專利名稱:制作保密性薄膜的方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及保密性薄膜。具體地講,本發(fā)明涉及基于聚合物的保 密性薄膜,其具有多個光引導(dǎo)元件,每個元件都以與下一個鄰近光引 導(dǎo)元件基本上平行的方式設(shè)置,所述薄膜非常適合用于證件。
背景技術(shù):
能夠?yàn)橄M(fèi)者提供保密性的產(chǎn)品已經(jīng)很多。例如,多數(shù)個人計(jì)算 機(jī)或自動出納機(jī)包括保密性屏幕現(xiàn)在已非常普遍,這使得使用者可以 查看監(jiān)視器上的圖像,同時(shí)限制旁觀者(或至少那些不在屏幕視角內(nèi) 的人)査看。對于證件包含敏感材料的使用者, 一些產(chǎn)品已經(jīng)使用光 控制薄膜來提供保密性。該方法是類似的,其中使用者可以查看證件 上的圖像,但限制旁觀者査看證件的內(nèi)容。
本領(lǐng)域公開了各種同樣為使用者提供保密性的用途的光控制薄 膜。然而,由于證件保密性正越來越成為消費(fèi)者的需求,本領(lǐng)域的技 術(shù)人員正尋求不同的解決方案來提供此期望的特征。因此,對新的保 密性薄膜構(gòu)造有著持續(xù)的需求。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供的保密性薄膜可用于證件,以限制觀察者可以閱讀證 件上信息的角度。具體地講,在將保密性薄膜以使用方向放置,以使 得視角與使用者的視線重合時(shí),該使用者將可以看到證件的內(nèi)容,而 其他使用者將僅擁有該證件內(nèi)容的一個有限視圖。
在一個方面,本發(fā)明涉及保密性薄膜,其包括透光性的聚合物基 片,所述基片包括(i)第一聚合材料,該基片具有相對的第一和第二表面;以及(ii)包括第二聚合材料的多個光導(dǎo)向元件,其中每個元件 都有基座、高度h、和沿高度方向設(shè)置的短軸線,其中所述元件從基 片的第一表面伸出,并且其中每個元件都設(shè)置為使得一個元件的短軸 線基本上平行于下一個鄰近元件的短軸線,并且一個元件的基座不與 下一個鄰近元件的基座相連接。在另一方面,該保密性薄膜包括細(xì)長 的光導(dǎo)向元件。
在另一方面,本發(fā)明涉及制作保密性薄膜的方法,其包括以下步 驟(i)提供聚合材料;(ii)將聚合材料沉積到包括多個基本上平行的 細(xì)長通道的微結(jié)構(gòu)化模具上,其中每個通道都是傾斜的,并且用底面 區(qū)域與下一個通道分開,其中每個通道都有鄰近底面區(qū)域鄰近設(shè)置的
基座和遠(yuǎn)離底面區(qū)域設(shè)置的頂端,其中每個通道都有從基座延伸至頂 端的短軸線;(iii)引導(dǎo)聚合材料流入微結(jié)構(gòu)化模具的通道中;(iv)在 通道中固化聚合材料以產(chǎn)生多個光導(dǎo)向元件,這些光導(dǎo)向元件通過聚 合基片彼此相連,基片具有第一表面(光導(dǎo)向元件從該表面伸出)和 相對的、基本上平的第二表面;以及(iv)從微結(jié)構(gòu)化模具分離保密性 薄膜。
如本文所用,術(shù)語"透光性"是指透射可見光的能力。在一個實(shí) 施例中,所述透光性基片具有90或更低的不透明度,該數(shù)據(jù)使用Lab Scan 6000測試儀釆用HuterLab Master Color Data Program (可從 Hunter Associates Laboratory, Inc., Reston, VA商購獲得)測量。結(jié) 合光導(dǎo)向元件,術(shù)語"細(xì)長的"通常表示該元件有類似導(dǎo)軌的外觀。 該導(dǎo)軌在沿保密性薄膜的整個長度方向上可以是連續(xù)的,或者是不連 續(xù)的。在一個實(shí)施例中,不連續(xù)的光導(dǎo)向元件是具有桿狀(例如,類 似蘑菇的桿)外表的分立主體。
本發(fā)明的一個優(yōu)點(diǎn)是它提供了保密性特征和靈活的構(gòu)造,也就是 說制造相對容易。該保密性薄膜可以非永久性方式快速粘附在證件上。 此外,該保密性薄膜很耐用,這使它可以重復(fù)使用。在本文檔中,應(yīng)認(rèn)為所有的數(shù)值均用術(shù)語"大約"修飾。
結(jié)合以下附圖可以更好地理解本發(fā)明,其中
圖1是保密性薄膜一個示例性實(shí)施例的透視圖2是圖1中保密性薄膜沿線2-2截取的剖視圖3是保密性薄膜另一個示例性實(shí)施例的剖視圖,其示出了有多
個段的光導(dǎo)向元件;
圖4是保密性薄膜另一個示例性實(shí)施例的剖視圖,其示出了覆蓋
有吸光涂層的光導(dǎo)向元件的頂端部分;
圖5是保密性薄膜另一個示例性實(shí)施例的剖視圖,其示出了不同
傾斜角的光導(dǎo)向元件
圖6是保密性薄膜另一個示例性實(shí)施例的剖視圖,其示出了以平
行于基座層方向延伸的光導(dǎo)向元件的頂端部分;
圖7是保密性薄膜另一個示例性實(shí)施例的透視圖,其示出了細(xì)長
的光導(dǎo)向元件的組合;以及
圖8a到8c是示例性工藝的示意圖,該工藝可用于制造保密性薄膜。
這些圖不是按比例繪制的,并且僅用于示例性目的。
具體實(shí)施例方式
圖1是本發(fā)明一個示例性實(shí)施例的透視圖,其示出了具有細(xì)長光 導(dǎo)向元件18的保密性薄膜10,該光導(dǎo)向元件設(shè)置在可能包含敏感信 息的基板50上。在一個實(shí)施例中,所述保密性薄膜可以使用透光性 粘結(jié)劑(未示出)粘附。所述元件有長軸L和短軸線1。 一個示例性 基板是承載機(jī)密信息的證件,所述證件的所有者需要受限制的查看權(quán) 限。在應(yīng)用中,本發(fā)明的保密性薄膜設(shè)置在證件上,以使得長軸L基 本上平行于證件上的圖像或文本行。例如,在81/2乘11英寸的豎向
紙張(其文本基本上平行于紙張的英寸側(cè))上,保密性薄膜的取
向?qū)⑹沟瞄L軸也沿著相同的方向。保密性薄膜可以臨時(shí)設(shè)置在證件上 (這就意味著薄膜可以從基板上移除,而不會損壞基板),或永久性 地設(shè)置在證件上(這就意味著移除保密性薄膜,很可能會導(dǎo)致證件的 損壞)。有多種方法將保密性薄膜粘附或設(shè)置在證件上。例如,可以 使用粘結(jié)劑。粘結(jié)劑可以是壓敏或熱熔融的。粘結(jié)劑可以是可重復(fù)定 位的粘結(jié)劑,這就意味著它可以在基板上應(yīng)用或移除多次,不會損壞 基板,并且不會使可重復(fù)定位粘結(jié)劑的附著力顯著降低。在另一個應(yīng) 用中,保密性薄膜形成一個口袋,其中保密性薄膜形成前面,聚合物 背襯或保密性薄膜形成背面,并且保密性薄膜和背面在三個面上連接 在一起,讓第四面(通常為頂面)敞開著,以便插入和移除證件。可 以使用其它構(gòu)造。
光導(dǎo)向元件影響光的透射,從而提供本發(fā)明薄膜的保密性特征。 光學(xué)活性物質(zhì),諸如光反射和/或吸光物質(zhì),也可以使用。下面詳細(xì)討 論光導(dǎo)向元件的幾何形狀、間距、和光學(xué)活性物質(zhì)。
在一個示例性實(shí)施例中,保密性薄膜上光導(dǎo)向元件的高度基本上 相同。由于生產(chǎn)條件的不同,元件的高度可能會有些不同。在另一個 示例性實(shí)施例中,保密性薄膜一個區(qū)域與另一個區(qū)域的元件高度不同, 并且甚至一個元件與下一個鄰近元件的高度也不同。高度的變化通常
意味著一個元件的高度將是另一個元件高度的75%到95%。圖3大 致示出了具有不同高度的光反射元件的實(shí)施例。
圖2示出了圖1中保密性薄膜沿線2-2截取的剖視圖。所述保 密性薄膜包括基片12,其具有相對的第一表面14和第二表面16, 以及分界線13。光導(dǎo)向元件18從基片的第一表面伸出。盡管圖2示 出的分界線13與第一表面14是共線的,但該分界線可以在不同的位置。每個光導(dǎo)向元件都有高度h、寬度W、以及一個元件與下一個 鄰近元件的中心至中心間距P。沿短軸線1從基片的第一表面14到 頂端20測量高度h。垂直于短軸方向測量寬度W。
在一個示例性實(shí)施例中,h與P的比(h:P)大于0.5。在另一個 實(shí)施例中,h:P比小于5。在一個實(shí)施例中,光導(dǎo)向元件的寬度(在接 近基片第一表面處測量)大于25微米。在另一個實(shí)施例中,寬度小 于750微米。在圖2的實(shí)施例中,光導(dǎo)向元件以傾斜角e設(shè)置在 基片上。該傾斜角是第一表面14與每個光導(dǎo)向元件的短軸線之間的 角度。在一個實(shí)施例中,傾斜角大于15° 。在另一個實(shí)施例中,傾斜 角小于90° 。在又一個實(shí)施例中,傾斜角的范圍從40°到85°之 間。在又一個實(shí)施例中,傾斜角的范圍從55°到75°之間。如果 需要,在基片的第二表面上提供粘結(jié)劑22,用于粘附到基板上。盡管 本具體實(shí)施例的光導(dǎo)向元件在其橫截面尺寸上基本一致,但元件到頂 端20可能會有輕微的偏移(即,輕微的變窄)。而且,如圖2中所 示,兩個鄰近的光導(dǎo)向元件的位置使得一個元件的頂端(沿垂直于基 片第一表面的假想線(如虛線N所示)截取)位于下一個元件的基座 (如參考字母b所示)旁邊??梢允褂闷渌恢脴?gòu)造,只要光導(dǎo)向元 件可以提供保密性特征,并且前提條件是h:P比落在確定的范圍內(nèi)。 在本具體實(shí)施例中,光導(dǎo)向元件包括吸光材料或反光材料。
適合的反光材料包括,例如,二氧化鈦、氧化鋅、硫化鋅、磷酸 鋅、碳酸鈣、氧化鋁、二氧化硅、氧化銻、硫酸鋇、鋅鋇白(硫酸鋇 和氧化鋅的共同沉淀物)、煅燒高嶺土、碳酸鉛、氧化鎂及其組合。 適合的吸光材料包括,例如,炭黑、黑尖晶石、黑金紅石、黑鐵及其 組合。使用反光材料時(shí),將1到50份重量(基于總體重量100份) 加入聚合物樹脂以形成光導(dǎo)向元件。在一些實(shí)施例中,使用1到15 份重量。在其它實(shí)施例中,使用2到10份重量。使用吸光材料時(shí), 將0.1到50份重量(基于總體重量100份)加入聚合物樹脂以形成 光導(dǎo)向元件。在一些實(shí)施例中,使用1到15份重量的吸光材料。在其它實(shí)施例中,使用1到5份重量。反光材料和吸光材料的組合可 用于形成單個光導(dǎo)向元件,如下面進(jìn)一步論述。在其它實(shí)施例中,可在光導(dǎo)向元件中添加著色顏料、熒光顏料和閃光劑。圖3示出了本發(fā)明另一個實(shí)施例的剖視圖,其中保密性薄膜100包括具有相對的第一表面114和第二表面116的基片112。光導(dǎo)向 元件118從基片的第一表面伸出。分隔線113稍稍位于光導(dǎo)向元件 內(nèi)。在本具體實(shí)施例中,光導(dǎo)向元件包括遠(yuǎn)離基片第一表面設(shè)置的第 一部分119、接近第一表面設(shè)置的第二部分117、以及從第一表面到 線113的第三部分。在一些實(shí)施例中,基片的組成和第三部分類似, 并且可能甚至是相同的。線115將第一部分和第二部分分開。第--部 分包括吸光材料,第二部分包括反光材料。第一部分的高度表示為1 119 ,并且是沿元件的短軸方向,在線115和頂端之間的距離。第二 部分的高度表示為1117 ,并且是沿元件的短軸方向,在線113和115 之間的距離。在一個實(shí)施例中,1119與1117的比為3比0.1。兩個鄰 近的光導(dǎo)向元件的位置使得一個元件的頂端(沿假想線N截取)與下 一個鄰近元件的底部重疊。盡管圖2中的光導(dǎo)向元件包括的頂端具有 基本上直的邊緣,但是如圖3中所示,頂端可以是圓形的??梢允褂?其它幾何形狀,只要光導(dǎo)向元件可以影響光的透射以提供保密性特征。圖4示出了本發(fā)明另一個實(shí)施例的剖視圖,其中保密性薄膜200 包括具有相對的第一表面214、第二表面216、和分界線213的基片 212。光導(dǎo)向元件218從第一表面伸出。在光導(dǎo)向元件的頂端,采用 了吸光涂層219。該涂層可以向下移動到光導(dǎo)向元件的側(cè)面。在本具 體實(shí)施例中,光導(dǎo)向元件可以包括反光材料。該涂層可以使用已知的 涂層技術(shù)涂敷到元件上。在一個實(shí)施例中,該涂層的干燥厚度為0.01 到l.Omm。在一個實(shí)施例中,使用數(shù)字印刷方法(諸如噴墨印刷、彩 色噴墨印刷、激光印刷、和染料或傳質(zhì)印刷)或通過傳統(tǒng)的印刷技術(shù) (諸如偏移平版印刷、苯胺印刷、和凹版印刷)將吸光涂層涂敷到頂 端上。元件的頂端可接受印刷工藝中使用的墨水或染料。圖5示出了本發(fā)明另一個實(shí)施例的剖視圖,其中保密性薄膜300 包括具有相對的第一表面314和第二表面316的基片312。光導(dǎo)向 元件318從基片的第一表面伸出。為了便于理解,僅示出了 5個光 導(dǎo)向元件的橫截面。在本具體實(shí)施例中,每個光導(dǎo)向元件的傾斜角都 不同于下一個鄰近的元件。例如,傾斜角e,將與傾斜角e2相似。例如,e,可以為90° , e,可以為88° 。因此,這兩個光導(dǎo)向元件將彼此基本上平行。然而,第五個光導(dǎo)向元件的傾斜角(05)可能與第一個光導(dǎo)向元件的傾斜角有很大不同。在本圖中,如果e,為90 ° , e5可能為60° ,因此將不認(rèn)為第一個光導(dǎo)向元件與第五個光導(dǎo) 向元件平行。在本圖中,傾斜角各種變化的量級都被夸大了,以示出 各種變化的傾斜角。圖6示出了本發(fā)明又一個實(shí)施例的剖視圖,其中保密性薄膜400 包括具有相對的第一表面414、第二表面416、和分界線413的基片 412。光導(dǎo)向元件418從第一表面伸出。每個光導(dǎo)向元件都有遠(yuǎn)離基 片第一表面的第一部分419和接近第一表面的第二部分417。線415 將第一部分和第二部分分開。線413將第二部分和第三部分分開。第 一部分有偏向一側(cè)的伸出部分,類似于倒"L"形。該伸出部分可以都 位于相同側(cè),例如,都向左或都向右(如圖中所示),或者它們可以 交替向左和向右。該伸出部分也可以無規(guī)取向的方式向左或向右,或 者在左側(cè)或右側(cè)之間有任意角度。換句話講,如果要截取圖6的實(shí)施 例的俯視圖,以使得所有能看到的是第一部分419,可沿360°路徑 以任意不同角度旋轉(zhuǎn)。在一個實(shí)施例中,第一和第二部分至少有一部 分包括反光材料。在另一個實(shí)施例中,第一部分包括吸光材料,第二 部分包括反光材料。在又另一個實(shí)施例中,不同光導(dǎo)向元件(如圖2、 3和6中所示的元件)的組合一同使用以形成保密性薄膜。圖1將光導(dǎo)向元件表示為細(xì)長的導(dǎo)軌,其沿證件的長度方向連續(xù) 延伸。在其它實(shí)施例中,元件可以包括間斷,或者是指定的長度以生11無規(guī)的長度以生成不一致的間斷。在所有不同 的元件中,可以有在整個基板長度上連續(xù)的光導(dǎo)向元件。例如,圖7示出了設(shè)置在基板550上的示例性保密性薄膜500。該保密性薄膜包括 光導(dǎo)向元件518,其在左手側(cè)有一致的間斷,并且在右手側(cè)有不一致 的間斷。散布在其中的是在薄膜整個長度上連續(xù)的光導(dǎo)向元件。盡管所有實(shí)施例中的基片都是透光性的,但它可以包括反光材料。 在基片中使用的反光材料的數(shù)量可以(但不是必須)類似于光導(dǎo)向元 件中使用的數(shù)量。使用類似量的優(yōu)點(diǎn)是,制作保密性薄膜的方法(如 下面詳細(xì)描述的)可以簡化為使用單螺桿擠出機(jī)代替多螺桿擠出機(jī)。 在基本上使用相同數(shù)量的情況下,應(yīng)注意選擇足夠的量,以賦予薄膜 保密性特征,而不會對下面證件的可讀性產(chǎn)生不利影響。適合用于形成保密性薄膜的材料包括熱塑性聚合物和彈性體。適 合的熱塑性聚合物包括,例如,聚烯烴(如聚丙烯或聚乙烯、聚苯乙 烯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、乙烯-醋酸乙烯共聚物、丙烯酸酯-改性乙烯-醋酸乙烯酯聚合物、乙烯丙烯酸共聚物、尼龍、聚氯乙烯) 和工程聚合物(如聚酮或聚甲基戊烷)。適合的彈性體包括,例如, 天然或合成橡膠、包含異戊二烯的苯乙烯嵌段共聚物、丁二烯或乙烯(丁烯)嵌段、茂金屬催化的聚烯烴、聚氨酯、和聚二有機(jī)硅氧垸。 也可以使用熱塑性聚合物和彈性體的混合物??梢杂貌煌姆绞街谱鞅景l(fā)明的光導(dǎo)向元件。在第一個示例性方 法中,將聚合物巻材擠壓通過具有開口切割(例如,通過電子放電加 工)的模具,可以形成本發(fā)明的保密性薄膜。該巻材將包括基片及設(shè)置于其上的光導(dǎo)向元件??梢栽O(shè)計(jì)模具開口的形狀,以生成具有期望橫截面形狀或輪廓的 巻材。巻材離開模具開口后,可通過將它拉動通過驟冷材料(諸如水) 進(jìn)行淬火??梢栽隗E冷介質(zhì)中添加潤濕劑,以潤濕擠出巻材的整個表12面,包括光導(dǎo)向元件之間的間隙??梢赃M(jìn)一步處理擠出的巻材,例如, 通過在元件的頂端(如圖4中所示)涂敷吸光涂層,或通過切割擠出 的元件并拉伸巻材,以形成不連續(xù)的光導(dǎo)向元件。當(dāng)本發(fā)明的保密性薄膜包含多個不同層時(shí)(例如,當(dāng)基片和光導(dǎo) 向元件為不同的材料時(shí),或例如,當(dāng)光導(dǎo)向元件包含多個部分(參閱,例如,圖3和6)時(shí)),可通過復(fù)合擠壓成型技術(shù)(例如,如PCT專 利申請WO 99/17630中所描述)形成薄膜。復(fù)合擠壓成型技術(shù)可以涉 及將來自不同擠出機(jī)的不同熔融流通入多歧管模具或多層進(jìn)料塊和薄 膜模具。各個流注在進(jìn)料區(qū)融合在一起,并作為分層層疊件進(jìn)入模具,分層層疊件在材料離開模具時(shí)流出到分層的薄板中。圖8a、 8b和8c中示意性地示出了制作保密性薄膜的第二種示 例性方法。在圖8a所描述的方法中,提供了聚合材料801和微結(jié)構(gòu) 化模具800。微結(jié)構(gòu)化模具包括多個細(xì)長的、傾斜的通道808,每個 通道與下一個通道都被底面區(qū)域806分開。每個通道都有設(shè)置在鄰近 底面區(qū)域的基座808a(在剖視圖中表示在一個通道上,以便于理解), 以及遠(yuǎn)離底面區(qū)域設(shè)置的頂端808b。在本實(shí)施例中,通道可以具有基 本上線性的壁,其頂端具有明顯的鋒利邊緣。每個通道都包括從基座 延伸至頂端的短軸線1。每個通道都以大于15°并且小于90°的角 度傾斜。在另一個實(shí)施例中,每個通道都以大于40°并且小于85° 的角度傾斜。在又一個實(shí)施例中,每個通道都以大于55°并且小于 75°的角度傾斜。該角度由通道短軸線與位于底面區(qū)域平面上的線相 交形成。類似于圖2中討論的光導(dǎo)向元件,模具中的每個通道都有高 度h (沿短軸方向測量其基座到其頂端的距離)。兩個鄰近的通道有 中心至中心間距P。在一個實(shí)施例中,模具具有0.5至5的h與P 的比。兩個相鄰?fù)ǖ赖脑O(shè)置使得(當(dāng)從垂直于底面區(qū)域的假想線觀察時(shí)) 一個通道的頂端與下一個通道的基座重合。此特征類似于圖2中所示。在可供選擇的實(shí)施例中,兩個通道的設(shè)置使得(當(dāng)從假想線觀察 時(shí)) 一個通道的頂端重疊下一個通道的基座。聚合材料沉淀在微結(jié)構(gòu)化模具上。圖8a也示意性地示出了 (通過使用活塞804)聚合材料 是通過使用熱和或壓力引入微結(jié)構(gòu)化模具的通道中的。圖8b示出了該工藝中的后續(xù)步驟,其中聚合材料已經(jīng)流入并填 滿了通道,因此復(fù)制了通道的形狀。復(fù)制的聚合材料固化在模具中。 術(shù)語"固化"通常表示聚合材料充分冷卻并變硬,以允許其從模具分 開。在一種工藝中,聚合材料包括反光材料,諸如上面列出的反光材 料。使用時(shí),反光材料的組成小于聚合材料總重量的20%,并且在一 些實(shí)施例中,小于5%。圖8c示出了該工藝的又一個步驟,其中復(fù)制的聚合材料己經(jīng)從 模具上分開,以產(chǎn)生具有多個明顯光導(dǎo)向元件818 (彼此通過聚合物 基片812相連)的保密性薄膜810,聚合物基片有第一表面812a(光 導(dǎo)向元件從此處伸出)以及相對的、基本上平的第二表面812b。分離 步驟使得保密性薄膜的光導(dǎo)向元件上基本上沒有變形。也就是說,從 模具分離復(fù)制的聚合材料時(shí),所得的保密性薄膜的每個光導(dǎo)向元件幾 乎都是其對應(yīng)通道的原樣復(fù)制品,這使得(與對應(yīng)通道的尺寸相比) 光導(dǎo)向元件的尺寸有小于20%,并且優(yōu)選地小于10%的變化。圖8c 進(jìn)一步示出了透光性粘結(jié)劑819,其設(shè)置在聚合物基片的第二個基本 上平的表面上。聚合材料可以為熱塑性材料形式,諸如熱塑性薄膜、熔化的樹脂、 或液體樹脂。采用熱塑性薄膜形式時(shí),可使用熱和壓力的組合引導(dǎo)聚 合材料,使其流入通道。此類方法通常描述為壓縮模塑法,并且在專 利公開,諸如美國專利No.4, 244, 683 (Rowland)和No.4' 601, 861 (Pricone et al.)中有所討論。在熔化的樹脂狀態(tài)中,熔融樹脂的熱量(以 及加熱模具)是引導(dǎo)其流入通道的有用步驟。美國專利No.4, 097, 634 (Bergh)公開了示例性的模壓鑄造和壓花方法。在液體樹脂狀態(tài)中,熱和壓力可用于引導(dǎo)聚合材料流入通道??捎玫囊后w樹脂是光可固化 樹脂,諸如紫外光可固化樹脂。在此類情況下,固化步驟涉及將光可固化樹脂暴露在光源下。美國專利No.3, 869, 346 (Rowland)、 No.4, 576, 850 (Martens)和No.5, 183, 597 (Lu et al.)公幵了示例性的液 體澆鑄和光固化方法。這些專利全文以引用方式并入。聚合材料可以包括至少兩層,即,它可以是多層構(gòu)造。在一個實(shí) 施例中,聚合材料包括第一層(其基本上不含吸光材料和反光材料) 和第二層(其包括吸光材料、反光材料),或其組合。在此類情況下, 微結(jié)構(gòu)化模具的通道與包含吸光和/或反光材料的層接觸。實(shí)例 實(shí)例1保密性薄膜,通常根據(jù)圖8a到8c按如下方法制作。加工銅板, 在其上做上通道,以此制作出微結(jié)構(gòu)化工具。每個通道都有19.3密耳(0.5mm)的高度尺寸(沿其短軸方向測量),并且以63.1度的角度 傾斜。每個通道的頂端都有3.8密耳的尺寸。每個通道的基座都有6.9 密耳(0.18mm)的尺寸(沿位于與底面區(qū)域處于相同平面內(nèi)的直線方 向測量)。沿與頂端平行的線,靠近基座測量,基座有5.5密耳(0.14mm)的尺寸。通道的一個邊緣到下一個鄰近角度的最近邊緣之 間的底面區(qū)域距離為4.9密耳(0.12mm)。包含2重量% Ti02顏料的聚丙烯薄膜用作熱塑性聚合物薄 膜。該聚丙烯薄膜為5密耳(0.13mm)厚。使用設(shè)定在170'C的熱壓 機(jī),在壓力為160磅每平方英寸(psi)的情況下,引導(dǎo)該薄膜流入通 道30秒。在相同壓力下,壓縮模制薄膜冷卻到IO(TC,此后,將其 與模具分開,以產(chǎn)生具有多個通過底部基板彼此相連的光導(dǎo)向元件的 保密性薄膜。少量黑墨水被施加到光導(dǎo)向元件的頂部。
權(quán)利要求
1.一種制作保密性薄膜的方法,其包括以下步驟提供聚合材料;將所述聚合材料沉積到包含多個基本上平行的細(xì)長通道的微結(jié)構(gòu)化模具上,其中每個通道都是傾斜的,并且通過底面區(qū)域與下一個通道分開,其中每個通道都有鄰近所述底面區(qū)域設(shè)置的基座和遠(yuǎn)離所述底面區(qū)域設(shè)置的頂端,其中每個通道都有從所述基座到所述頂端延伸的短軸線;引導(dǎo)所述聚合材料流入所述微結(jié)構(gòu)化模具的通道中;在所述通道中固化所述聚合材料,以產(chǎn)生通過聚合物基片彼此相連的多個光導(dǎo)向元件,所述聚合物基片有第一表面和相對的、基本上平的第二表面,所述光導(dǎo)向元件從所述第一表面伸出;以及將所述保密性薄膜從所述微結(jié)構(gòu)化模具分開。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述微結(jié)構(gòu)化模具的通道 在其頂端處是錐形的。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述聚合材料為熱塑性聚 合物。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其中所述熱塑性聚合物選自由 下列物質(zhì)組成的組聚丙烯、聚乙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚甲基 丙烯酸甲酯、乙烯-醋酸乙烯共聚物、丙烯酸鹽改性的乙烯-醋酸乙烯酯 聚合物、乙烯丙烯酸共聚物、尼龍、聚氯乙烯、以及它們的組合。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述聚合材料包含反光材料。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其中所述反光材料選自由下列物質(zhì)組成的組二氧化鈦、氧化鋅、硫化鋅、磷酸鋅、碳酸鈣、氧化 鋁、二氧化硅、氧化銻、硫酸鋇、鋅鋇白、煅燒高嶺土、碳酸鉛、氧 化鎂、以及它們的組合。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其中保密性薄膜基于所述薄膜 的總重量包含小于20重量%的所述反光材料。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中每個通道都有高度h,該h 為沿所述通道短軸方向從其底座到其頂端的距離,兩個相鄰的通道具有中心至中心的間距P,并且其中h與P的比是從約0.5至5。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中兩個相鄰?fù)ǖ赖脑O(shè)置使得, 當(dāng)從垂直于所述底面區(qū)域的假想線觀察時(shí), 一個通道的頂端與所述相 鄰?fù)ǖ赖幕丿B。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述聚合材料為熔融樹脂。
11. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法,其中所述引導(dǎo)步驟包括加熱 所述微結(jié)構(gòu)化模具。
12. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述聚合材料為液體樹脂 或熱塑性薄膜。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法,其中所述引導(dǎo)步驟包括將熱 和壓力施加到所述液體樹脂。
14. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述分離步驟導(dǎo)致所述保 密性薄膜的所述光導(dǎo)向元件上基本上沒有變形。
15. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其進(jìn)一步包括將透光性粘結(jié)劑 層壓在所述聚合物基片的第二表面上。
16. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述透光性粘結(jié)劑為可重 復(fù)定位的壓敏粘結(jié)劑。
17. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述微結(jié)構(gòu)化模具的通道以大于約15°并且小于約卯°的角度傾斜,所述角度在所述通道的短軸線與位于所述底面區(qū)域平面上的線的交叉處之間形成。
18. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中兩個相鄰?fù)ǖ赖脑O(shè)置使 得,當(dāng)從垂直于底面區(qū)域的假想線觀察時(shí), 一個通道的頂端與所述相 鄰?fù)ǖ赖幕睾稀?br>
19. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其進(jìn)一步包括將吸光涂層施加 到所述光導(dǎo)向元件的頂部。
20. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述聚合材料包含吸光材料。
21. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述聚合材料包含吸光和 反光材料。
22. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述聚合材料包含至少兩 個層,其中第一層基本上不含吸光和反光材料,并且其中第二層包含吸光材料、反光材料、或其組合。
全文摘要
一種制作保密性薄膜的方法,其通常包括以下步驟提供聚合材料,將所述聚合材料沉積到微結(jié)構(gòu)化模具(其包含多個基本上平行的、具有特定幾何形狀的細(xì)長通道)上;引導(dǎo)所述聚合材料流入所述微結(jié)構(gòu)化模具的通道中;在所述通道中固化所述聚合材料,以產(chǎn)生通過聚合物基片彼此相連的多個光導(dǎo)向元件;以及將所述保密性薄膜從所述微結(jié)構(gòu)化模具分開。
文檔編號B29C43/02GK101326042SQ200680046631
公開日2008年12月17日 申請日期2006年10月13日 優(yōu)先權(quán)日2005年10月14日
發(fā)明者保羅·D·格雷厄姆, 格雷厄姆·M·克萊克 申請人:3M創(chuàng)新有限公司