廚房 的熱敏墊板受到所排出的流的損害。
本發(fā)明的又一目的是提供一種烹調(diào)裝置，其中， 一股流能從后部 空間直接運(yùn)動(dòng)至側(cè)部空間，而一股流能運(yùn)動(dòng)至后部空間的側(cè)部，借此 可在后部空間的側(cè)部?jī)?nèi)平穩(wěn)地進(jìn)行冷卻和流動(dòng)。本發(fā)明的又一目的是提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置能將流有效 地導(dǎo)向至烹調(diào)腔。
本發(fā)明的又一目的是提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置能利用后部 空間內(nèi)所產(chǎn)生的流來(lái)冷卻所有空間，包括烹調(diào)腔、后部空間、上部空 間、側(cè)部空間、下部空間以及門(mén)。
技術(shù)方案
為了實(shí)現(xiàn)以上目的和優(yōu)點(diǎn)，提供了一種烹調(diào)裝置，包括烹調(diào)腔； 后部空間，位于烹調(diào)腔后方；下部空間，位于烹調(diào)腔下方；以及冷卻 流徑，該冷卻流徑從后部空間延伸至下部空間；冷卻流徑的入口，設(shè) 置于后部空間；以及冷卻流徑的出口，設(shè)置于下部空間。通過(guò)此構(gòu)造， 能將流充分地保持在烹調(diào)裝置內(nèi)，借此，該烹調(diào)裝置能被有效地冷卻。 此外，可提供一種具有從后部空間至下部空間的冷卻流徑的烹調(diào)裝置。
在本發(fā)明的另一方面中，該烹調(diào)裝置還包括保護(hù)板，位于上述 出口下方并將從該出口流出的流導(dǎo)向?yàn)闄M向。通過(guò)此構(gòu)造，防止定位
烹調(diào)裝置的廚房熱敏墊板受流的損害是可能的。
在本發(fā)明的另一方面中，上述出口形成在下部空間的中心附近。 通過(guò)此構(gòu)造，能更充分地將流保持在烹調(diào)裝置內(nèi)。
在本發(fā)明的另一方面中，該烹調(diào)裝置還包括位于后部空間下部 的冷卻風(fēng)扇。
在本發(fā)明的另一方面中，該烹調(diào)裝置還包括位于烹調(diào)腔上方的 上部空間；以及用于打開(kāi)和關(guān)閉烹調(diào)腔的門(mén)，冷卻流徑通過(guò)上部空間 延伸至該門(mén)，且冷卻流徑的出口設(shè)置于該門(mén)的下部。
在本發(fā)明的另一方面中，提供了一種烹調(diào)裝置，包括烹調(diào)腔；后部空間，位于烹調(diào)腔后方；上部空間，位于烹調(diào)腔上方；側(cè)部空間， 位于烹調(diào)腔的至少一側(cè)；下部空間，位于烹調(diào)腔下方；以及冷卻流徑， 該冷卻流徑從后部空間延伸至上部空間，其中，流通過(guò)側(cè)部空間流出 而到達(dá)下部空間。通過(guò)此構(gòu)造，可提供一種烹調(diào)裝置，其中，流經(jīng)過(guò) 其后部空間、側(cè)部空間、上部空間以及下部空間。
在本發(fā)明的另一方面中，該烹調(diào)裝置還包括用于打開(kāi)和關(guān)閉烹調(diào) 腔的門(mén)，并且冷卻流徑設(shè)置有與上部空間連通的門(mén)流徑。通過(guò)此構(gòu)造， 流經(jīng)過(guò)諸多空間和上述門(mén)是可能的，這些空間包括烹調(diào)裝置的后部空 間、側(cè)部空間、上部空間以及下部空間。
在本發(fā)明的另一方面中，側(cè)部空間形成于烹調(diào)腔的兩側(cè)，該烹調(diào) 腔在所述兩側(cè)中的一側(cè)設(shè)置有與冷卻流徑連通的入口，并在所述兩側(cè) 中的另一側(cè)設(shè)置有與側(cè)部空間連通的出口，從烹調(diào)腔的出口流出的流 由側(cè)部空間內(nèi)的流導(dǎo)向至形成于下部空間的出口。通過(guò)此構(gòu)造，流能 經(jīng)過(guò)諸多空間和上述門(mén)，這些空間包括烹調(diào)裝置的后部空間、側(cè)部空 間、上部空間以及下部空間。
在本發(fā)明的另一方面中，該烹調(diào)裝置還包括位于冷卻流徑上的 流導(dǎo)向件，用于將后部空間連接至烹調(diào)腔的出口。通過(guò)此構(gòu)造，能有 效地將流導(dǎo)向至烹調(diào)腔。
在本發(fā)明的另一方面中，其中，冷卻流徑設(shè)置有從后部空間延伸 至側(cè)部空間的側(cè)流徑。
在本發(fā)明的另一方面中，對(duì)流加熱器組件、磁控管、高壓變壓器、 高壓電容器、以及中繼襯底(relay substrate)被定位在冷卻流徑上。
在本發(fā)明的另一方面中，提供了一種烹調(diào)裝置，其包括烹調(diào)腔; 后部空間，位于烹調(diào)腔后方；上部空間，位于烹調(diào)腔上方；冷卻風(fēng)扇，
9位于后部空間的下部、用于產(chǎn)生從該后部空間至上部空間的流；以及 側(cè)部空間，位于烹調(diào)腔的至少一側(cè)并具有開(kāi)口以與后部空間連通。通 過(guò)此構(gòu)造， 一股流能從后部空間直接運(yùn)動(dòng)至側(cè)部空間，而一股流能運(yùn) 動(dòng)至后部空間的側(cè)部，借此可在后部空間的側(cè)部?jī)?nèi)平穩(wěn)地進(jìn)行冷卻和 流動(dòng)。
在本發(fā)明的另一方面中，提供了一種烹調(diào)裝置，其包括烹調(diào)腔； 上部空間，位于烹調(diào)腔上方；后部空間，位于烹調(diào)腔后方并具有流的 入口；下部空間，位于烹調(diào)腔下方；以及后框架，該后框架被安裝于 烹調(diào)腔的后表面以從下部空間隔離后部空間，并具有開(kāi)口以使后部空 間與上部空間連通。
在本發(fā)明的另一方面中，該烹調(diào)裝置還包括側(cè)部空間，位于烹 調(diào)腔的至少一側(cè)，且后框架具有用于使后部空間與側(cè)部空間連通的開(kāi) 口 。
在本發(fā)明的另一方面中，提供了一種烹調(diào)裝置，包括烹調(diào)腔； 以及冷卻流徑，該冷卻流徑從烹調(diào)腔的后表面經(jīng)由烹調(diào)腔的上表面經(jīng) 過(guò)烹調(diào)腔的側(cè)表面。
在本發(fā)明的另一方面中，冷卻流徑經(jīng)由烹調(diào)腔的側(cè)表面經(jīng)過(guò)烹調(diào) 腔的下表面。
在本發(fā)明的另一方面中，冷卻流徑優(yōu)選為延伸至烹調(diào)腔的內(nèi)部。
在本發(fā)明的另一方面中，該烹調(diào)裝置還包括用于打開(kāi)和關(guān)閉烹調(diào) 腔的門(mén)，并且冷卻流徑延至上述門(mén)的內(nèi)側(cè)。
本發(fā)明的額外和/或其它方面和優(yōu)點(diǎn)將部分地在隨后的描述中闡 述，并且從該描述將是顯而易見(jiàn)的，或可以通過(guò)本發(fā)明的實(shí)踐習(xí)得。


通過(guò)參照附圖描述本發(fā)明的某些實(shí)施例，本發(fā)明的上述方面和特
征將更明顯，在附圖中
圖1是根據(jù)本發(fā)明烹調(diào)裝置的主結(jié)構(gòu)的分解示意圖2示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明烹調(diào)裝置的后部空間的示例；
圖3和圖4示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明烹調(diào)裝置的后部空間的其
它示例；以及
圖5和圖6示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明的冷卻流徑。
具體實(shí)施例方式
下文將參照附圖詳細(xì)描述本發(fā)明。
圖1是根據(jù)本發(fā)明烹調(diào)裝置的主結(jié)構(gòu)的分解示意圖，其示出了烹調(diào)腔100、門(mén)200、位于烹調(diào)腔100上方的上部空間300、位于烹調(diào)腔100后方的后部空間400、位于烹調(diào)腔100兩側(cè)的側(cè)部空間500、以及位于烹調(diào)腔100下方的下部空間600。
烹調(diào)腔100為用于烹飪食物的空間，并由內(nèi)殼110限定。加熱器120設(shè)置于烹調(diào)腔100內(nèi)部的上部處，盤(pán)子或擱物架130安置在烹調(diào)腔100內(nèi)。內(nèi)殼110包括形成在側(cè)面上的入口(未示出)和出口 111，用于形成氣流路徑以除去烹調(diào)腔100內(nèi)的熱量和氣味。加熱器120的示例為護(hù)套加熱器(sheath heater)。利用盤(pán)子130代替圓形轉(zhuǎn)盤(pán)會(huì)使得烹調(diào)腔100的寬度和長(zhǎng)度(深度)發(fā)生改變，該烹調(diào)腔的更改受到轉(zhuǎn)盤(pán)的限制。烹調(diào)腔100的一側(cè)設(shè)置有用于引導(dǎo)盤(pán)子130的導(dǎo)向件140。另外，烹調(diào)腔100的前側(cè)和后側(cè)分別設(shè)置有前框架150和后框架160。前框架150具有用于在上部空間300和門(mén)200之間形成流徑的開(kāi)口 151。后框架160也具有形成于上側(cè)、用于與后部空間400連通的開(kāi)口 161。
門(mén)200的下部被鉸接至烹調(diào)腔100，使得門(mén)200能打開(kāi)和關(guān)閉烹調(diào)腔100。門(mén)200形成為用以覆蓋烹調(diào)腔100和上部空間300。門(mén)200由把手210、前板220、輸入感測(cè)單元230、門(mén)板240、控制面板250、中板260、支架270、門(mén)框280以及阻流蓋2卯組成。
把手210為用戶打開(kāi)或關(guān)閉門(mén)200所使用的部分，并能由螺釘(未示出)固定至前板220。合乎需要地，把手210具有至少一個(gè)通道(未示出)，該通道以與外部連通的方式沿把手210的縱向而形成于其內(nèi)部，從而減小總重量，也能最小化在烹飪期間從烹調(diào)腔100傳遞到用戶的熱量。
前板220理想地由透明玻璃制成，以使用戶能看到烹調(diào)腔100的內(nèi)部，并且包括按鈕的顯示單元(未示出)可附接或涂布到該前板220上，這些按鈕用于用戶選擇烹調(diào)模式，或用于指示烹調(diào)裝置的運(yùn)行狀態(tài)。
輸入感測(cè)單元230為識(shí)別用戶選擇了哪個(gè)按鈕的部分。輸入感測(cè)單元230在位于由玻璃制成的前板220后方的情況下能由玻璃觸摸單元組成，并能被用作靜電傳感器?？墒褂媚z帶將玻璃觸摸單元附接至前板220。輸入感測(cè)單元230位于門(mén)200的面向烹調(diào)腔100的上部空間300的上部區(qū)域，且此結(jié)構(gòu)確保更寬敞的烹調(diào)腔，并協(xié)助用戶無(wú)障礙地容易看到烹調(diào)腔100的內(nèi)部。
門(mén)板240為固定門(mén)200的其它部件220、 250等的部分，并具有用于用戶查看烹調(diào)腔100內(nèi)部的開(kāi)口 241。此外，門(mén)板240在其下側(cè)具有出口 (未示出)，沿著經(jīng)由上部空間300從冷卻風(fēng)扇420 (將對(duì)其進(jìn)行描述)延伸至門(mén)200的冷卻流徑運(yùn)動(dòng)的流通過(guò)該出口排出。
控制面板250為用于根據(jù)用戶輸入來(lái)控制烹調(diào)裝置的總體操作的部分。為此，控制面板250與輸入感測(cè)單元230以及中繼襯底350 (將對(duì)其進(jìn)行描述)進(jìn)行協(xié)作，并從輸入感測(cè)單元230的后側(cè)固定到門(mén)板
12240。合乎需要地，控制面板250設(shè)置有諸如LED(發(fā)光二極管)之類的發(fā)光源，并將從該發(fā)光源發(fā)出的光照射到顯示單元(未示出)。
中板260為被固定到門(mén)板240的部分，同時(shí)分別從前板220和門(mén)框280間隔開(kāi)。中板260的基本功能為阻擋熱量從烹調(diào)腔100傳遞到前板220和把手210。合乎需要地，中板260安裝于門(mén)板240處，使得由冷卻風(fēng)扇420 (將對(duì)其進(jìn)行描述)產(chǎn)生的流經(jīng)由后部空間400和上部空間300進(jìn)入門(mén)200，隨后在由支架270 (將對(duì)其進(jìn)行描述)引導(dǎo)的中板260和前板220之間運(yùn)動(dòng)。上述流通過(guò)門(mén)板240的出口 (未示出)排出。
支架270從控制面板250的后側(cè)固定至門(mén)板240。支架270用于保護(hù)各自包括電子部件的輸入感測(cè)單元230和控制面板250，以使它們免受來(lái)自烹調(diào)腔100的熱量和微波、以及由冷卻風(fēng)扇420吹送的流的破壞，并引導(dǎo)流而使流在門(mén)板240和前板220之間運(yùn)動(dòng)。
門(mén)框280容納于門(mén)板240內(nèi)，并被用以阻擋微波泄漏到烹調(diào)裝置外部。
阻流蓋290為用于朝著烹調(diào)腔100而定位的門(mén)200的蓋子，并具有形成在其上側(cè)、與前框架150的開(kāi)口 151對(duì)應(yīng)的開(kāi)口 291。開(kāi)口 291優(yōu)選地由微孔組成，從而在門(mén)200被打開(kāi)的同時(shí)防止食物或雜質(zhì)進(jìn)入門(mén)200。
上部空間300為位于烹調(diào)腔100的上方由外殼310限定的空間，并包括加熱器320、導(dǎo)波器330、絕緣上板340以及中繼襯底350。可選地，也可設(shè)置用于照亮烹調(diào)腔IOO的燈(未示出)。
外殼310具有以一間距包圍烹調(diào)腔100的頂側(cè)和兩側(cè)的形狀，并被連接至前框架150和后框架160。根據(jù)需要，外殼310可具有出口311，從而已運(yùn)動(dòng)到烹調(diào)腔100周圍和安裝于烹調(diào)裝置內(nèi)的加熱元件周
圍的流可被排到外部。
加熱器320的示例為鹵素加熱器。由于上述加熱器320會(huì)受微波 的影響，因此，與由護(hù)套加熱器形成的加熱器120不同，將加熱器320 安裝于內(nèi)殼110的上側(cè)，從而將熱量從上向下供應(yīng)至烹調(diào)腔100。
導(dǎo)波器330從后部空間400延伸至上部空間300,并被用以將從 磁控管(未示出)產(chǎn)生的微波供應(yīng)至烹調(diào)腔100。為達(dá)到此目的，烹調(diào) 腔100的頂面處設(shè)置有端口 331 (參見(jiàn)圖2)。
絕緣上板340防止由容納在內(nèi)殼110中的加熱器120所產(chǎn)生的熱 量傳遞到上部空間300，并具有覆蓋除加熱器320和導(dǎo)波器330之外的 烹調(diào)腔IOO上部的形狀。
中繼襯底350從上部空間300的一側(cè)安裝在絕緣上板340上，并 與控制面板250互相配合以運(yùn)行包括安置于后部空間400的磁控管(將 對(duì)其進(jìn)行描述)的部件。
圖2示意性示出了根據(jù)本發(fā)明烹調(diào)裝置的后部空間的示例。參照 圖l和圖2，后部空間400為在烹調(diào)腔100的后方由蓋子410限定的空 間，并包括共同組成烹調(diào)裝置的部件室的冷卻風(fēng)扇420、對(duì)流加熱器組 件430、以及諸如磁控管440、高壓變壓器450和高壓電容器460之類 的加熱元件。
蓋子410被連接至后框架160或外殼310，以覆蓋上部空間300 和后部空間400，且蓋子410的下部被連接至底座610。蓋子410或底 座610的下部處設(shè)置有用于空氣進(jìn)入冷卻風(fēng)扇420的入口 411。
冷卻風(fēng)扇420沿著后部空間400的寬度方向而定位于后部空間400的下部，并包括兩側(cè)上用以冷卻安裝于上側(cè)的部件的流產(chǎn)生單元421 和422。由于后部空間400、上部空間300和門(mén)200以連通的方式被裝 入，因此，能通過(guò)冷卻風(fēng)扇420冷卻烹調(diào)裝置的整個(gè)區(qū)域。另外，冷 卻風(fēng)扇420設(shè)置有分隔壁423，該分隔壁用于防止冷卻風(fēng)扇420所產(chǎn)生 的流回流至冷卻風(fēng)扇420。分隔壁423具有以使得流流向后部空間400 上部的方式形成在兩側(cè)的開(kāi)口 424和425。流產(chǎn)生單元421和422之間 的空間426處設(shè)置有馬達(dá)(未示出)，該馬達(dá)用于驅(qū)動(dòng)流產(chǎn)生單元421和 422。
圖3和圖4示意性示出了根據(jù)本發(fā)明烹調(diào)裝置的后部空間的其它 應(yīng)用示例。參照?qǐng)D1-4,除了圖2所示的結(jié)構(gòu)，后部空間還設(shè)置有用于 將氣流導(dǎo)向磁控管440的流導(dǎo)向件441、以及用于從磁控管440出來(lái)的 氣流引導(dǎo)至入口 112的流導(dǎo)向件442，該入口 112形成在烹調(diào)腔100的 側(cè)面上。此結(jié)構(gòu)，尤其是流導(dǎo)向件442，使得穩(wěn)定并高效地將冷卻風(fēng)扇 420所產(chǎn)生的氣流導(dǎo)入烹調(diào)腔100、并有效冷卻作為其中一個(gè)核心部件 的磁控管成為可能。
對(duì)流加熱器組件430包括風(fēng)扇431、加熱器432、內(nèi)加熱器蓋433、 外加熱器蓋434以及馬達(dá)435。合乎需要地，將絕熱材料(未示出)安置 在內(nèi)加熱器蓋433和外加熱器蓋434之間。上述對(duì)流加熱器組件430 必須具有馬達(dá)435。由于馬達(dá)435從后部空間400向后突出地安裝，因 此后部空間400必須具有足夠深以至少容納馬達(dá)435的腔室?；趯?duì) 此空間的關(guān)注，可將烹調(diào)裝置的運(yùn)行過(guò)程中所使用的主要部件中的大 體積部件440、 450和/或460安置在后部空間400內(nèi)。這樣，即使損失 了烹調(diào)腔100在縱向上的部分，烹調(diào)腔100也能在側(cè)向和垂直方向上 擴(kuò)展。此外，通過(guò)利用盤(pán)子代替轉(zhuǎn)盤(pán)，根據(jù)本發(fā)明的烹調(diào)裝置能改變 烹調(diào)腔100的高度、寬度和深度。而且，通過(guò)將冷卻風(fēng)扇420安置于 后部空間400的下部，根據(jù)本發(fā)明的烹調(diào)裝置能利用后部空間400，而 且還能冷卻加熱元件440、 450和/或460。并且，通過(guò)將冷卻風(fēng)扇420 設(shè)置于后部空間400的下部，并使得后部空間400、上部空間300、門(mén)
15200、烹調(diào)腔100以及側(cè)部空間500彼此連通，根據(jù)本發(fā)明的烹調(diào)裝置 的整個(gè)部分能由冷卻風(fēng)扇420有效冷卻。另外，由于冷卻風(fēng)扇420沿 著后部空間400的寬度方向而安裝，因此設(shè)置在后部空間400內(nèi)的諸 如對(duì)流加熱器組件430、磁控管440、高壓變壓器450和高壓電容器460 之類的加熱元件能夠被有效冷卻，且流能運(yùn)動(dòng)至上部空間300、側(cè)部空 間500和烹調(diào)腔100，并通過(guò)形成在烹調(diào)腔IOO下部處的底座上的出口 611排出。同樣，通過(guò)設(shè)置分隔壁423和開(kāi)口 424、 425，根據(jù)本發(fā)明 的烹調(diào)裝置能形成流徑和流，并有效地和選擇性地冷卻加熱元件。此 外，后框架160還可包括用于與側(cè)部空間500連通的開(kāi)口 162。開(kāi)口 162使得從后部空間400至側(cè)部空間500的直接氣流成為可能，并產(chǎn)生 至后部空間400兩側(cè)的氣流，借此促進(jìn)冷卻處理并將氣流推動(dòng)至后部 空間400的兩側(cè)上。
磁控管440、高壓變壓器450以及高壓電容器460為用于烹調(diào)裝 置的運(yùn)行的主要部件，它們各自產(chǎn)生大量熱量。磁控管440安置在開(kāi) 口 424的上方，而高壓變壓器450和高壓電容器460安置在開(kāi)口 425 的上方。可改變這些加熱元件的布置。
側(cè)部空間500為在烹調(diào)腔100兩側(cè)由外殼310限定的空間，且側(cè) 部空間500合乎需要地與上部空間300、后部空間400以及下部空間 600連通，并通過(guò)入口 112和出口 111與烹調(diào)腔IOO連通。由冷卻風(fēng)扇 420產(chǎn)生的流從后部空間400、上部空間300、烹調(diào)腔100、側(cè)部空間 500運(yùn)動(dòng)而最終到達(dá)下部空間600。此時(shí)，在上部空間300內(nèi)運(yùn)動(dòng)并朝 向側(cè)部空間500的流能將通過(guò)出口 111從烹調(diào)腔IOO流出的流導(dǎo)向至 下部空間600。
下部空間600為在烹調(diào)腔100下方由底座610限定的空間。底座 610被連接至前框架150和后框架160以支承烹調(diào)裝置，底座610包括 出口 611，從而將來(lái)源于冷卻風(fēng)扇420的流、以及烹調(diào)腔100內(nèi)產(chǎn)生的 氣味和熱量排出。盡管下部空間600由后框架160從后側(cè)限定，但還
16是將底座610連接至后框架160上方的蓋子410。因此，底座610還可 用作限制后部空間400的下部的構(gòu)件。出口 611的位置并不特限于此， 因此，出口 611可位于出口 111的側(cè)面上，或優(yōu)選地位于底座610的 中心，以形成足夠長(zhǎng)的流徑。由于熱空氣流通過(guò)出口 611排出，因此 不應(yīng)將烹調(diào)裝置安置在熱敏廚房用具上。為了防止上述廚房用具受到 過(guò)熱空氣的破壞，可以以一定距離將板(未示出)連接至底座610,以便 在橫向上排出熱量。
圖5和圖6示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明的冷卻流徑。如附圖所示， 由后部空間400產(chǎn)生的流經(jīng)由上部空間300運(yùn)動(dòng)至形成在烹調(diào)腔100 的兩側(cè)的側(cè)部空間500，而流的一部分從開(kāi)口 151流出，并流向門(mén)200。 同時(shí)，流的另一部分可通過(guò)形成在后框架160中的開(kāi)口 162流向側(cè)部 空間。到達(dá)上部空間400的流冷卻加熱器320和中繼襯底350。合乎需 要地，沿著流的方向?qū)⒅欣^襯底350設(shè)置到絕緣上板340，從而最小化 對(duì)流的阻礙。經(jīng)過(guò)側(cè)部空間500的流流向下部空間600，并通過(guò)形成于 底座610中心的出口 611 (參看圖l)排出。盡管對(duì)出口 610的位置沒(méi)有 特殊限制，但優(yōu)選地將出口 610定位在底座610的中心周圍，這是因 為隨著流盡可能長(zhǎng)時(shí)間地在烹調(diào)裝置內(nèi)部運(yùn)動(dòng)或循環(huán)，會(huì)進(jìn)行足量的 熱交換。此時(shí)，為了保護(hù)安置烹調(diào)裝置的底面，可以一定距離將保護(hù) 板612連接至底座610，以便可在橫向上排出流。另外，經(jīng)過(guò)側(cè)部空間 500的流將通過(guò)烹調(diào)腔100的出口 111排出的流導(dǎo)向至下部空間600。 同時(shí)，經(jīng)過(guò)阻流蓋290的開(kāi)口 291的氣流由支架270引導(dǎo)而在前板220 和中板260之間運(yùn)動(dòng)，并通過(guò)形成在門(mén)板240的底面上的出口 242排 出。因而，由支架270覆蓋的輸入感測(cè)單元230 (參見(jiàn)圖l)和控制面板 250 (參見(jiàn)圖l)能免受熱量和氣流的損害，中板260的一側(cè)通過(guò)氣流來(lái) 阻擋熱量(盡管氣流被支架270阻擋，但該氣流還是可用于阻擋熱量 傳遞至輸入感測(cè)單元230和控制面板240。)，而中板260的另一側(cè)通 過(guò)停滯空氣層來(lái)阻擋熱量。結(jié)果，從烹調(diào)腔100產(chǎn)生的熱量被阻擋， 且不會(huì)被傳遞至門(mén)200外或傳遞至把手210 (參見(jiàn)圖1)。
17如到現(xiàn)在為止所說(shuō)明的，根據(jù)本發(fā)明的烹調(diào)裝置，可提供一種烹 調(diào)裝置，該烹調(diào)裝置具有從其后部空間延伸至下部空間的冷卻流徑。
此外，根據(jù)本發(fā)明的烹調(diào)裝置，可提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝 置具有通過(guò)其上部空間從后部空間延伸至側(cè)部空間的冷卻流徑。
并且，根據(jù)本發(fā)明的烹調(diào)裝置，可提供一種烹調(diào)裝置，該烹調(diào)裝 置具有通過(guò)其上部空間和側(cè)部空間從后部空間延伸至下部空間的冷卻 流徑。
另外，本發(fā)明的烹調(diào)裝置能通過(guò)在冷卻流從該烹調(diào)裝置流出之前 將冷卻流保持在其內(nèi)足夠時(shí)間量而進(jìn)行有效的冷卻操作。
同時(shí)，該烹調(diào)裝置能防止廚房的熱敏墊板受到所排出的流的損害。
另外，根據(jù)本發(fā)明的烹調(diào)裝置， 一股流能從后部空間直接運(yùn)動(dòng)至 側(cè)部空間，而一股流能運(yùn)動(dòng)至后部空間的側(cè)部，從而可在后部空間的 側(cè)部?jī)?nèi)平穩(wěn)地進(jìn)行冷卻和流動(dòng)。
而且，本發(fā)明的烹調(diào)裝置能將流有效地導(dǎo)向至烹調(diào)腔。
此外，本發(fā)明的烹調(diào)裝置能利用后部空間所產(chǎn)生的流來(lái)冷卻所有 空間，包括烹調(diào)腔、后部空間、上部空間、側(cè)部空間、下部空間以及 門(mén)。
盡管已描述了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，但本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員將 了解到本發(fā)明不應(yīng)限于所描述的優(yōu)選實(shí)施例，而且在由所附權(quán)利要求 所限定的本發(fā)明精神和范圍內(nèi)可作各種變更和改型。
權(quán)利要求
1. 一種烹調(diào)裝置，包括烹調(diào)腔；位于所述烹調(diào)腔后方的后部空間；位于所述烹調(diào)腔下方的下部空間；以及冷卻流徑，所述冷卻流徑從所述后部空間開(kāi)始到所述下部空間；設(shè)置于所述后部空間的所述冷卻流徑的入口；以及設(shè)置于所述下部空間的所述冷卻流徑的出口。
2. 如權(quán)利要求l所述的烹調(diào)裝置，還包括保護(hù)板，所述保護(hù)板位于所述出口下方并將從所述出口出來(lái)的流 導(dǎo)向到橫向。
3. 如權(quán)利要求l所述的烹調(diào)裝置，其中所述出口形成在所述下部 空間的中心附近。
4. 如權(quán)利要求l所述的烹調(diào)裝置，還包括 冷卻風(fēng)扇，所述冷卻風(fēng)扇位于所述后部空間的下部。
5. 如權(quán)利要求l所述的烹調(diào)裝置，還包括位于所述烹調(diào)腔上方的上部空間；以及用于打開(kāi)和關(guān)閉所述烹調(diào)腔的門(mén)，所述冷卻流徑通過(guò)所述上部空 間延伸至所述門(mén)，且冷卻流徑的出口設(shè)置于所述門(mén)的下部。
6. —種烹調(diào)裝置，包括 烹調(diào)腔；位于所述烹調(diào)腔后方的后部空間； 位于所述烹調(diào)腔上方的上部空間；位于烹調(diào)腔的至少一側(cè)的側(cè)部空間； 位于所述烹調(diào)腔下方的下部空間；以及冷卻流徑，所述冷卻流徑從所述后部空間延伸至所述上部空間， 其中，流通過(guò)所述側(cè)部空間流出而到達(dá)所述下部空間。
7. 如權(quán)利要求6所述的烹調(diào)裝置，還包括 用于打開(kāi)和關(guān)閉所述烹調(diào)腔的門(mén)，以及其中所述冷卻流徑設(shè)置有與所述上部空間連通的所述門(mén)的流徑。
8. 如權(quán)利要求6所述的烹調(diào)裝置，其中所述側(cè)部空間形成于所述烹調(diào)腔的兩側(cè)，所述烹調(diào)腔在所述兩側(cè)中的一側(cè)設(shè)置有與所述冷卻流 徑連通的入口，并在所述兩側(cè)中的另一側(cè)設(shè)置有與所述側(cè)部空間連通 的出口 ，從所述烹調(diào)腔的所述出口流出的流由所述側(cè)部空間內(nèi)的流導(dǎo) 向至形成于所述下部空間的出口。
9. 如權(quán)利要求8所述的烹調(diào)裝置，還包括位于所述冷卻流徑上的流導(dǎo)向件，用于將所述后部空間連接至所 述烹調(diào)腔的所述出口。
10. 如權(quán)利要求6所述的烹調(diào)裝置，其中所述冷卻流徑設(shè)置有從所述后部空間延伸至所述側(cè)部空間的側(cè)流徑。
11. 如權(quán)利要求6所述的烹調(diào)裝置，其中，對(duì)流加熱器組件、磁控管、高壓變壓器、高壓電容器、以及中繼襯底定位在所述冷卻流徑 上。
12. —種烹調(diào)裝置，包括 烹調(diào)腔；位于所述烹調(diào)腔后方的后部空間； 位于所述烹調(diào)腔上方的上部空間；冷卻風(fēng)扇，所述冷卻風(fēng)扇位于所述后部空間的下部，用于產(chǎn)生從 所述后部空間至所述上部空間的流；以及側(cè)部空間，所述側(cè)部空間位于所述烹調(diào)腔的至少一側(cè)并具有開(kāi)口 以與所述后部空間連通。
13. —種烹調(diào)裝置，包括 烹調(diào)腔；位于所述烹調(diào)腔上方的上部空間；位于所述烹調(diào)腔后方的后部空間，所述后部空間具有流的入口； 位于所述烹調(diào)腔下方的下部空間；以及后框架，所述后框架安裝于所述烹調(diào)腔的后表面以將所述后部空 間從所述下部空間隔離，并且所述后框架具有用于使所述后部空間與 所述上部空間連通的開(kāi)口。
14. 如權(quán)利要求13所述的烹調(diào)裝置，還包括 位于所述烹調(diào)腔的至少一側(cè)的側(cè)部空間；以及后框架，所述后框架具有用于使所述后部空間與所述側(cè)部空間連 通的開(kāi)口。
15. —種烹調(diào)裝置，包括 烹調(diào)腔；以及冷卻流徑，所述冷卻流徑從所述烹調(diào)腔的后表面經(jīng)由所述烹調(diào)腔 的上表面穿過(guò)所述烹調(diào)腔的側(cè)表面。
16. 如權(quán)利要求15所述的烹調(diào)裝置，其中所述冷卻流徑經(jīng)由所述 烹調(diào)腔的側(cè)表面穿過(guò)所述烹調(diào)腔的所述下表面。
17. 如權(quán)利要求15所述的烹調(diào)裝置，其中所述冷卻流徑延伸至所 述烹調(diào)腔的內(nèi)部。
18.如權(quán)利要求15所述的烹調(diào)裝置，還包括 用于打開(kāi)和關(guān)閉所述烹調(diào)腔的門(mén)；以及 其中所述冷卻流徑延伸至所述門(mén)的內(nèi)側(cè)。
全文摘要
為了提供一種烹調(diào)裝置，所述烹調(diào)裝置具有從其后部空間延伸至下部空間的冷卻流徑，本發(fā)明公開(kāi)了一種烹調(diào)裝置，其包括烹調(diào)腔；位于烹調(diào)腔后方的后部空間；位于烹調(diào)腔下方的下部空間；以及冷卻流徑，該冷卻流徑從后部空間延伸至下部空間；冷卻流徑的入口，設(shè)置于后部空間；以及冷卻流徑的出口，設(shè)置于下部空間。通過(guò)此構(gòu)造，能充分地將流保持在所述烹調(diào)裝置內(nèi)，借此能夠有效地冷卻烹調(diào)裝置。此外，可提供一種具有從后部空間到下部空間的冷卻流徑的烹調(diào)裝置。
文檔編號(hào)F24C7/08GK101512230SQ200680055810
公開(kāi)日2009年8月19日 申請(qǐng)日期2006年12月7日 優(yōu)先權(quán)日2006年9月12日
發(fā)明者金完洙, 金壽煥 申請(qǐng)人:Lg電子株式會(huì)社