本發(fā)明涉及設(shè)備制造領(lǐng)域，特別涉及一種傳送裝置、基板傳輸系統(tǒng)和基板傳輸方法。

背景技術(shù)：

在顯示面板的制造過程中，需要經(jīng)過多種工藝，例如：配向?qū)庸に?、摩擦工藝、成盒工藝等，在各工藝之間需要通過傳送裝置對(duì)基板進(jìn)行傳輸。圖1為現(xiàn)有傳送裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，傳送裝置包括多個(gè)平行設(shè)置的傳送軸1，傳送軸1上固定設(shè)置有多個(gè)滾輪2，沿與傳送軸1垂直的方向形成多個(gè)滾輪列4，各滾輪列4中的各個(gè)滾輪2相互對(duì)齊設(shè)置。當(dāng)傳送裝置工作時(shí)，傳送軸1帶動(dòng)位于其上的滾輪2轉(zhuǎn)動(dòng)，各個(gè)滾輪2在在摩擦力的作用下帶動(dòng)基板3水平傳輸。

在基板傳送過程中，基板表面的同一位置經(jīng)滾輪列中全部滾輪的連續(xù)摩擦，容易導(dǎo)致基板表面的同一位置處的表面損傷，而且，現(xiàn)有市場(chǎng)對(duì)顯示面板輕薄化的要求越來越高，基板均需要進(jìn)行減薄處理，即利用酸堿刻蝕液對(duì)基板表面進(jìn)行刻蝕，在基板減薄過程中，基板表面的損傷會(huì)影響酸堿刻蝕液對(duì)基板表面的刻蝕均一性，從而導(dǎo)致與滾輪列相接觸的基板表面產(chǎn)生凹點(diǎn)、劃傷等外觀不良的不良率較高，影響顯示面板的生產(chǎn)良率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述不足，提供一種傳送裝置、基板傳輸系統(tǒng)和基板傳輸方法，用以至少部分解決現(xiàn)有傳送裝置損傷基板表面的問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種傳送裝置，包括多個(gè)平行設(shè)置的傳送軸，各所述傳送軸上設(shè)置有至少一個(gè)滾輪，各所述傳送軸上的滾輪在傳送面內(nèi)形成至少一個(gè)滾輪列，所述滾輪列中的至少兩個(gè)滾輪沿傳送方向交錯(cuò)設(shè)置。

優(yōu)選的，所述滾輪列中的各個(gè)滾輪沿傳送方向均相互交錯(cuò)設(shè)置。

優(yōu)選的，各所述傳送軸上設(shè)置有多個(gè)滾輪，各所述傳送軸上的滾輪在所述傳送面內(nèi)形成相應(yīng)數(shù)量的滾輪列。

優(yōu)選的，各所述滾輪列在所述傳送面內(nèi)均勻分布。

優(yōu)選的，各所述滾輪列中的滾輪在所述傳送面內(nèi)呈直線排列。

優(yōu)選的，相鄰所述滾輪列在所述傳送面內(nèi)呈v形分布。

優(yōu)選的，各所述滾輪列中的滾輪在所述傳送面內(nèi)呈折線排列。

優(yōu)選的，相鄰所述滾輪列在所述傳送面內(nèi)呈軸對(duì)稱分布。

本發(fā)明還提供一種基板傳輸系統(tǒng)，包括如前所述的傳送裝置。

本發(fā)明還提供一種基板傳輸方法，所述基板傳輸方法應(yīng)用于如前所述的傳送裝置。

本發(fā)明具有以下有益效果：

本發(fā)明提供一種傳送裝置、基板傳輸系統(tǒng)和基板傳輸方法，所述傳送裝置包括多個(gè)平行設(shè)置的傳送軸，各傳送軸上設(shè)置有至少一個(gè)滾輪，各傳送軸上的滾輪在傳送面內(nèi)形成至少一個(gè)滾輪列，滾輪列中的至少兩個(gè)滾輪交錯(cuò)設(shè)置。當(dāng)傳送裝置傳送基板時(shí)，滾輪列內(nèi)至少有兩個(gè)滾輪并排摩擦基板表面，可以減少基板表面上同一位置上所經(jīng)過摩擦的滾輪的個(gè)數(shù)，相應(yīng)減少基板表面同一位置處的損傷程度，提高基板表面的平整度，在基板的減薄過程中，提高酸堿刻蝕液對(duì)基板表面的刻蝕均一性，進(jìn)而降低顯示面板的表面產(chǎn)生凹點(diǎn)、劃傷等外觀不良的發(fā)生率，從而提高顯示面板的生產(chǎn)良率。

附圖說明

圖1為現(xiàn)有的傳送裝置的俯視圖；

圖2為本實(shí)施例提供的傳送裝置的俯視圖一；

圖3為本實(shí)施例提供的傳送裝置的俯視圖二；

圖4為本實(shí)施例提供的傳送裝置的俯視圖三；

圖5為本實(shí)施例提供的傳送裝置的俯視圖四。

圖例說明：

1、傳送軸2、滾輪3、基板4、滾輪列5、第一部分

6、第二部分

具體實(shí)施方式

為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明提供的一種傳送裝置進(jìn)行詳細(xì)描述。

本實(shí)施例提供一種傳送裝置，如圖2所示，所述傳送裝置包括多個(gè)平行設(shè)置的傳送軸1，各傳送軸1上設(shè)置有至少一個(gè)滾輪2，轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)(圖中未繪示)帶動(dòng)傳送軸1轉(zhuǎn)動(dòng)，傳送軸1帶動(dòng)其上的滾輪2轉(zhuǎn)動(dòng)，以使?jié)L輪2在摩擦力的作用下水平傳輸基板3。各傳送軸1上的滾輪2在傳送面內(nèi)形成至少一個(gè)滾輪列4，滾輪列4中的至少兩個(gè)滾輪2沿傳送方向交錯(cuò)設(shè)置。具體的，在圖2中，各傳送軸1沿橫向平行排布。需要說明的是，各滾輪列4中滾輪2的數(shù)量與傳送軸1的數(shù)量相同，且滾輪2與傳送軸1一一對(duì)應(yīng)，即對(duì)于一個(gè)滾輪列4來說，一個(gè)傳送軸1上設(shè)置一個(gè)滾輪2。在本實(shí)施例中，是以傳送裝置包括六個(gè)傳送軸1，各滾輪列4均包括位于不同傳送軸1上的六個(gè)滾輪2為例進(jìn)行說明的。

本實(shí)施例提供的傳送裝置，由于滾輪列4中的至少兩個(gè)滾輪2交錯(cuò)設(shè)置，所以當(dāng)傳送裝置傳送基板3時(shí)，滾輪列4內(nèi)至少有兩個(gè)滾輪2并排摩擦基板3的表面，可以減少基板3表面上同一位置上所經(jīng)過的滾輪2的個(gè)數(shù)，相應(yīng)減少基板3表面同一位置處的損傷程度，提高基板3表面的平整度，在基板3減薄過程中，提高酸堿刻蝕液對(duì)基板3表面的刻蝕均一性，進(jìn)而降低顯示面板的表面產(chǎn)生凹點(diǎn)、劃傷等外觀不良的發(fā)生率，從而提高顯示面板的生產(chǎn)良率。

優(yōu)選的，如圖2所示，滾輪列4中的各個(gè)滾輪2沿傳送方向均相互交錯(cuò)設(shè)置。也就是說，滾輪列中的各個(gè)滾輪2在各傳送軸1上的位置不同(即圖2中同一滾輪列4中各個(gè)滾輪2的x軸坐標(biāo)不同)，這樣，當(dāng)傳送裝置傳送基板3時(shí)，基板3表面同一位置僅經(jīng)過一個(gè)滾輪2的摩擦，大幅的減少基板3表面同一位置處的損傷程度，使基板3表面的平整度更好。

需要說明的是，如圖1所示，假若現(xiàn)有傳送裝置的滾輪列4中的某個(gè)滾輪2表面異常，在傳送裝置傳送基板3的過程中，該異常滾輪2異常摩擦基板3的表面，導(dǎo)致顯示面板凹點(diǎn)、劃傷等外觀不良高發(fā)，由于滾輪列4中各個(gè)滾輪2均對(duì)齊設(shè)置，很難在異常滾輪2所在的滾輪列4中排查出該異常滾輪2的位置，排查效率低。在本實(shí)施例中，為解決上述排查異常滾輪2的難度大和效率低的問題，將滾輪列4中的各個(gè)滾輪2沿傳送方向均相互交錯(cuò)設(shè)置，使基板3表面同一位置僅經(jīng)一個(gè)滾輪2的摩擦，從而可以通過基板3不同位置與不同滾輪2的對(duì)應(yīng)關(guān)系，確定異常滾輪2的位置，提高排查效率。

優(yōu)選的，如圖2所示，滾輪列4中相鄰的滾輪2沿傳送軸1方向上的間距相等。也就是說，滾輪列4中的滾輪2在x軸方向上均勻分布，這樣，當(dāng)傳送裝置傳送基板3時(shí)，滾輪列4中的滾輪2可以均勻支撐基板3，使基板3在自身重力作用下產(chǎn)生的變形量較小，從而可以避免由于基板3變形量較大所導(dǎo)致的不良。

需要說明的是，滾輪列4中相鄰的滾輪2沿x軸方向上的間距的大小在此沒做限定，由于該間距要同時(shí)考慮滾輪列中滾輪2沿傳送軸1方向上的最大間距(即滾輪列4的寬度)，滾輪列4中滾輪2的數(shù)量和滾輪2的厚度等因素，因此，滾輪列4中相鄰的滾輪2沿傳送軸1方向上的間距要依據(jù)實(shí)際情況而定。

如圖2所示，各傳送軸1上可以設(shè)置有多個(gè)滾輪2，各傳送軸1上的滾輪2在傳送面內(nèi)形成相應(yīng)數(shù)量的滾輪列4。具體的，各傳送軸1上均設(shè)置有相同數(shù)量的多個(gè)滾輪2，滾輪列4的數(shù)量與一個(gè)滾輪軸1上滾輪2的數(shù)量相等。在本實(shí)施例中，各傳送軸1上均設(shè)置有五個(gè)滾輪2，各傳送軸1上的滾輪2在傳送面內(nèi)形成五個(gè)的滾輪列4。

需要說明的是，傳送軸1上的滾輪2的數(shù)量在此沒做限定,傳送軸1上的滾輪2的數(shù)量與基板3的尺寸相關(guān)，基板3的尺寸越大，傳送軸1上的滾輪2數(shù)量越多，基板3的尺寸越小，傳送軸1上的滾輪2數(shù)量越少。

優(yōu)選的，各滾輪列4在傳送面內(nèi)均勻分布。具體的，各滾輪列4中滾輪2沿傳送軸1方向(即x軸方向)上的最大間距均相同(即圖中所示的間距l(xiāng))，即各滾輪列4的寬度相同。各滾輪列4可以在傳送面內(nèi)均勻支撐進(jìn)行傳送的基板3，進(jìn)一步減小基板3在自身重力作用下產(chǎn)生的變形量。

需要說明的是，為了提高各滾輪列4對(duì)進(jìn)行傳送的基板3的支撐效果，各滾輪列4中滾輪2沿傳送軸1方向上的最大間距l(xiāng)為100cm-600cm。

優(yōu)選的，如圖2所示，各滾輪列4中的各個(gè)滾輪2之間沿傳送方向均相互交錯(cuò)設(shè)置。也就是說，不同滾輪列4中各個(gè)滾輪2的x軸坐標(biāo)不同。在排查異常滾輪2的過程中，可以避免不同滾輪列4中的滾輪2之間的位置干涉，從而可以更快的確定異常滾輪2的位置，排查效率更高。

以下結(jié)合圖2、圖3、圖4和圖5，對(duì)滾輪列4中各滾輪2的兩種優(yōu)選排布方式進(jìn)行詳細(xì)說明。

滾輪列4中各滾輪2的一種優(yōu)選排列方式，如圖2和圖3所示，各滾輪列4中的滾輪2在傳送面內(nèi)呈直線排列。

如圖2所示，相鄰滾輪列4在傳送面內(nèi)可以呈v形分布。具體的，在傳送面內(nèi)，奇數(shù)滾輪列4中的各滾輪的x軸坐標(biāo)逐漸增大，且y坐標(biāo)逐漸增大，偶數(shù)滾輪列4中的各滾輪的x軸坐標(biāo)逐漸增大，且y坐標(biāo)逐漸減小，這樣，相鄰的滾輪列4可以更均勻的支撐基板3，進(jìn)而減小基板3在自身重力作用下產(chǎn)生的變形量的效果更佳。

需要說明的是，在傳送面內(nèi)，奇數(shù)滾輪列4中的各滾輪的x軸坐標(biāo)逐漸增大，且y坐標(biāo)逐漸減小，偶數(shù)滾輪列4中的各滾輪的x軸坐標(biāo)逐漸增大，且y坐標(biāo)逐漸增大也是可行的。

如圖3所示，各滾輪列4在傳送面內(nèi)也可以平行分布。具體的，在傳送面內(nèi)，各滾輪列4中的各滾輪2的x軸坐標(biāo)逐漸增大，且y坐標(biāo)逐漸增大。當(dāng)然，在傳送面內(nèi)，各滾輪列4中的各滾輪的x軸坐標(biāo)逐漸增大，且y坐標(biāo)逐漸減小也是可行的。

滾輪列4中各滾輪2的另一種優(yōu)選排列方式，如圖4和圖5所示，各滾輪列4中的滾輪2在傳送面內(nèi)可以呈折線排列。具體的，在本實(shí)施例中，滾輪列4可以包括第一部分5和第二部分6，在傳送面內(nèi)，第一部分5中的各滾輪2的x軸坐標(biāo)逐漸增大，且y坐標(biāo)逐漸減小，第二部分6中的各滾輪2的x軸坐標(biāo)逐漸增大，且y坐標(biāo)逐漸增大?；蛘?，第一部分5中的各滾輪2的x軸坐標(biāo)逐漸增大，且y坐標(biāo)逐漸增大，第二部分6中的各滾輪2的x軸坐標(biāo)逐漸增大，且y坐標(biāo)逐漸減小。

如圖4所示，相鄰滾輪列4在傳送面內(nèi)可以呈軸對(duì)稱分布。

如圖5所示，各滾輪列4在傳送面內(nèi)也可以平行分布。具體的，在傳送面內(nèi)，各滾輪列4的第一部分5中的各滾輪2的x軸坐標(biāo)逐漸增大，且y坐標(biāo)逐漸增大，第二部分6中的各滾輪2的x軸坐標(biāo)逐漸增大，且y坐標(biāo)逐漸減小。當(dāng)然，在傳送面內(nèi)，各滾輪列4的第一部分5中的各滾輪2的x軸坐標(biāo)逐漸增大，且y坐標(biāo)逐漸減小，第二部分6中的各滾輪2的x軸坐標(biāo)逐漸增大，且y坐標(biāo)逐漸增大也是可行的。

需要說明的是，為了解決現(xiàn)有傳送裝置的滾輪列中的全部滾輪連續(xù)摩擦基板同一位置，導(dǎo)致基板同一位置處的表面損傷的問題，可以將滾輪的材質(zhì)替換為軟性材料，以減小滾輪對(duì)基板的表面的摩擦力。也可以將滾輪替換為吸附裝置，利用吸附裝置吸附固定基板，并帶動(dòng)基板移動(dòng)，以實(shí)現(xiàn)基板表面無摩擦傳輸。還可以將滾輪替換為傳送帶，利用傳送帶運(yùn)輸基板，以減小對(duì)基板表面的損傷。

本發(fā)明還提供一種傳輸系統(tǒng)，所述傳輸系統(tǒng)包括上述所述的傳送裝置。所述傳輸系統(tǒng)可以為刻蝕設(shè)備、光刻膠涂覆設(shè)置、剝離設(shè)備、配向?qū)油扛苍O(shè)備等任何具有滾輪傳送功能的設(shè)備或部件。

本發(fā)明還提供一種基板傳輸方法，所述傳輸方法應(yīng)用于上述所述的傳送裝置。結(jié)合圖2所示，所述基板傳輸方法包括：將基板3放置在滾輪2上，利用轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)各傳送軸1轉(zhuǎn)動(dòng)，各傳送軸1帶動(dòng)其上的各滾輪2轉(zhuǎn)動(dòng)，各滾輪2在摩擦力的作用下將基板3水平傳輸。

由于傳送裝置的滾輪列4中的至少兩個(gè)滾輪2交錯(cuò)設(shè)置，所以采用上述基板傳輸方法傳輸基板，可以減少基板3表面同一位置處的損傷程度，提高基板3表面的平整度，在基板3減薄過程中，相應(yīng)提高酸堿刻蝕液對(duì)基板表面的刻蝕均一性，從而降低顯示面板的表面產(chǎn)生凹點(diǎn)、劃傷等外觀不良的發(fā)生率，進(jìn)而提高顯示面板的生產(chǎn)良率。

可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。