專利名稱：具有表面冷卻劑流的用于預制件的加熱裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于預制件的加熱裝置和用于冷卻預制件和/或用于預制件的加熱裝置中的輻射源的方法，該加熱裝置用于在拉伸吹制裝置或吹塑成形裝置中加工預制件之前使所述預制件升溫，所述加熱裝置包括加熱通道，所述加熱通道具有用于沿著輸送路線移動所述預制件的輸送部件，在所述加熱通道的至少一側(cè)配置有頂輻射源。
背景技術(shù)：
為了制造塑料瓶，使用由例如PET等熱塑性材料制成的所謂的預制件。預制件通常是注射成形的部件，其被加熱到所需的成型溫度，然后在拉伸吹制裝置或吹塑成形裝置中被吹塑成形為期望形狀。在目前所采用的處理中，預制件被軸保持于加熱裝置，該軸位于輸送鏈的連桿的轉(zhuǎn)動軸承上。在加熱裝置中，多個具有樞軸的鏈連桿被連接以形成環(huán)形周向輸送鏈。爐 (oven)的直側(cè)壁的外側(cè)壁包括加熱部件，尤其是頂輻射源，其將所需的熱施加到預制件。 在內(nèi)側(cè)和底部配置有反射器，以最大程度地利用^(Infrared)輻射?？諝饨?jīng)由與加熱部件相對配置的反射器的槽(slot)被吹入到爐中，以冷卻預制件的表面，從而防止在預制件的表面外殼(mantle)區(qū)域燃燒此外，頂輻射源的插座(socket)必須被遮蔽，以免過熱，這通常通過獨立的空氣流來實現(xiàn)。通過另一空氣流保護預制件的口部，使免過熱。因為口部區(qū)域過熱后，在后續(xù)的吹塑成形加工中口部區(qū)域可能會變形，因此這是必要的。所生產(chǎn)的具有變形的口部區(qū)域的容器不能被使用。為了保護預制件的口部區(qū)域，可以使用冷卻板，由此冷卻板被配置在與預制件的口部區(qū)域相同的高度。冷卻板遮蔽該口部區(qū)域，防止來自輻射源的整個輻射直接照射口部區(qū)域。已知的冷卻板通常具有輻射吸收特性。由于持續(xù)升高的能量價格，機器及設(shè)備的高功效顯得越來越重要。已知的是加熱通道的收縮(constriction)能夠提高加熱過程中的能量使用效率。使加熱通道變窄的主要缺點是頂輻射源彼此更加靠近，這會導致球管(bulb)的溫度急劇升高。該溫度能夠升高到其極限溫度，甚至更高。這會導致球管損壞并導致降低壽命ο因此，除需要冷卻預制件外，還需要冷卻輻射源。EP 1 413 420 Al描述了一種用于加熱預制件的方法和裝置，通過該方法和裝置冷卻預制件的表面。冷空氣從平行于預制件的長度方向配置的槽吹入。該槽的特征是永久地固定的將冷空氣導向預制件的表面的導板。D E 23 52示出了一種裝置，通過該裝置預制件的表面在加熱期間必須被冷卻。這里，冷卻劑的出口通過槽或多個孔而實現(xiàn)
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目標是實現(xiàn)一種改進的、高能效的用于冷卻預制件的表面和/或用于冷卻輻射源的部件，以使所需的加熱能量長期最優(yōu)化。通過如下加熱設(shè)備和方法達到所述目標。本發(fā)明涉及一種加熱裝置，其用于在拉伸吹制裝置或吹塑成形裝置中加工預制件之前使預制件升溫。所述加熱裝置包括加熱通道，該加熱通道具有用于沿輸送路線移動預制件的輸送部件。預制件優(yōu)選地在輸送期間繞其縱向軸線轉(zhuǎn)動。在加熱通道的至少一個側(cè)壁上配置有頂輻射源。預制件的在其移動通過加熱通道期間的轉(zhuǎn)動確保預制件的整個外周通過輻射被均勻地加熱處理。該加熱裝置包括至少一個用于產(chǎn)生使預制件的口部區(qū)域冷卻的口部冷卻劑流的部件、至少一個用于產(chǎn)生使預制件的表面冷卻的表面冷卻劑流的部件以及至少一個用于產(chǎn)生使頂輻射源冷卻的輻射源冷卻劑流的部件。根據(jù)本發(fā)明，該加熱裝置包括至少一個用于控制表面冷卻劑流的量和/或流動方向的機械能調(diào)的調(diào)整裝置。優(yōu)選地，該機械能調(diào)的調(diào)整裝置是能根據(jù)空氣流的體積來調(diào)節(jié)和/或控制的。根據(jù)一個優(yōu)選實施方式，能調(diào)的調(diào)整裝置用于從表面冷卻劑流分離出輻射源冷卻劑流。具體地，這意味著，代替通常的用于產(chǎn)生表面冷卻劑流和輻射源冷卻劑流的兩個冷卻劑流產(chǎn)生裝置，僅需要一個冷卻劑流產(chǎn)生裝置。因此，能夠減少裝置的生產(chǎn)和維護成本。另外，能夠產(chǎn)生更緊湊的設(shè)計并且能夠節(jié)能。輻射源冷卻劑流的分離出是通過例如至少一個、優(yōu)選通過至少兩個空氣引導片 (air guiding flap)實現(xiàn)的。這些空氣引導片被配置在表面冷卻劑流的供給管道中?？諝庖龑軌螂S意調(diào)整，從而調(diào)節(jié)表面冷卻劑流和輻射源冷卻劑流的量。具體地，根據(jù)表面冷卻劑流的空氣流體積的量來調(diào)節(jié)該至少一個空氣引導片。經(jīng)由第一供給管道和對立反射器中的開口槽將表面冷卻劑流導向預制件的表面， 從而冷卻預制件的表面。輻射源冷卻劑流經(jīng)由第二供給管道被定向為沿著輻射源、優(yōu)選地被定向為沿著輻射源插座流動，以冷卻輻射源。根據(jù)另一優(yōu)選實施方式，加熱裝置包括表面冷卻系統(tǒng)，機械能調(diào)的調(diào)整裝置包括表面冷卻劑流用的冷卻劑縫。冷卻劑縫優(yōu)選地被配置在加熱通道的與對立輻射源中的頂輻射源所在側(cè)相反的一側(cè)，由此每一個頂輻射源均被配置成與一個冷卻劑縫相對。根據(jù)本發(fā)明，冷卻劑縫是機械能調(diào)的。具體地，冷卻劑縫的開口是可調(diào)的。例如， 冷卻劑縫的交點或長度是可調(diào)的。另外，可以改變冷卻劑縫的高度，從而調(diào)整冷卻劑縫之間的距離。根據(jù)一個實施方式，各冷卻劑縫可獨立地調(diào)整。根據(jù)另一可選實施方式，多個冷卻劑縫組合成所謂的冷卻區(qū)域，由此冷卻區(qū)域中的所有冷卻劑縫被一起調(diào)整和調(diào)節(jié)。可設(shè)置優(yōu)化的冷卻板以冷卻輻射源。該冷卻板優(yōu)選地配置在輻射源的上方高度與預制件的口部大致相同的位置處。冷卻板的下側(cè)面面對輻射源。冷卻板的下側(cè)面表現(xiàn)出優(yōu)異的熱輻射反射性。為此，使用高拋光輕質(zhì)金屬表面或類似表面、涂覆有高反射層的表面或其它本領(lǐng)域技術(shù)人員公知的具有高反射性的表面。由于高反射表面，更多的輻射被冷卻板反射，而較少的輻射被冷卻板吸收，由此使冷卻板溫升較小。替代地，熱能被反射回加熱通道并且也用于使預制件升溫。
利用冷卻板的下側(cè)面的特殊輪廓JR輻射能夠被更有效地利用。冷卻板的下側(cè)面的輪廓可以具體地設(shè)計成使輻射反射回預制件。為此，冷卻板的下側(cè)面可以是凹曲面、斜面等。曲面和斜面的結(jié)合也可用于使熱輻射沿期望的方向反射。利用這樣的冷卻板，能夠提高加熱裝置的輻射源冷卻系統(tǒng)的能效。冷卻板可以單獨使用或者與上述能調(diào)的調(diào)整裝置組合使用。本發(fā)明還涉及一種用于冷卻加熱裝置中的預制件的表面和/或頂輻射源的方法以及一種表面冷卻方法。根據(jù)本發(fā)明，可通過至少一個機械能調(diào)的調(diào)整裝置來調(diào)節(jié)表面冷卻劑流的量和/或流動方向。調(diào)整裝置的特性在上面已經(jīng)詳細說明過，因此不再重復。本發(fā)明可用于微波爐、循環(huán)爐、線性爐、靜態(tài)爐等。此外，可使用獨立的加熱室 (heating pocket)，其中，各預制件在獨立的加熱室中被選擇性地調(diào)溫。


在下面的段落中，附圖進一步示出了本發(fā)明的示例性實施方式及其優(yōu)點。圖中各元件的尺寸比例不必然反應實際的尺寸比例。應當理解，在某些情況下，本發(fā)明的各方面還可以被夸張或放大，以有助于理解本發(fā)明。圖1示出了用于加熱預制件的加熱裝置的示意圖(根據(jù)現(xiàn)有技術(shù))。圖2示出了加熱通道和加熱單元(根據(jù)現(xiàn)有技術(shù))。圖3示出了具有表面冷卻系統(tǒng)和輻射源冷卻系統(tǒng)的加熱通道和加熱單元的第一實施方式。圖4也示出了根據(jù)圖3的第一實施方式的加熱通道和加熱單元，這里繪出了冷卻劑流。圖5示出了用于調(diào)節(jié)體積流(volume flow)的空氣引導片的不同設(shè)置。圖6示出了具有表面冷卻系統(tǒng)的加熱通道和加熱單元的第二實施方式。圖7示出了第二實施方式的表面冷卻系統(tǒng)的細節(jié)。圖8示出了加熱通道和加熱單元以及具有優(yōu)化的冷卻板的輻射源冷卻系統(tǒng)。圖9示出了優(yōu)化的冷卻板。附圖標記說明10表面冷卻系統(tǒng)
12輻射源冷卻系統(tǒng)
20預制件
22口部
30加熱裝置/爐
30a第一線性加熱范圍
30b反向部
30c第二線性加熱范圍
31加熱通道
33加熱單元
35IR輻射源
38熱輻射
41對立反射器
42底部反射器
43背側(cè)反射器
50口部冷卻劑流
52表面冷卻劑流
52a表面冷卻劑流支流
54輻射源冷卻劑流
60冷卻板(現(xiàn)有技術(shù))
61優(yōu)化的冷卻板
62下側(cè)面
70表面冷卻系統(tǒng)的供給管:
72輻射源冷卻系統(tǒng)的供給
75空氣引導片/百葉窗片
80冷卻劑縫/開口
110輸送部件
112鋸齒星形件
114連續(xù)輸送部件
116排出星形件
120抓取器/保持器
122輸送鏈
S抽吸力
具體實施例方式本發(fā)明的相同或等同的元件由同一附圖標記表示。此外，為了清楚，僅提供與用于說明各圖相關(guān)的附圖標記。應當理解，所述的實施方式僅僅是示例，并不是想要限制所記載的范圍。圖1示出了用于使預制件20升溫的加熱裝置30的示意圖。預制件20由輸送部件110輸送，通過鋸齒星形件112調(diào)整所需要的距離，然后預制件20進入爐或加熱裝置30。具體地，由連續(xù)輸送部件114將預制件20輸送通過爐30。預制件20由被配置于連續(xù)環(huán)形輸送鏈122的抓取器或保持器120取走。預制件20首先被輸送通過線性加熱范圍(line) 30a，從而經(jīng)過所謂的加熱單元33 (參見圖幻。頂輻射源均勻地分布在這些加熱單元33中，以圍繞預制件20的整個外殼表面區(qū)域使預制件20完全地升溫。經(jīng)過爐30的端部的反向部30b之后，預制件20在第二線性加熱范圍30c中被反向輸送，在該第二線性加熱范圍30c，預制件20被調(diào)溫到最終溫度。加熱單元33還包括反射器(見圖幻，以使輻射損失最小化。輻射源發(fā)出的未用于使預制件20升溫的輻射被反射器反射回來，由此不會完全損失。在預制件20移動通過爐30期間，優(yōu)選地，預制件20繞其縱向軸線轉(zhuǎn)動，以實現(xiàn)全
周均一的升溫。隨后，加熱后的預制件20被移送到排出星形件116，并被繼續(xù)移動到拉伸吹制裝置。圖2示出了根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的加熱通道和加熱單元。用于加熱預制件20的頂輻射源被配置在所謂的加熱單元33中。在加熱通道31的底部配置有底部反射器42，在加熱通道31的與加熱單元33所在側(cè)相反的一側(cè)配置有對立反射器(counter reflector)41,以最佳地利用輻射能量。背側(cè)反射器43配置在頂輻射源35的后方。提供三個冷卻劑流，以防止預制件20和輻射源35過熱。口部冷卻劑流50防止預制件20的口部22過熱。表面冷卻劑流52冷卻預制件20的外殼表面區(qū)域，輻射源冷卻劑流M專門冷卻輻射源35的插座。根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)，三個冷卻劑流50、52、M分別由獨立的送風機(未示出)產(chǎn)生，因此能夠被獨立調(diào)節(jié)或調(diào)整。因為所需的空間量和成本，所以使用三個獨立的送風機對系統(tǒng)是不利的。圖3和圖4示出了具有預制件表面冷卻系統(tǒng)10和輻射源冷卻系統(tǒng)12的加熱通道 31和加熱單元33的第一實施方式。特別地，圖4示出了已經(jīng)在圖2的技術(shù)背景中描述過的三個冷卻劑流50、5254。從現(xiàn)有技術(shù)已知的表面冷卻系統(tǒng)10用的大空氣體積流52能夠用于提供輻射源冷卻系統(tǒng)12用的空氣流M。根據(jù)圖示的實施方式，一個送風機同時為表面冷卻系統(tǒng)10的供給管道70和輻射源冷卻系統(tǒng)12的供給管道72供給空氣。根據(jù)本發(fā)明，用于冷卻預制件20的表面冷卻劑流(第二冷卻劑流)52能夠被機械能調(diào)的調(diào)整裝置控制。在圖示的實施方式中，通過所謂的空氣引導片75來進行表面冷卻劑流52的調(diào)節(jié)或控制。這些空氣引導片例如被配置在表面冷卻系統(tǒng)10的供給管道70中。空氣引導片75能夠調(diào)整，由此調(diào)節(jié)兩個空氣流52、54的各自量。特別地，根據(jù)表面冷卻系統(tǒng)10的空氣體積流52調(diào)節(jié)空氣引導片或百葉窗片(blind flap)75。由于共用一個已經(jīng)存在的用于表面冷卻劑流52的送風機，所以不必設(shè)置單獨的用于產(chǎn)生輻射源冷卻劑流M的送風機。由此能夠降低成本。此外，能夠用最小空間要求構(gòu)建整個空氣供應系統(tǒng)。表面冷卻劑流52被供給管道70引導，以冷卻預制件20的表面。供給管道72引導輻射源冷卻劑流54，以通過并冷卻輻射源35，特別是冷卻輻射源的插座?？諝饬鱉不是從后方吹到輻射源插座上，而是從加熱裝置30的底部吹出來并且向上流動，從而經(jīng)過輻射源插座的后方。由于表面冷卻系統(tǒng)10的空氣流52和輻射源冷卻系統(tǒng)12的空氣流M不再從相反的方向進入，因此這也是有利的。因此，二者不會彼此干擾并且流動方向的動力能夠被充分利用。另外，三個冷卻劑流50、52和M能夠結(jié)合，然后一起被排出。如果口部冷卻劑流 50的速度大于另外兩個冷卻劑流52、54的速度，則產(chǎn)生對空氣流動具有有利效果的抽吸力 S。輻射源冷卻劑流M還能夠被分(split)成用于冷卻輻射源球管的支流和用于冷卻輻射源插座的支流。圖5示出了用于調(diào)節(jié)體積流的空氣引導片75的不同設(shè)置?？諝庖龑虬偃~窗片75將整個空氣流的體積流52分成兩部分52a、54。第一部分被用作用于冷卻預制件(未示出)的表面的冷卻劑流支流52a。第二部分被用作用于冷卻輻射源(未示出)的冷卻劑流54。優(yōu)選地，頻繁地控制整個空氣流的體積流52的調(diào)節(jié)。因此，兩個冷卻劑流52、54 可以根據(jù)空氣引導片75的調(diào)整和供給到系統(tǒng)的空氣的量而可變地調(diào)整和/或調(diào)節(jié)。圖5的(A)繪出了空氣引導片75完全打開、從而冷卻劑流52的大部分被用作表面冷卻劑流支流52a的情形。僅少量的冷卻劑流52被供給管道(未示出)自動地分出作為輻射源冷卻劑流討。圖5的⑶繪出了空氣引導片75被調(diào)整成一角度、從而整個冷卻劑流52的一部分被分出作為輻射源冷卻劑流討的情形。圖5的(C)繪出了空氣引導片75完全關(guān)閉供給管道或幾乎完全關(guān)閉供給管道、因此整個冷卻劑流52不用作或僅少量冷卻劑流52被用作表面冷卻劑流支流5 的情形。取而代之，所有或大部分的空氣52被分支為輻射源冷卻劑流M。優(yōu)選地，關(guān)閉后的空氣引導片75不完全切斷表面冷卻劑流支流5 用的供給管道 (見圖5的(C))。這也可通過與圖3和圖4的比較而看出。根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，空氣引導片75的調(diào)整被連動地控制和/或調(diào)節(jié)。根據(jù)本發(fā)明的另一實施方式，各個空氣引導片75能夠被獨立地調(diào)整。圖6示出了具有加熱單元33的加熱通道31以及也能夠用作輻射源冷卻系統(tǒng)12 的表面冷卻系統(tǒng)10的第二實施方式。根據(jù)該實施方式，通過沿長度方向排列的與輻射源35相對的冷卻劑流52實現(xiàn)表面冷卻系統(tǒng)10。冷卻劑流52從所謂的冷卻劑縫(開口)80吹入。開口的截面積和/或開口的長度優(yōu)選地能夠調(diào)整。而且，冷卻劑縫80的高度相對于彼此是可調(diào)的。通過這些可能的調(diào)整，空氣流52能夠被調(diào)節(jié)以冷卻預制件20的表面。各冷卻劑縫80的開口能夠獨立調(diào)節(jié)?？蛇x地，多個冷卻劑縫80被集中在所謂的冷卻部中，并且冷卻部中所有的冷卻劑縫80被連動地控制和/或調(diào)節(jié)。圖7示出了表面冷卻系統(tǒng)10的第二實施方式的細節(jié)。為了簡便起見，僅示出了一個冷卻劑縫80和一個輻射源35。因為可調(diào)整和/或可調(diào)節(jié)的冷卻劑縫80被配置成正對輻射源35并且預制件20 在輸送通過加熱通道31期間轉(zhuǎn)動，所以預制件20的具有最高熱輻射的部位被來自冷卻劑縫80的表面冷卻劑流52冷卻。圖6除示出了反射器41 (對立反射器)、42 (底部反射器)和43 (背側(cè)反射器)之外還示出安裝在加熱通道31中的用于防止不期望的熱輸入到預制件20的口部區(qū)域22的冷卻板60 (從現(xiàn)有技術(shù)中已知并且例如在圖3和圖4中示出)。因為預制件20的口部區(qū)域22已經(jīng)包括預制螺紋，因此這是必要。該螺紋不能變形，否則不能再確保其功能。對于某些溫度曲線(temperatur印rofile)來說也需要冷卻板60，特別是當期望溫度曲線出現(xiàn)特別尖銳的邊緣時。特別地，此時，該邊緣以下的輻射應當僅被引入預制件中。位置最高的輻射源35 (未示出)優(yōu)選地被置于冷卻板60的緊下方，從而高強度的輻射撞擊冷卻板60。冷卻板60吸收該輻射的大部分。冷卻板60被口部冷卻劑流50冷卻并且所吸收的熱被排到周圍環(huán)境中。被冷卻板60吸收的能量損失掉了，這對整個設(shè)備的能效產(chǎn)生負面影響。圖8示出了加熱通道31和加熱單元33以及具有優(yōu)化的冷卻板61的輻射源冷卻
9系統(tǒng)，圖9僅示出了優(yōu)化的冷卻板61。優(yōu)化的冷卻板61被特別定制成將大部分的輻射反射回加熱通道31 (見圖8)和/ 或使其不吸收輻射和/或?qū)⑤椛溽尫诺街車h(huán)境中。通過使優(yōu)化的冷卻板61的下側(cè)面62 具有高反射的表面或通過冷卻板61的下側(cè)面62的其它特殊定制來達到該效果。為了提高下側(cè)面62的反射性能，可使下側(cè)面62包括高拋光表面或高反射層。還可以用例如陶瓷等合適的材料制造冷卻板61。由于吸收了較少的輻射且反射了更多的輻射，因此冷卻板的溫升減小。輻射不被冷卻板61吸收，而是被反射回加熱通道31 (見圖8)，因此能夠被用于使預制件20升溫(見圖8)。還可以通過冷卻板61的下側(cè)面62的特殊形狀來實現(xiàn)更好的利用頂輻射。冷卻板61的下側(cè)面62可以特別設(shè)計成使入射的輻射沿預制體20的方向反射(見圖8)。下側(cè)面62的設(shè)計可以是例如斜面、凹曲面或具有相應特性的其它設(shè)計。圖9示出了曲面與斜面的結(jié)合，以允許位置最高的輻射源35能設(shè)置得更高。這有時是必須的，以獲得上面已經(jīng)敘述的溫度曲線的特別尖銳的邊緣。通過所述的兩個變型例，能夠?qū)崿F(xiàn)現(xiàn)有的頂輻射的更好且更貼近目標的反射，從而對設(shè)備的整體效率產(chǎn)生積極的影響。已經(jīng)參照優(yōu)選實施方式說明了本發(fā)明。但是，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以想到在不脫離所附權(quán)利要求書的保護范圍的情況下進行修改和變型。
權(quán)利要求
1.一種加熱裝置(30)，其用于在拉伸吹制裝置或吹塑成形裝置中加工預制件00)之前使所述預制件00)升溫，所述加熱裝置(30)包括加熱通道(31)，所述加熱通道(31)具有用于沿著輸送路線移動所述預制件(20)的輸送部件(34)，在所述加熱通道(31)的至少一側(cè)配置有頂輻射源(35)，所述加熱裝置(30)包括至少一個用于產(chǎn)生使所述預制件00) 的口部區(qū)域02)冷卻的口部冷卻劑流(50)的部件、至少一個用于產(chǎn)生使所述預制件OO) 的表面冷卻的表面冷卻劑流(5 的部件以及至少一個用于產(chǎn)生使所述頂輻射源(35)冷卻的輻射源冷卻劑流(54)的部件，其特征在于，所述加熱裝置(30)包括至少一個用于控制所述表面冷卻劑流(5 的量和/或流動方向的機械能調(diào)的調(diào)整裝置(75、80)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱裝置(30)，其特征在于，所述機械能調(diào)的調(diào)整裝置(75、 80)是能調(diào)節(jié)和/或能控制的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的加熱裝置(30)，其特征在于，通過所述機械能調(diào)的調(diào)整裝置(75、80)能從所述表面冷卻劑流(5 分離出輻射源冷卻劑流(54)。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的加熱裝置(30)，其特征在于，所述機械能調(diào)的調(diào)整裝置(75、80)包括至少一個空氣引導片(75)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的加熱裝置(30)，其特征在于，所述機械能調(diào)的調(diào)整裝置 (75,80)包括所述表面冷卻劑流(5 用的冷卻劑縫(80)，所述冷卻劑縫(80)配置在所述加熱通道(31)的與所述頂輻射源(3 所在側(cè)相反的一側(cè)，從而每一個頂輻射源被配置成與一個冷卻劑縫(80)相對。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的加熱裝置(30)，其特征在于，各冷卻劑縫(80)是獨立能調(diào)的和/或能關(guān)閉的和/或高度能調(diào)的。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的加熱裝置(30)，其特征在于，所述加熱裝置(30) 包括配置在所述輻射源(3 上方、高度與所述預制件00)的口部0 的高度大致相同的位置處的冷卻板(61)，所述冷卻板(61)具有面向所述輻射源(3 的下側(cè)面(62)，所述冷卻板(61)的下側(cè)面(6 具有反射表面和/或所述冷卻板(61)的下側(cè)面(6 的輪廓將所述輻射源(3 的熱輻射(38)反射到所述加熱通道(31)中。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的加熱裝置(30)，其特征在于，所述冷卻板(61)的下側(cè)面(62) 的輪廓具有凹曲面和/或斜面。
9.一種用于冷卻位于加熱裝置(30)中的預制件00)的表面和/或頂輻射源(35)的方法，所述加熱裝置(30)用于在拉伸吹制裝置或吹塑成形裝置加工所述預制件00)之前使所述預制件00)升溫，所述加熱裝置(30)包括加熱通道(31)，所述加熱通道(31)具有用于沿著輸送路線移動所述預制件00)的輸送部件(34)，在所述加熱通道(31)的至少一側(cè)配置有頂輻射源(35)，所述加熱裝置(30)包括至少一個用于產(chǎn)生使所述預制件00)的口部區(qū)域02)冷卻的口部冷卻劑流(50)的部件、至少一個用于產(chǎn)生使所述預制件00)的表面冷卻的表面冷卻劑流(5 的部件以及至少一個用于產(chǎn)生使所述頂輻射源(3 冷卻的輻射源冷卻劑流(54)的部件，其特征在于，通過至少一個機械能調(diào)的調(diào)整裝置(75、80) 來調(diào)節(jié)和/或控制所述表面冷卻劑流(5 的量和/或流動方向。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述表面冷卻劑流(5 被分流成表面冷卻劑流支流(52a)和輻射源冷卻劑流(54)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，經(jīng)由至少一個空氣引導片(75)進行所述表面冷卻劑流(5 的分流。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述表面冷卻劑流(5 經(jīng)由冷卻劑縫 (80)流入，所述冷卻劑縫(80)配置在所述加熱通道(31)的與所述頂輻射源(3 所在側(cè)相反的一側(cè)，從而每一個頂輻射源被配置成與一個冷卻劑縫(80)相對。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，能夠調(diào)整所述冷卻劑縫(80)的截面積和/或長度和/或所述冷卻劑縫(80)之間的距離。
14.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的方法，其特征在于，各冷卻劑縫(80)能夠獨立地調(diào)整和/或關(guān)閉。
15.根據(jù)權(quán)利要求9或14所述的方法，其特征在于，所述頂輻射源的向上指向的熱輻射(38)被高反射性的冷卻板(61)反射到所述加熱通道(31)中。
全文摘要
具有表面冷卻劑流的用于預制件的加熱裝置。本發(fā)明涉及一種加熱裝置，其用于在拉伸吹制裝置或吹塑成形裝置加工預制件之前使預制件升溫。本發(fā)明還涉及一種用于冷卻預制件的表面和/或輻射源的方法。該加熱裝置包括至少一個用于產(chǎn)生使預制件的口部區(qū)域冷卻的口部冷卻劑流的部件、至少一個用于產(chǎn)生使預制件的表面冷卻的表面冷卻劑流的部件以及至少一個用于產(chǎn)生使IR輻射源冷卻的輻射源冷卻劑流的部件。根據(jù)本發(fā)明，該加熱裝置包括至少一個用于控制表面冷卻劑流的量和/或流動方向的機械能調(diào)的調(diào)整裝置。優(yōu)選地，該機械能調(diào)的調(diào)整裝置是可根據(jù)空氣流的體積來調(diào)節(jié)和/或控制的。
文檔編號B29C49/64GK102233667SQ20111010362
公開日2011年11月9日 申請日期2011年4月22日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月23日
發(fā)明者C·霍爾澤, W·舍恩伯格, 克勞斯·翁思 申請人:克羅內(nèi)斯股份公司