專利名稱：減少貼合區(qū)與模具圖案之間的粘合的方法
背景技術(shù)：
本發(fā)明一般涉及結(jié)構(gòu)的細(xì)微制造。本發(fā)明尤其涉及在基片做圖案以促進(jìn)結(jié)構(gòu)的形成。
細(xì)微制造涉及制造非常小的結(jié)構(gòu)，例如，具有微米級(jí)或更小的形貌構(gòu)造(features)的結(jié)構(gòu)。細(xì)微制造具有相當(dāng)大影響的一個(gè)領(lǐng)域是在集成電路的加工中。半導(dǎo)體加工工業(yè)一直以來(lái)都在不斷努力期望獲得更大的生產(chǎn)率，而同時(shí)又增加在基片上每單位面積的電路，所以細(xì)微制造的重要性不斷增加。細(xì)微制造規(guī)定更強(qiáng)的過(guò)程控制，而同時(shí)又可使所形成的結(jié)構(gòu)的最小形貌構(gòu)造的尺寸降低。已應(yīng)用細(xì)微制造而發(fā)展的其它領(lǐng)域包括生物技術(shù)、光學(xué)技術(shù)、機(jī)械體系等。
示范性的細(xì)微制造技術(shù)描述在美國(guó)專利第6334960號(hào)中，發(fā)明人為Willson等。Willson等揭示了一種在結(jié)構(gòu)中形成浮雕圖像(relief image)的方法。此方法包括形成帶有轉(zhuǎn)移層的基片。轉(zhuǎn)移層被可聚合流體組合物覆蓋。模具與可聚合流體接觸。模具具有浮雕結(jié)構(gòu)，可聚合流體組合物填充在浮雕結(jié)構(gòu)中。然后將可聚合流體組合物置于使其固化和聚合的條件之下，在轉(zhuǎn)移層上形成固化的聚合物材料，該聚合材料中含有與模具的浮雕結(jié)構(gòu)互補(bǔ)的浮雕結(jié)構(gòu)。然后將模具與固體聚合材料分離，這樣模具中的浮雕結(jié)構(gòu)的復(fù)制品就在固化的聚合材料中形成。轉(zhuǎn)移層和固化的聚合材料置于一定環(huán)境中，用以有選擇地相對(duì)于固化的聚合材料來(lái)刻蝕轉(zhuǎn)移層，從而在轉(zhuǎn)移層中形成浮雕圖像。
在聚合材料中精確地形成圖案的一個(gè)重要的特征在于減少聚合材料和/或轉(zhuǎn)移層在模具上的粘合，如果不能避免的話。這被稱為釋放特性。如此，記錄在聚合材料和/或轉(zhuǎn)移層中的圖案在與模具分離的過(guò)程中不會(huì)變形。為了改善釋放特性，Willson等在模具表面上形成一釋放層。釋放層通常是疏水性的和/或表面能較低的。釋放層粘附模具，并粘附轉(zhuǎn)移層或者聚合材料。提供改善釋放特性的轉(zhuǎn)移層能最大程度地減少記錄在聚合材料和/或轉(zhuǎn)移層中的由于模具分離所引起的圖案變形。為了本發(fā)明討論的目的，此類釋放層稱為事前釋放層(priori release layer)，即固化在模具上的釋放層。
試圖改善釋放特性的另一種現(xiàn)有技術(shù)是Bender等描述在“MultipleImprinting in UV-based Nanoimprint Li thographyRelated MaterialIssues”一文中，Microelectronic Engineering 61-62(2002)的第407-413頁(yè)。具體地，Bender等采用的是具有事前釋放層的模具與氟處理過(guò)的UV(紫外)可固化材料。為此目的，通過(guò)旋涂200CPS UV可固化流體形成UV可固化層，將UV可固化層施涂到基片上。UV可固化層富含氟，以改善釋放特性。
但是，事前釋放層通常使用壽命有限。因此，一個(gè)模具可能要用事前釋放層涂敷多次。這會(huì)導(dǎo)致一個(gè)給定的模具要停工若干小時(shí)，就降低了生產(chǎn)量。另外，事前釋放層的分子結(jié)構(gòu)會(huì)限制所印出的小形貌構(gòu)造尺寸的最小化。
因此，需要改善在平版印刷工藝中所使用的模具的釋放特性。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種減少基片和模具圖案之間的粘合的方法。本方法的特點(diǎn)在于在基片上形成貼合材料，并將貼合材料與表面接觸。一整理層由貼合材料形成。該整理層具有第一和第二子部，第一子部被固化，第二子部對(duì)于表面具有第一親合力，對(duì)于第一子部具有第二親合力。第一親合力大于第二親合力。在此模式中，模具剛從整理層分離時(shí)，第二子部的一部分保持與模具的接觸，從而減少了形成在整理層中的圖案有所損壞的可能性。這里描述這些和其它實(shí)施方式。


圖1是依據(jù)本發(fā)明的平版印刷體系的透視圖；圖2是圖1所示的平版印刷體系的垂直切面簡(jiǎn)化圖；圖3是組成圖2所示的印刷層的材料在聚合和交聯(lián)之前的簡(jiǎn)化表示；圖4是圖3所示的材料在被輻射后轉(zhuǎn)變成的交聯(lián)聚合物材料的簡(jiǎn)化表示；圖5是在印刷層被加上圖案之后與印刷層分開(kāi)的圖1所示的模具的垂直切面簡(jiǎn)化圖；圖6是依據(jù)本發(fā)明設(shè)置在基片上的印刷材料的垂直切面簡(jiǎn)化圖；圖7是依據(jù)另一個(gè)實(shí)施方式設(shè)置在基片上的印刷材料的垂直切面簡(jiǎn)化圖；圖8是圖6所示的印刷材料在與模具接觸后的垂直切面簡(jiǎn)化圖；以及圖9是表示依據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方式的圖案底涂的流程圖。
具體實(shí)施例方式
圖1表示的是依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的平版印刷體系10，其包括一對(duì)間隔的橋式支座12，橋14和臺(tái)座16在這對(duì)橋式支座間延伸。橋14和臺(tái)座16是間隔開(kāi)的。與橋14耦合的是從橋14向臺(tái)座16延伸的印刻頭18。設(shè)置在臺(tái)座16上并與印刻頭面對(duì)面的是移動(dòng)臺(tái)20。移動(dòng)臺(tái)20被設(shè)定成可沿著X軸和Y軸相對(duì)于臺(tái)座16移動(dòng)。輻射源22與系統(tǒng)10耦聯(lián)，用來(lái)將光輻射引到移動(dòng)臺(tái)20上。如圖所示，輻射源22與橋14耦聯(lián)，并包括與輻射源22相連的發(fā)電機(jī)23。
參考附圖1和附圖2，連接到印刻頭18上的是模板26，模板26上具有模具28。模具28包括由多個(gè)間隔開(kāi)的凹陷28a和凸起28b所限定的多個(gè)形貌構(gòu)造。這多個(gè)形貌構(gòu)造限定出一個(gè)原始圖案，該圖案可以轉(zhuǎn)移到設(shè)置在移動(dòng)臺(tái)20上的基片31上。基片31可包括裸晶圓或在其上設(shè)置有一層或多層的晶圓。為此目的，使印刻頭18可沿著z軸移動(dòng)，整理而改變模具28和基片31之間的距離“d”。這樣，模具28上的形貌構(gòu)造就可印入到基片31的貼合區(qū)域中，下文中將更全面地進(jìn)行討論。設(shè)置輻射源22，使模具28位于輻射源22和基片31之間。結(jié)果，模具28由能夠使它對(duì)于輻射源22產(chǎn)生的輻射基本透明的材料制成。
參考圖2和圖3，貼合區(qū)域如印刷層34設(shè)置呈平整輪廓的表面32的一部分上。應(yīng)理解的是，貼合區(qū)域可通過(guò)使用任何已知的技術(shù)在表面上產(chǎn)生貼合材料來(lái)形成，諸如授予Chou的美國(guó)專利第5772905中所揭示的用熱模壓印浮雕圖案的方法，其全文通過(guò)引用包括于此，或者是由Chou等描述在2002年6月的“Ultrafast and Direct Imprint of Nanostructure in Silicon”一文，Nature，417卷，第835-837頁(yè)的一類激光輔助直接印刷(LADI)法。但是，在本發(fā)明的實(shí)施方式中，貼合區(qū)域由印刷層34組成，印刷層以多個(gè)間隔開(kāi)的不連續(xù)的材料36a的液滴36的形式沉積在基片31上，下文中將更全面地進(jìn)行討論。印刷層34由材料36a形成，材料36a可選擇地進(jìn)行聚合和交聯(lián)，以在其中記錄原始圖案，形成紀(jì)錄圖案。材料36a示于圖4中，在點(diǎn)36b處發(fā)生交聯(lián)，形成交聯(lián)聚合材料36c。
參考圖2、3和5，記錄在印刷層34中的圖案部分地是通過(guò)與模具28進(jìn)行機(jī)械接觸產(chǎn)生的。為此目的，印刻頭18減少距離“d”，從而允許印刷層34與模具28發(fā)生機(jī)械接觸，將液滴36展開(kāi)，從而在面32上用材料36a的鄰接成型來(lái)形成印刷層34。在一個(gè)實(shí)施方式中，縮短距離“d”，以使印刷層34的子部34a進(jìn)入并填充凹陷28a。
為了方便對(duì)凹陷28a的填充，材料36a要具備在用鄰接材料36a的成型覆蓋面32的同時(shí)，能完全填充凹陷28a所必需的性質(zhì)。在本發(fā)明的實(shí)施方式中，疊加在凹陷28b上的印刷層34的子部34b在達(dá)到期望的、通常為最小距離“d”后依然保留，使子部34a的厚度為t1、子部34b的厚度為t2。取決于應(yīng)用，厚度“t1”和“t2”可為任意所需的厚度。通常，選擇t1，使其不超過(guò)子部34a的寬度u的兩倍，即t1≤2u，圖5中表示得更加清楚。
參考圖2、3和4，在達(dá)到所需的距離“d”后，輻射源22產(chǎn)生光化輻射，用來(lái)聚合和交聯(lián)材料36a，形成聚合材料36c，其中聚合材料36c的大部分發(fā)生交聯(lián)。結(jié)果，材料36a轉(zhuǎn)變?yōu)楣腆w，形成印刷層134的材料36c，如圖5所示。具體地，材料36c凝固，以使印刷層134的面34c具有與模具28的面28c形狀相貼合的形狀，使印刷層134具有凹陷30。如圖4所示，在印刷層134轉(zhuǎn)變?yōu)橛刹牧?6c所組成后，如圖2所示的印刻頭18移動(dòng)以增加距離“d”，使模具28和印刷層134分開(kāi)來(lái)。
參考圖5，可采用額外的加工來(lái)完成在基片31上的圖案形成。例如，可對(duì)基片31和印刷層134進(jìn)行刻蝕，以使印刷層134中的圖案轉(zhuǎn)移到基片31中，形成圖案化表面(未示出)。為了便于刻蝕，形成印刷層134的材料可變化，以根據(jù)需要用來(lái)限定相對(duì)于基片的相對(duì)刻蝕速率。
為此目的，可向印刷層134提供相對(duì)于有選擇地設(shè)置于其上的光阻材料(未示出)的刻蝕差異。該光阻材料(未示出)可采用已知技術(shù)來(lái)提供以進(jìn)一步在印刷層134形成圖案。取決于所需的刻蝕速率和形成基片31和印刷層134的下層的組成成份，可采用任何刻蝕方法。示范性的刻蝕方法可包括激光刻蝕、活性離子刻蝕、化學(xué)濕刻蝕等。
參考圖1和圖2，示范性的輻射源22可產(chǎn)生紫外輻射；但是，也可使用任何已知的輻射源。用來(lái)激發(fā)印刷層34中材料聚合的輻射的選用，是本領(lǐng)域技術(shù)人員所已知的，通常是取決于所需的具體應(yīng)用。而且，模具28上的多個(gè)形貌構(gòu)造表現(xiàn)為沿著與凸起28b平行的方向延伸的凹陷28a，使模具28的橫截面為鋸齒狀。但是，凹陷28a和凸起28b可實(shí)際對(duì)應(yīng)于產(chǎn)生集成電路所需的任何形貌構(gòu)造，可小到只有十分之幾個(gè)納米。
參考圖1、2和5，通過(guò)本發(fā)明的圖案成形技術(shù)產(chǎn)生的圖案可轉(zhuǎn)移到基片31中，提供縱橫比高達(dá)30∶1的形貌構(gòu)造。為此目的，在模具28的一個(gè)實(shí)施方式中，具有縱橫比在1∶1至10∶1范圍內(nèi)的凹陷28a。具體地，凸起28b的寬度W1在約10納米至約5000微米的范圍內(nèi)，而凹陷28a的寬度W2在約10納米至約5000微米的范圍內(nèi)。結(jié)果，模具28和/或模板26可由不同的常規(guī)材料形成，例如但不限于，熔融氧化硅、石英、硅、有機(jī)聚合物、硅氧烷聚合物、硼硅酸鹽玻璃、碳氟聚合物、金屬、硬藍(lán)寶石等。
參考圖1、圖2和圖3，材料36a的特性對(duì)于根據(jù)所采用的獨(dú)特沉積方法在基片31有效地形成圖案是非常重要的。如上所述，材料36a以多個(gè)不連續(xù)的、間隔開(kāi)的液滴36沉積在基片31上。液滴36的總體積要使材料36a適當(dāng)?shù)胤植荚谛纬捎∷?4的面32上。結(jié)果，印刷層的涂布和圖案成形同時(shí)進(jìn)行，隨后通過(guò)暴露在如紫外輻射之類的輻射中，使圖案定型在印刷層34中。作為沉積過(guò)程的結(jié)果，期望材料36a具有一定的性質(zhì)，能夠便于液滴36中的材料36a快速、均勻地覆蓋在面32上，使所有的厚度t1是基本上均一的，且所有的厚度t2是基本上均一的。期望的性質(zhì)包括低粘度，例如在0.5厘泊至5厘泊(csp)，以及潤(rùn)濕基片31和/或模具28的表面的能力和避免隨后在聚合后形成凹陷或孔洞的能力。滿足這些特性，印刷層34可被制造得足夠薄，并同時(shí)避免在如圖5所示的子部34b之類的較薄區(qū)域中形成凹陷或孔洞。
形成材料36a以提供上述特性的組成成分會(huì)不相同。這是因?yàn)榛?1是由各種不同的材料形成的。結(jié)果，面32的化學(xué)組成依據(jù)形成基片31的材料的不同而改變。例如，基片31可由硅、塑料、鎵砷化物、碲汞化物和它們的復(fù)合物形成。另外，基片31可在子部34b中包括一層或多層，例如，介電層、金屬層、半導(dǎo)體層、平面化層等。
參考圖1、2和3，材料36a的示例性組合物如下組合物1丙烯酸異冰片酯丙烯酸正己酯二丙烯酸乙二醇酯2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙-1-酮在示例性的組合物中，組合物中包括大約55％的丙烯酸異冰片酯、大約27％的丙烯酸正己酯、大約15％的二丙烯酸乙二醇酯和大約3％的2-羥基-2-甲基-1-丙基-丙-1-酮。引發(fā)劑是商品為DAROCUR1173，來(lái)自紐約Tarryton的CIBA。上述組合物還包括化學(xué)領(lǐng)域中眾所周知的穩(wěn)定劑，用來(lái)提高組合物的使用壽命。為了提供合適的釋放特性，組合物1通常是和模板一塊使用，其中的模板處理成具有疏水性和/或低表面能的模具表面，即事前釋放層。
為了改善模具28和印刷層34的釋放特性、且確保印刷層34不粘附在模具28上，形成材料36a的組合物可包括用來(lái)降低組合物1的表面張力的添加劑。為此目的，材料36a可包括作為添加劑的表面活性劑。為了本發(fā)明的目的，“表面活性劑”定義為任何分子，其一端是疏水性的。表面活性劑可以在表面活性劑分子中含有氟-例如包括氟鏈，或者不包括氟。一示例性表面活性劑可以商品名ZONYLFSO-100從DUPONTTM購(gòu)得，通式為R1R2，其中R1＝F(CF2CF2)Y，Y在1至7的范圍內(nèi)，包括1和7，R2＝CH2CH2O(CH2CH2O)XH，其中X在0至15的范圍內(nèi)，包括0和15?？捎孟铝薪M合物來(lái)形成材料36a
組合物2丙烯酸異冰片酯丙烯酸正己酯二丙烯酸乙二醇酯2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙-1-酮RfCH2CH2O(CH2CH2O)XH，組合物中包含少于1％的ZONYLFSO-100添加劑，其余組分的相對(duì)量如同就組合物1在上文所討論。但是，ZONYLFSO-100的百分?jǐn)?shù)可超過(guò)1％。
組合物2提供的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是它消除了對(duì)事前釋放層的需要，即消除了對(duì)位于模具28上的單獨(dú)的、疏水性和/或低表面能的釋放層的需要。具體地，組合物2對(duì)模具28和釋放層34提供了所需的釋放特性，以致如圖4所示的材料36c不會(huì)以足以造成記錄在其中的圖案變形的力粘附在模具28上。如圖3所示，據(jù)信ZONYLFSO-100濃縮在材料36a的第一區(qū)?？删酆系幕衔餄饪s在材料36a的第二區(qū)。
參考圖6，與區(qū)137相比，ZONYLFSO-100添加劑濃度在液滴36的區(qū)136中較高，可聚合化合物濃縮在區(qū)137中。如圖7所示，假如采用旋涂技術(shù)，添加劑就會(huì)濃縮在區(qū)236中，而可聚合化合物就會(huì)濃縮在區(qū)237中。
參考圖3、4和8，不管涉及何種沉積方法，與材料36a接觸并暴露在光化學(xué)輻射中后，材料36a轉(zhuǎn)變?yōu)椴牧?6c，第一界面136a限定在區(qū)136和模具28之間。第二界面137a形成在區(qū)136和137之間。據(jù)信，與區(qū)136相關(guān)聯(lián)的材料36c的某個(gè)部分一如果不是全部的話一對(duì)于模具28親和力要大于該部分和與材料137相關(guān)聯(lián)的材料36c之間的吸引力。結(jié)果，在模具從材料36c上分離時(shí)，如圖5所示，子部34a和34b中的一個(gè)分段或其全部從區(qū)137上分離，由此最大程度地減少了由于模具28和材料36c之間的粘合力所造成的對(duì)記錄在材料36c中的圖案的破壞。
具體地，界面136a限定了與之相關(guān)的第一界面能級(jí)，第二界面137a限定了第二界面能級(jí)，第一界面能級(jí)比第二界面能級(jí)要高。第一界面能級(jí)由模具28的表面能與材料36c在區(qū)136中的表面張力的差值限定。第二界面能級(jí)由與區(qū)136相關(guān)聯(lián)的材料36c對(duì)與區(qū)137結(jié)合的材料36c的粘合力限定。在本實(shí)施例中，組合物2給區(qū)136提供在20-35毫牛頓/米范圍內(nèi)的表面張力，1毫焦/平方厘米＝1毫牛頓/米。結(jié)果，界面136a上的界面能級(jí)大到足夠克服界面137上的界面能級(jí)。
參考圖2，組合物2提供的其它優(yōu)點(diǎn)在于可減少潤(rùn)濕模具28-因此涂布液滴36-的時(shí)間。具體地，因?yàn)槟＞?8上不再需要事前釋放層，模具28的表面可具有較高的表面能，例如，60-250毫牛頓/米。由接觸角方法所規(guī)定的組合物2對(duì)于模具28表面的潤(rùn)濕性可在10度或更小一點(diǎn)的范圍內(nèi)。這最大程度地減少了填充模具28上的圖案形貌構(gòu)造所需的時(shí)間。而且，ZONYLFSO-100添加劑使由接觸角方法規(guī)定的組合物2的潤(rùn)濕性在75度至90度的范圍內(nèi)，因而增加了模具28的潤(rùn)濕性，進(jìn)一步減少了涂布液滴36所需的時(shí)間。當(dāng)然，組合物2可與現(xiàn)有技術(shù)已知的事前釋放層一起使用，來(lái)進(jìn)一步改善釋放特性。
改善模具28的釋放性質(zhì)的另一種方法包括通過(guò)將模具28的圖案暴露在整理混合物中來(lái)將其加以整理，其中的整理混合物包括會(huì)留在模具28上以減少模具表面的表面能的添加劑。示例性添加劑是表面活性劑。
在一個(gè)具體的實(shí)施例中，模具28暴露在一混合物中，該混合物包括大約0.1％或更多的ZONYLFSO-100，其余的包括異丙醇(IPA)。圖案的暴露實(shí)際上可通過(guò)現(xiàn)有技術(shù)中已知的任何方法來(lái)實(shí)現(xiàn)，包括將圖案浸入到整理混合物中、用浸透整理混合物的布擦拭圖案和將整理混合物的蒸汽噴涂到表面上。然后，使整理混合物中的IPA在模具28使用前蒸發(fā)。這樣，IPA有助于于從圖案中移去不利的污染物，而同時(shí)留下添加劑，從而整理圖案的表面。整理混合物可與組合物2一起使用，用來(lái)加強(qiáng)組合物2所提供的釋放特性的改善。整理混合物中的添加劑可與組合物2中的添加劑相同或不同?；蛘撸砘旌衔锟膳c組合物1或任何其它適用于平版印刷、以及其它印刷方法如熱浮雕和激光輔助印刷方法的可聚合材料一起使用。
用來(lái)整理模具28圖案的另一種技術(shù)是使用圖案底涂(patternpriming)。圖案底涂通過(guò)有選擇地使貼合區(qū)域與圖案接觸足夠多的次數(shù)、以在貼合區(qū)中準(zhǔn)確地復(fù)制與原始圖案互補(bǔ)的圖案來(lái)實(shí)現(xiàn)。具體地，已發(fā)現(xiàn)，通過(guò)反復(fù)接觸圖3所示的印刷材料36a所形成的互補(bǔ)圖案因每一連續(xù)印刻而改進(jìn)。在印刻了足夠多的次數(shù)后，在模具28中形成圖案精確互補(bǔ)的復(fù)制品。圖案底涂技術(shù)可與上述的整理混合物和組合物1或組合物2組合使用，或單獨(dú)與組合物2組合使用，即只使用組合物2而不用整理混合物。據(jù)信，在與圖案精確互補(bǔ)的復(fù)制品產(chǎn)生之前所需要進(jìn)行的印刻次數(shù)與組合物2中的添加劑的數(shù)量成反比。具體地，通過(guò)提高組合物2中添加劑的量，在形成與圖案精確互補(bǔ)的復(fù)制品之前所需的印刻的次數(shù)減少。
參考圖2和圖9，在操作中，印刻底涂包括在第一基片上形成貼合材料、形成經(jīng)底涂的基片(步驟300)。在步驟302，模具28與貼合區(qū)接觸足夠多的次數(shù)以在經(jīng)底涂的基片上的貼合材料中準(zhǔn)確地復(fù)制模具28上的圖案。在一個(gè)實(shí)施例中，將模具28與貼合材料的第一子部接觸。隨后，使第一子部聚合，模具28從其上分離。然后將模具28同與該第一子部分開(kāi)的貼合材料的第二子部接觸。使與第二子部相關(guān)聯(lián)的貼合材料聚合，該過(guò)程重復(fù)直到與模具28上的圖案精確互補(bǔ)的圖案記錄在貼合材料中為止。這樣就產(chǎn)生了一個(gè)經(jīng)底涂的模具。在步驟304中，經(jīng)底涂的模具(primed mold)與稱為工藝基片的第二基片上的貼合材料接觸。在此之后，通過(guò)使用眾所周知的平版印刷技術(shù)聚合貼合材料將圖案記錄于其中。這樣，可用經(jīng)底涂的模具來(lái)完成工藝基片的圖案成形。
以上描述的本發(fā)明的實(shí)施例是示范性的。可在本發(fā)明的范圍內(nèi)對(duì)上述的說(shuō)明書進(jìn)行多種變動(dòng)和修改。因此，本發(fā)明的范圍并不參照上述說(shuō)明來(lái)限定，而應(yīng)依據(jù)所附的權(quán)利要求書及其全范圍的等同文件來(lái)限定。
權(quán)利要求
1.一種減少基片和表面具有圖案區(qū)域的模具之間的粘合力的方法，所述方法包括在所述基片上形成貼合材料；將所述貼合材料與所述表面接觸；以及由所述貼合材料形成具有第一和第二子部的整理層，所述第一子部被固化，所述第二子部對(duì)于所述表面具有第一親和力、對(duì)于所述第一子部具有第二親和力，所述第一親和力大于所述第二親和力。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，形成所述貼合材料的步驟還包括在所述表面與所述貼合材料接觸的同時(shí)形成所述整理層，所述方法還包括將所述表面從所述整理層分離，而所述第二子部的一部分保持與所述貼合材料的接觸，從而該部分第二子部與所述第一子部分開(kāi)。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，還包括整理所述表面使其在與所述貼合材料接觸之前具備親水性。
4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，還包括在將所述表面與所述貼合材料接觸之前將其置于含有表面活性劑的整理劑中。
5.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，處理所述表面還包括用異丙基醇和ZONYLFSO-100的混合物配制所述整理劑。
6.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，形成所述貼合材料的步驟還包括沉積一種組合物，它包括可聚合化合物和表面活性劑，并且接觸所述貼合材料的步驟還包括在所述表面和所述組合物之間形成界面，所述界面的絕大部分帶有所述表面活性劑。
7.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，形成所述貼合材料的步驟還包括沉積一組合物，它包含丙烯酸異冰片酯、丙烯酸正己酯、乙二醇二丙烯酸酯和2-羥基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮和R1R2。
8.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，形成所述貼合材料的步驟還包括在所述基片上沉積多個(gè)貼合組合物的液滴。
9.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，形成所述貼合材料的步驟還包括使用旋涂技術(shù)在所述基片上沉積所述貼合組合物。
10.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括依次接觸所述貼合組合物足夠多的次數(shù)，以在所述貼合材料中準(zhǔn)確地復(fù)制與所述圖案區(qū)的形狀互補(bǔ)的圖案。
11.一種減少基片上的貼合材料與具有原始圖案的模具之間的粘合力的方法，所述方法包括通過(guò)在所述基片上沉積貼合組合物而在所述基片上形成所述貼合材料，所述貼合組合物包括可聚合化合物和添加劑，所述添加劑濃縮在所述貼合組合物的第一區(qū)中，而所述可聚合化合物濃縮在所述貼合組合物的第二區(qū)中；將所述貼合材料與所述模具接觸，使所述第一區(qū)位于所述第二區(qū)和所述模具之間，在所述模具和所述第一區(qū)之間形成第一界面能級(jí)；以及固化所述可聚合化合物，在所述第一區(qū)和所述第二區(qū)之間的形成第二界面能級(jí)，使所述第一界面能級(jí)大于所述第二界面能級(jí)。
12.如權(quán)利要求11所述的方法，還包括整理所述模具使其具備親水性。
13.如權(quán)利要求11所述的方法，還包括將所述模具置于異丙醇和表面活性劑的混合物中來(lái)整理所述模具。
14.如權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，形成所述貼合材料的步驟還包括在所述基片上沉積多個(gè)所述貼合組合物的液滴。
15.如權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，形成所述貼合材料的步驟還包括采用旋涂技術(shù)在所述基片上沉積所述貼合組合物。
16.如權(quán)利要求11所述的方法，還包括依次接觸所述貼合組合物足夠多的次數(shù)，以在所述貼合組合物中準(zhǔn)確地復(fù)制與所述原始圖案互補(bǔ)的記錄圖案。
17.如權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，形成所述貼合材料的步驟還包括由丙烯酸異冰片酯、丙烯酸正己酯、乙二醇二丙烯酸酯和2-羥基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮和R1R2形成所述貼合組合物。
18.一種減少基片上的貼合區(qū)與其上具有原始圖案的模具之間的粘合力的方法，所述方法包括在所述基片上形成所述貼合區(qū)；將所述貼合區(qū)的足夠多的不同子部與所述模具依次接觸和固化，以在所述貼合區(qū)的其它子部準(zhǔn)確地復(fù)制出與所述原始圖案互補(bǔ)的記錄圖案。
19.如權(quán)利要求18所述的方法，還包括將所述原始圖案置于異丙醇和表面活性劑的混合物中來(lái)整理所述模具。
20.如權(quán)利要求18所述的方法，其特征在于，形成所述貼合區(qū)的步驟還包括沉積含有可聚合化合物和表面活性劑的組合物。
21.如權(quán)利要求20所述的方法，其特征在于，沉積所述組合物的步驟還包括用所述可聚合化合物和所述表面活性劑形成所述組合物，所述可聚合化合物包括丙烯酸異冰片酯、丙烯酸正己酯、乙二醇二丙烯酸酯和2-羥基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮，所述表面活性劑包含R1R2。
22.如權(quán)利要求20所述的方法，其特征在于，形成所述貼合區(qū)的步驟還包括沉積含有所述可聚合化合物和所述表面活性劑的所述組合物，所述表面活性劑濃縮在所述組合物的第一區(qū)中，所述可聚合化合物濃縮在所述組合物的第二區(qū)中，所述第一區(qū)位于所述第二區(qū)和所述模具之間。
23.如權(quán)利要求18所述的方法，其特征在于，形成所述貼合區(qū)的步驟還包括在所述基片上沉積多個(gè)貼合組合物的液滴。
24.如權(quán)利要求18所述的方法，其特征在于，形成所述貼合區(qū)的步驟還包括采用旋涂技術(shù)在所述基片上沉積所述貼合組合物。
25.一種用表面包含有原始圖案的模具在工藝基片上形成記錄圖案的方法，所述方法包括在經(jīng)底涂的基片上形成貼合材料；通過(guò)使所述貼合材料足夠多的不同子部與所述模具依次接觸和固化而在所述經(jīng)底涂的基片上準(zhǔn)確地復(fù)制所述記錄圖案，形成經(jīng)底涂的模具；以及使所述經(jīng)底涂的模具接觸所述工藝基片上的貼合材料，以形成與所述原始圖案互補(bǔ)的轉(zhuǎn)移圖案。
26.如權(quán)利要求25所述的方法，其特征在于，形成所述貼合材料的步驟還包括在所述基片上沉積具有可聚合化合物和表面活性劑的組合物。
27.如權(quán)利要求25所述的方法，其特征在于，形成所述貼合材料的步驟還包括沉積含有可聚合化合物和添加劑的組合物，所述添加劑濃縮在所述組合物的第一區(qū)中，所述可聚合化合物濃縮在所述組合物的第二區(qū)中。
28.如權(quán)利要求27所述的方法，其特征在于，形成所述貼合材料的步驟還包括沉積一包含丙烯酸異冰片酯、丙烯酸正己酯、乙二醇二丙烯酸酯和2-羥基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮和R1R2的組合物。
29.如權(quán)利要求27所述的方法，其特征在于，形成所述貼合材料的步驟還包括在所述基片上沉積多個(gè)所述貼合材料的液滴。
30.如權(quán)利要求27所述的方法，其特征在于，形成所述貼合材料還包括采用旋涂技術(shù)沉積所述貼合材料。
全文摘要
本發(fā)明提供一種減少基片上的貼合區(qū)與模具的圖案之間的粘合的方法，其中所述模具有選擇地與貼合區(qū)發(fā)生接觸。該方法的特點(diǎn)在于在基片上形成貼合材料，并將整合材料與表面接觸。整理由貼合材料形成一整理層。整理層具有第一和第二子部分，第一子部分被固化，第二子部分對(duì)于表面具有第一吸引力，對(duì)于第一子部分具有第二吸引力。第一吸引力比第二吸引力大。在此方式下，在模具從整理層中分離后，第二子部分的子集保持與模具接觸，從而減少了形成在整理層中的圖案被破壞的可能性。
文檔編號(hào)B29C59/00GK1805838SQ200480016523
公開(kāi)日2006年7月19日 申請(qǐng)日期2004年6月10日 優(yōu)先權(quán)日2003年6月17日
發(fā)明者崔炳鎮(zhèn), F·Y·徐, N·A·斯泰西, V·N·柴斯蓋特, M·P·C·瓦茨 申請(qǐng)人:分子制模股份有限公司, 得克薩斯州大學(xué)系統(tǒng)董事會(huì)