真空等離子體表面處理設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供了一種真空等離子體表面處理設(shè)備，其包括放卷倉、收卷倉及等離子體處理倉，其中：放卷倉內(nèi)部設(shè)有放卷導(dǎo)輥和放卷張力輔助導(dǎo)輥，且放卷倉與等離子體處理倉連接的處設(shè)有開口，用于將卷繞材料由放卷倉穿入到等離子體處理倉；等離子體處理倉安裝有支撐輔助導(dǎo)輥和上、下電極板，支撐輔助導(dǎo)棍用于支撐所述卷繞材料并所述防止材料垂落到所述上、下電極板，且支撐輔助導(dǎo)輥的上切面位于下電極板和上電極板的中心位置；收卷倉內(nèi)部安裝有糾偏系統(tǒng)、收卷張力輔助導(dǎo)輥和收卷導(dǎo)輥。本實(shí)用新型采用自動(dòng)放卷收卷，在真空下自動(dòng)完成卷繞材料的等離子體表面處理工序，大大提高了生產(chǎn)效率。
【專利說明】真空等離子體表面處理設(shè)備
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及等離子處理【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種真空等離子體表面處理設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]離子處理設(shè)備廣泛應(yīng)用于等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面活化、改性等場合。通過其處理，能夠改善材料的潤濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂。在現(xiàn)有的真空等離子處理設(shè)備當(dāng)中，大多數(shù)只能處理單片材料。對于卷繞材料，更多的必須加工成單片后才能利用現(xiàn)有的等離子處理設(shè)備進(jìn)行處理。這不僅使得加工過程復(fù)雜，加工工序繁瑣，生產(chǎn)效率低下，而且也大大地增加了生產(chǎn)成本。當(dāng)前有極少部分能夠做到真空下自動(dòng)收放卷進(jìn)行等離子體表面處理，但其由于正負(fù)電極板為垂直間隔放置且間距較小，導(dǎo)致繞卷材料的走料非常困難，效率不高，而且容易對材料和設(shè)備造成污染。而且其進(jìn)氣均勻性和等離子體隔離性能也有較大缺陷，對卷繞材料的處理效果和設(shè)備本身的保護(hù)都有不利影響。
[0003]綜上可知，現(xiàn)有的真空等離子體表面處理設(shè)備，在實(shí)際使用上顯然存在不便與缺陷，所以有必要加以改進(jìn)。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]針對上述的缺陷，本實(shí)用新型的目的在于提供一種真空等離子體表面處理設(shè)備，采用自動(dòng)放卷收卷，在真空下自動(dòng)完成卷繞材料的等離子體表面處理工序，可大大提高生產(chǎn)效率。
[0005]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供一種真空等離子體表面處理設(shè)備，用于處理卷繞材料，其特征在于，所述處理設(shè)備包括放卷倉、收卷倉及連接在所述放卷倉和收卷倉之間的等離子體處理倉，其中:
[0006]所述放卷倉內(nèi)部設(shè)有放卷導(dǎo)輥和放卷張力輔助導(dǎo)輥，且所述放卷倉與等離子體處理倉連接的處設(shè)有用于將所述卷繞材料由所述放卷倉穿入到所述等離子體處理倉的開Π ；
[0007]所述等離子體處理倉安裝有支撐輔助導(dǎo)輥和上、下電極板，所述支撐輔助導(dǎo)棍用于支撐所述卷繞材料并防止所述材料垂落到所述上、下電極板，且所述支撐輔助導(dǎo)輥的上切面位于所述下電極板和上電極板的中心位置；
[0008]所述收卷倉內(nèi)部安裝有糾偏系統(tǒng)、收卷張力輔助導(dǎo)輥和收卷導(dǎo)輥。
[0009]根據(jù)本實(shí)用新型的真空等離子體表面處理設(shè)備，所述放卷導(dǎo)輥為兩端支撐，且所述放卷導(dǎo)輥的一端固定，另一端可以滑開并配有鎖緊裝置。
[0010]根據(jù)本實(shí)用新型的真空等離子體表面處理設(shè)備，所述放卷導(dǎo)輥后部通過磁粉離合器與帶有剎車裝置的驅(qū)動(dòng)電機(jī)連接。
[0011]根據(jù)本實(shí)用新型的真空等離子體表面處理設(shè)備，所述放卷張力輔助導(dǎo)輥為兩端支撐，且所述放卷張力輔助導(dǎo)輥安裝有用于檢測放卷側(cè)所述卷繞材料的張力的張力控制器。
[0012]根據(jù)本實(shí)用新型的真空等離子體表面處理設(shè)備，所述等離子體處理倉具有上門，所述下電極板通過絕緣部件連接到所述等離子體處理倉的內(nèi)下面，所述上電極板通過絕緣部件連接到所述等離子體處理倉的上門。
[0013]根據(jù)本實(shí)用新型的真空等離子體表面處理設(shè)備，所述糾偏系統(tǒng)包括導(dǎo)向系統(tǒng)和糾偏傳感器。
[0014]根據(jù)本實(shí)用新型的真空等離子體表面處理設(shè)備，所述糾偏傳感器為U型結(jié)構(gòu)，所述卷繞材料邊緣從所述U型糾偏傳感器的正中穿過。
[0015]根據(jù)本實(shí)用新型的真空等離子體表面處理設(shè)備，所述收卷導(dǎo)輥后部通過磁粉離合器與帶有剎車裝置的驅(qū)動(dòng)電機(jī)鏈接，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)可帶動(dòng)所述收卷導(dǎo)輥任意正反旋轉(zhuǎn)。
[0016]根據(jù)本實(shí)用新型的真空等離子體表面處理設(shè)備，所述收卷張力輔助導(dǎo)輥為兩端支撐，所述收卷張力輔助導(dǎo)輥裝有用于檢測收卷側(cè)所述卷繞材料的張力的張力控制器；
[0017]所述收卷導(dǎo)輥為兩端支撐，且所述收卷導(dǎo)輥的一端固定，另一端可以滑開并配有鎖緊裝置，且所述收卷導(dǎo)輥為氣漲軸結(jié)構(gòu)。
[0018]本實(shí)用新型通過設(shè)置放卷倉、收卷倉及等離子體處理倉對卷繞材料進(jìn)行處理，其中:放卷倉內(nèi)部設(shè)有放卷導(dǎo)輥和放卷張力輔助導(dǎo)輥，且放卷倉與等離子體處理倉連接的處設(shè)有開口，用于將卷繞材料由放卷倉穿入到等離子體處理倉；等離子體處理倉安裝有支撐輔助導(dǎo)輥和上、下電極板，支撐輔助導(dǎo)棍用于支撐所述卷繞材料并所述防止材料垂落到所述上、下電極板，且支撐輔助導(dǎo)輥的上切面位于下電極板和上電極板的中心位置；收卷倉內(nèi)部安裝有糾偏系統(tǒng)、收卷張力輔助導(dǎo)輥和收卷導(dǎo)輥，用于對發(fā)生偏離的所述卷繞材料的位置進(jìn)行引導(dǎo)糾正。本實(shí)用新型采用自動(dòng)放卷收卷，在真空下自動(dòng)完成卷繞材料的等離子體表面處理工序，大大提高了生產(chǎn)效率。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0019]圖1是本實(shí)用新型的真空等離子體表面處理設(shè)備第一結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖2是本實(shí)用新型的真空等離子體表面處理設(shè)備第二結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021]圖3是本實(shí)用新型的真空等離子體表面處理設(shè)備第三結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖4是本實(shí)用新型的真空等離子體表面處理設(shè)備第四結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0023]為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。
[0024]參見圖1?圖4，本實(shí)用新型提供了一種真空等離子體表面處理設(shè)備，其用于對卷繞材料的表面處理。該處理設(shè)備包括整體機(jī)架1、放卷倉2、收卷倉3及連接在所述放卷倉2和收卷倉3之間的等離子體處理倉4，其中:
[0025]所述放卷倉2內(nèi)部設(shè)有放卷導(dǎo)輥21和放卷張力輔助導(dǎo)輥22，且所述放卷倉2與等離子體處理倉4的連接處設(shè)有開口，用于將卷繞材料由放卷倉2穿入到所述等離子體處理倉4。[0026]所述等離子體處理倉4安裝有支撐輔助導(dǎo)輥41、上電極板43和下電極板42。所述支撐輔助導(dǎo)棍41用于支撐所述卷繞材料并防止材料垂落到所述上、下電極板，以更好的保護(hù)材料和設(shè)備本身，所述支撐輔助導(dǎo)輥41的上切面位于所述下電極板42和上電極板43的中心位置。
[0027]所述收卷倉3內(nèi)部安裝有糾偏系統(tǒng)31、收卷張力輔助導(dǎo)輥32和收卷導(dǎo)輥33。糾偏系統(tǒng)31用于對發(fā)生偏離的所述卷繞材料的位置進(jìn)行引導(dǎo)糾正。
[0028]本實(shí)用新型處理的卷繞材料最大寬度為500mm，對卷繞材料的處理速度為
0.l_3m/min，并且所有腔體和電極板包括但不限于由鋁合金材料構(gòu)成。本實(shí)用新型極板采用單向連續(xù)放置，且上極板能夠移動(dòng)或打開，工人走料時(shí)只需將卷繞材料單向拉過即可，避免材料污染，增強(qiáng)了實(shí)用性。
[0029]需要說明的，圖示中的等離子體處理倉4在此處只示出兩個(gè)，但本實(shí)用新型可以根據(jù)實(shí)際工作需要，可對等離子體處理倉相應(yīng)增加或減少處理，但最少需保留一個(gè)。
[0030]本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，放卷倉2有兩個(gè)門，分別位于頂部和遠(yuǎn)離等離子體處理倉4的一側(cè)，側(cè)門用于將卷繞材料裝卸到放卷導(dǎo)輥，頂門用于方便工人布料、走料。
[0031]放卷導(dǎo)輥21為兩端支撐，一端固定，另一端可以滑開并配有鎖緊裝置，鎖緊裝置放開時(shí)，放卷導(dǎo)輥21以固定端為圓心，可以橫向旋轉(zhuǎn)，方便裝卸卷材。優(yōu)選的，所述放卷導(dǎo)輥21為氣漲軸結(jié)構(gòu)，用于鎖緊卷材卷心，防止其隨意滑動(dòng)。并且放卷導(dǎo)輥21后部通過磁粉離合器與帶有剎車裝置的驅(qū)動(dòng)電機(jī)鏈接，可以通過電機(jī)帶動(dòng)導(dǎo)輥任意正反旋轉(zhuǎn)，借此實(shí)現(xiàn)收放卷的快速啟停。
[0032]放卷張力輔助導(dǎo)輥22為兩端支撐，其中一端裝有張力控制器，用于檢測放卷側(cè)卷繞材料的張力，保證卷繞材料的張緊力度，防止材料拉傷或拖墜，起到保護(hù)材料的作用。
[0033]等離子體處理倉4的頂部為可開門設(shè)計(jì)，上門44可以安裝合頁后向后上方打開，也可以垂直提升。同時(shí)，如果等離子體處理倉4的上門44較重，本實(shí)用新型可以加裝液壓桿或氣缸來輔助開關(guān)和提升。進(jìn)一步的，等離子體處理倉4兩端各有細(xì)長開口，用于卷繞材料穿過。
[0034]優(yōu)選的，每個(gè)等離子體倉4內(nèi)支撐輔助導(dǎo)輥41的數(shù)量為三個(gè)或四個(gè)，起到支撐卷繞材料，并防止材料垂落到極板的作用。
[0035]優(yōu)選的，支撐輔助導(dǎo)輥41上切面位于下電極板42和上電極板43的中心位置。
[0036]另外，一個(gè)等離子體處理倉4內(nèi)有下電極板42和上電極板43，分別連接到等離子電源的高低電平。且下電極板42通過絕緣部件連接到等離子體處理倉4的內(nèi)下面，上電極板43通過絕緣部件連接到等離子體處理倉4的上門44。當(dāng)上門44打開時(shí)，上電極板43隨上門44 一起提升，將支撐輔助導(dǎo)輥41完全露出，方便工人布料、走料，同時(shí)也便于維修、安裝。
[0037]本實(shí)用新型的實(shí)施例中，收卷倉3有兩個(gè)門，分別位于頂部和遠(yuǎn)離等離子體處理倉4的一側(cè)。側(cè)門用于將卷繞材料裝卸到放卷導(dǎo)輥，頂門用于方便工人布料、走料。
[0038]收卷倉3在與等離子體處理倉4連接的部分有小開口，用于將卷繞材料穿入到等離子體處理倉4。
[0039]收卷倉3的糾偏系統(tǒng)31包括導(dǎo)向系統(tǒng)和糾偏傳感器。糾偏傳感器為U型結(jié)構(gòu)，卷繞材料邊緣從此U型正中穿過,糾偏傳感器通過感應(yīng)紅外或超聲波等技術(shù)來判斷卷繞材料的位置，借此控制導(dǎo)向系統(tǒng)偏轉(zhuǎn)方向，將卷繞材料引導(dǎo)回到既定位置，其控制精度可達(dá)土 Imnin
[0040]收卷張力輔助導(dǎo)輥32為兩端支撐，其中一段裝有張力控制器，用于檢測收卷側(cè)卷繞材料的張力，保證卷繞材料的張緊力度，防止材料拉傷或拖墜，起到保護(hù)材料的作用。
[0041]收卷導(dǎo)輥33為兩端支撐，一端固定，另一端可以滑開并配有鎖緊裝置，鎖緊裝置放開時(shí)，導(dǎo)輥以固定端為圓心，可以橫向旋轉(zhuǎn)，方便與裝卸卷材。收卷導(dǎo)輥33可以為氣漲軸結(jié)構(gòu)，可以鎖緊卷材卷心，防止其隨意滑動(dòng)。另外，收卷導(dǎo)輥33后部通過磁粉離合器與帶有剎車裝置的驅(qū)動(dòng)電機(jī)鏈接，可以通過電機(jī)帶動(dòng)導(dǎo)輥任意正反旋轉(zhuǎn)，借此實(shí)現(xiàn)收放卷的快速啟停。
[0042]綜上所述，本實(shí)用新型通過設(shè)置放卷倉、收卷倉及等離子體處理倉對卷繞材料進(jìn)行處理，其中:放卷倉內(nèi)部設(shè)有放卷導(dǎo)輥和放卷張力輔助導(dǎo)輥，且放卷倉與等離子體處理倉連接的處設(shè)有開口，用于將卷繞材料由放卷倉穿入到等離子體處理倉；等離子體處理倉安裝有支撐輔助導(dǎo)輥和上、下電極板，支撐輔助導(dǎo)棍用于支撐所述卷繞材料并所述防止材料垂落到所述上、下電極板，且支撐輔助導(dǎo)輥的上切面位于下電極板和上電極板的中心位置；收卷倉內(nèi)部安裝有糾偏系統(tǒng)、收卷張力輔助導(dǎo)輥和收卷導(dǎo)輥，用于對發(fā)生偏離的所述卷繞材料的位置進(jìn)行引導(dǎo)糾正。本實(shí)用新型采用自動(dòng)放卷收卷，在真空下自動(dòng)完成卷繞材料的等離子體表面處理工序，大大提高了生產(chǎn)效率。
[0043]當(dāng)然，本實(shí)用新型還可有其它多種實(shí)施例，在不背離本實(shí)用新型精神及其實(shí)質(zhì)的情況下，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員當(dāng)可根據(jù)本實(shí)用新型作出各種相應(yīng)的改變和變形，但這些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本實(shí)用新型所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種真空等離子體表面處理設(shè)備，用于處理卷繞材料，其特征在于，所述處理設(shè)備包括放卷倉、收卷倉及連接在所述放卷倉和收卷倉之間的等離子體處理倉，其中: 所述放卷倉內(nèi)部設(shè)有放卷導(dǎo)輥和放卷張力輔助導(dǎo)輥，且所述放卷倉與等離子體處理倉連接的處設(shè)有用于將所述卷繞材料由所述放卷倉穿入到所述等離子體處理倉的開口； 所述等離子體處理倉安裝有支撐輔助導(dǎo)輥和上、下電極板，所述支撐輔助導(dǎo)棍用于支撐所述卷繞材料并防止所述材料垂落到所述上、下電極板，且所述支撐輔助導(dǎo)輥的上切面位于所述下電極板和上電極板的中心位置； 所述收卷倉內(nèi)部安裝有糾偏系統(tǒng)、收卷張力輔助導(dǎo)輥和收卷導(dǎo)輥。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空等離子體表面處理設(shè)備，其特征在于，所述放卷導(dǎo)輥為兩端支撐，且所述放卷導(dǎo)輥的一端固定，另一端可以滑開并配有鎖緊裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空等離子體表面處理設(shè)備，其特征在于，所述放卷導(dǎo)輥后部通過磁粉離合器與帶有剎車裝置的驅(qū)動(dòng)電機(jī)連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空等離子體表面處理設(shè)備，其特征在于，所述放卷張力輔助導(dǎo)輥為兩端支撐，且所述放卷張力輔助導(dǎo)輥安裝有用于檢測放卷側(cè)所述卷繞材料的張力的張力控制器。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空等離子體表面處理設(shè)備，其特征在于，所述等離子體處理倉具有上門，所述下電極板通過絕緣部件連接到所述等離子體處理倉的內(nèi)下面，所述上電極板通過絕緣部件連接到所述等離子體處理倉的上門。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空等離子體表面處理設(shè)備，其特征在于，所述糾偏系統(tǒng)包括導(dǎo)向系統(tǒng)和糾偏傳感器。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空等離子體表面處理設(shè)備，其特征在于，所述糾偏傳感器為U型結(jié)構(gòu)，所述卷繞材料邊緣從所述U型糾偏傳感器的正中穿過。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的真空等離子體表面處理設(shè)備，其特征在于，所述收卷導(dǎo)輥后部通過磁粉離合器與帶有剎車裝置的驅(qū)動(dòng)電機(jī)連接，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)可帶動(dòng)所述收卷導(dǎo)輥任意正反旋轉(zhuǎn)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的真空等離子體表面處理設(shè)備，其特征在于，所述收卷張力輔助導(dǎo)輥為兩端支撐，所述收卷張力輔助導(dǎo)輥裝有用于檢測收卷側(cè)所述卷繞材料的張力的張力控制器； 所述收卷導(dǎo)輥為兩端支撐，且所述收卷導(dǎo)輥的一端固定，另一端可以滑開并配有鎖緊裝置，且所述收卷導(dǎo)輥為氣漲軸結(jié)構(gòu)。
【文檔編號】B65H37/00GK203667694SQ201420044856
【公開日】2014年6月25日 申請日期:2014年1月21日 優(yōu)先權(quán)日:2014年1月21日
【發(fā)明者】劉善雙, 畢學(xué)謙, 劉鎮(zhèn)偉 申請人:深圳市奧坤鑫科技有限公司